本实用新型涉及光学设备，特别是一种低波纹滤光片。
背景技术：
光纤通信的热点必然是光纤到户（FTTH）和FTTP，这是大家引颈期盼的。FTTH满足了数据、语音、CATV等综合业务对高带宽的需求。通常采用1310/1490/1550nm三波长单纤三向传输技术．这种传输技术是将1550nm窗口用于下行模拟CATV传输，将无制冷1310nm半导体激光二极管光源用于众多的终端用户的上行传输，下行的数字传改用1490nm窗口，通过类WDM的方式将此三方向传输复用到一根光纤中，即三端口高隔离度WDM的技术。但FTTH要得到普及，关键是降低接入成本。为进一步降低接入成本，采用单纤三向传输技术来实现这种综合业务的传输已经逐渐成为FTTH技术发展的一个主流，这种传输技术采用了点对多点传输方式，节省设备投资，局端设备和光纤用量大大减少，系统可靠性较高。
目前，采用普通CWDM滤光片（Filter）的结构来生产三端口高隔离度WDM器件，难以实现高隔离度，因为现有的镀膜技术还不够完善，滤波片单次透射隔离度可以达到-45dB以上，但单次反射隔离一般只能做到-15dB，故需要对滤光片的高反膜的层数和厚度进行合理设计。
技术实现要素：
本实用新型的目的是克服现有技术中的不足，提供一种高隔离度的低波纹滤光片，该滤光片的反射隔离度大于-20dB。
为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：
一种低波纹滤光片，它是由玻璃基板、高反膜和增透膜构成，高反膜设在玻璃基板的一侧表面，增透膜设在玻璃基板的另一侧表面；所述高反膜和增透膜都采用多层结构，都是由多个五氧化二钽反射介质层和多个二氧化硅反射介质层交替叠放而成,所述高反膜是由44个五氧化二钽反射介质层和44个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，以此类推，第88层为二氧化硅反射介质层；所述高反膜中，第1层的厚度为357.333um、第2层的厚度为142.3195um 、第3层的厚度为705.6885um、第4层的厚度为193.0970um、第5层的厚度为387.9135um、第6层的厚度为183.0175um、第7层的厚度为410.0675um、第8层的厚度为200.1745um、第9层的厚度为394.9815um、第10层的厚度为199.9750um、第11层的厚度为400.2635um 、第12层的厚度为220.6660um、第13层的厚度为382.2610um、第14层的厚度为228.6270um、第15层的厚度为385.2060um、第16层的厚度为245.2995um、第17层的厚度为369.4645um、第18层的厚度为251.9020um、第19层的厚度为375.9150um 、第20层的厚度为257.9155um、第21层的厚度为364.1540um、第22层的厚度为258.9795um、第23层的厚度为374.1670um、第24层的厚度为259.7490um、第25层的厚度为363.4605um、第26层的厚度为258.8465um、第27层的厚度为375.269um、第28层的厚度为258.7800um、第29层的厚度为363.6505um、第30层的厚度为257.7445um、第31层的厚度为376.3520um 、第32层的厚度为258.3620um、第33层的厚度为363.1565um、第34层的厚度为258.1625um、第35层的厚度为376.6845um、第36层的厚度为259.4070um、第37层的厚度为362.0925um、第38层的厚度为259.2075um、第39层的厚度为377.2450um、第40层的厚度为258.7895um、第41层的厚度为361.1615um、第42层的厚度为261.2500um、第43层的厚度为376.8935um、第44层的厚度为260.2145um、第45层的厚度为361.152um、第46层的厚度为258.3145um、第47层的厚度为378.8790um、第48层的厚度为257.2030um、第49层的厚度为362.4725um、第50层的厚度为255.5595um、第51层的厚度为381.0545um、第52层的厚度为253.1655um、第53层的厚度为364.5625um、第54层的厚度为251.1135um、第55层的厚度为383.6480um、第56层的厚度为248.5580um、第57层的厚度为366.7660um、第58层的厚度为247.2090um、第59层的厚度为385.2345um、第60层的厚度为247.1045um、第61层的厚度为367.2415um、第62层的厚度为246.0120um、第63层的厚度为385.3485um、第64层的厚度为248.1970um、第65层的厚度为365.4555um、第66层的厚度为248.7385um、第67层的厚度为384.0850um、第68层的厚度为250.9520um、第69层的厚度为363.8120um、第70层的厚度为248.2065um、第71层的厚度为385.5670um、第72层的厚度为248.3490um、第73层的厚度为365.0280um、第74层的厚度为239.9130um、第75层的厚度为394.1360um、第76层的厚度为233.434um、第77层的厚度为386.7545um、第78层的厚度为201.2670um、第79层的厚度为118.7975um、第80层的厚度为164.4260um、第81层的厚度为407.1130um、第82层的厚度为206.7770um、第83层的厚度为414.9125um、第84层的厚度为175.4935um、第85层的厚度为385.4530um、第86层的厚度为195.3960um、第87层的厚度为402.1635um、第88层的厚度为301.6155um。
进一步地，所述增透膜是由2个五氧化二钽反射介质层和2个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，第4层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第3层的表面。
所述增透膜的厚度为588.41nm。
进一步地，所述增透膜中，第1层的厚度为56.47nm，第2层的厚度为74.04nm、第3层的厚度为201.86nm、第四层的厚度为256.04nm。
本实用新型的有益效果：由于采用上述的结构形式，对滤光片的高反膜的层数和厚度进行合理设计， 具有高隔离度的特点，能使反射隔离度大于-20dB。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明：
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1、玻璃基板； 2、高反膜； 3、增透膜。
具体实施方式
如图1所示，一种低波纹滤光片，它是由玻璃基板1、高反膜2和增透膜3构成，高反膜2设在玻璃基板1的一侧表面，增透膜3设在玻璃基板1的另一侧表面；所述高反膜2和增透膜3都采用多层结构，都是由多个五氧化二钽反射介质层和多个二氧化硅反射介质层交替叠放而成。所述高反膜是由44个五氧化二钽反射介质层和44个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，以此类推，第88层为二氧化硅反射介质层。
具体来说，所述高反膜中，第1层的厚度为357.333um、第2层的厚度为142.3195um、第3层的厚度为705.6885um、第4层的厚度为193.0970um、第5层的厚度为387.9135um、第6层的厚度为183.0175um、第7层的厚度为410.0675um、第8层的厚度为200.1745um、第9层的厚度为394.9815um、第10层的厚度为199.9750um、第11层的厚度为400.2635um、第12层的厚度为220.6660um、第13层的厚度为382.2610um、第14层的厚度为228.6270um、第15层的厚度为385.2060um、第16层的厚度为245.2995um、第17层的厚度为369.4645um、第18层的厚度为251.9020um、第19层的厚度为375.9150um、第20层的厚度为257.9155um、第21层的厚度为364.1540um、第22层的厚度为258.9795um、第23层的厚度为374.1670um 、第24层的厚度为259.7490um、第25层的厚度为363.4605um、第26层的厚度为258.8465um、第27层的厚度为375.269um、第28层的厚度为258.7800um、第29层的厚度为363.6505um、第30层的厚度为257.7445um、第31层的厚度为376.3520um、第32层的厚度为258.3620um、第33层的厚度为363.1565um、第34层的厚度为258.1625um、第35层的厚度为376.6845um、第36层的厚度为259.4070um、第37层的厚度为362.0925um、第38层的厚度为259.2075um、第39层的厚度为377.2450um、第40层的厚度为258.7895um、第41层的厚度为361.1615um、第42层的厚度为261.2500um、第43层的厚度为376.8935um、第44层的厚度为260.2145um、第45层的厚度为361.152um、第46层的厚度为258.3145um、第47层的厚度为378.8790um、第48层的厚度为257.2030um、第49层的厚度为362.4725um、第50层的厚度为255.5595um、第51层的厚度为381.0545um、第52层的厚度为253.1655um、第53层的厚度为364.5625um、第54层的厚度为251.1135um、第55层的厚度为383.6480um、第56层的厚度为248.5580um、第57层的厚度为366.7660um、第58层的厚度为247.2090um、第59层的厚度为385.2345um、第60层的厚度为247.1045um、第61层的厚度为367.2415um、第62层的厚度为246.0120um、第63层的厚度为385.3485um、第64层的厚度为248.1970um、第65层的厚度为365.4555um、第66层的厚度为248.7385um、第67层的厚度为384.0850um、第68层的厚度为250.9520um、第69层的厚度为363.8120um、第70层的厚度为248.2065um、第71层的厚度为385.5670um、第72层的厚度为248.3490um、第73层的厚度为365.0280um、第74层的厚度为239.9130um、第75层的厚度为394.1360um、第76层的厚度为233.434um、第77层的厚度为386.7545um、第78层的厚度为201.2670um、第79层的厚度为118.7975um、第80层的厚度为164.4260um、第81层的厚度为407.1130um、第82层的厚度为206.7770um、第83层的厚度为414.9125um、第84层的厚度为175.4935um、第85层的厚度为385.4530um、第86层的厚度为195.3960um、第87层的厚度为402.1635um、第88层的厚度为301.6155um。
所述增透膜是由2个五氧化二钽反射介质层和2个二氧化硅反射介质层构成，第1层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在玻璃基板的表面，第2层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第1层的表面，第3层为五氧化二钽反射介质层，紧贴在第2层的表面，第4层为二氧化硅反射介质层，紧贴在第3层的表面。所述增透膜的总厚度为588.41nm，其中，第1层的厚度为56.47nm，第2层的厚度为74.04nm、第3层的厚度为201.86nm、第四层的厚度为256.04nm。
以上所述是本实用新型的优选实施方式而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，都不脱离本实用新型技术方案的保护范围。