技术特征：
技术总结
本发明实施例公开了一种通过光罩直接拼接形成的COA基板，包括：阵列基板；金属线，其形成在所述阵列基板上；第一色阻层，其形成在所述阵列基板上并部分位于所述金属线上；第二色阻层，其形成在所述阵列基板上并部分位于所述金属线上，所述第一色阻层和所述第二色阻层至少部分重叠设置；其中，所述金属线包括第一金属线，所述第一金属线与光罩直接拼接处对应，所述第一金属线的宽度比对应的所述第一色阻层和所述第二色阻层的第一重叠区域宽度大2μm‑6μm以使所述第一重叠区域位于所述第一金属线的范围内。本发明实施例还公开了一种显示面板。采用本发明，具有可改善由于光罩直接拼接技术过程中光罩偏移造成的显示不良的优点。
技术研发人员：袁继旺
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2017.06.20
技术公布日：2017.10.13