本实用新型涉及一种光学领域，更具体的说，涉及一种荧光集成滤光片。
背景技术：
近年来，随着光学技术的不断发展，探测器件向微型化和集成化方向发展，集成滤光片是配合CCD使用的核心光学部件，应用在微型实时多光谱成像技术中。荧光滤光片在所需波长点有高透过率，在其他波长处有宽截止带，截止深度达到OD6以上。与传统滤光片相比，集成滤光片的通道数目多于1个，如果其通道数为N，那么携带的信息量就是单带通滤光片的N倍，对于整机而言，运载同样多的信息量所需要的滤光片数量是传统滤光片的1/N。在运载同样的信息量时，采用多通道薄膜滤光片，可以简化整机的光学系统，减轻整机的载荷，在光学领域具有一定的应用前景。该实用新型保持荧光滤光片特性的前提下，实现多通道集成化。
技术实现要素：
本实用新型要解决的问题是提供一种荧光集成滤光片，实现四个通道透过率＞70％，在通道其他波段深截止即光密度值OD6以上。
为了解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案：一种荧光集成滤光片，包括透光基片，在所述透光基片的一侧表面镀制若干微滤单元，所述微滤单元按周期方式有序排列，每个所述微滤单元包括四个由五氧化二钽和二氧化硅两种高低不同折射率的镀膜材料形成的不同光学特性的滤光膜通道，所述滤光膜通道处于同一平面排列成正方形，所述滤光膜通道间镀制铬膜层。
优选的是，所述滤光膜通道为的尺寸为52μm×52μm的正方形，所述滤光膜通道间镀制的所述铬膜层的宽度为10μm，厚度为3μm。
本实用新型的有益效果是：因荧光集成滤光片设置了四个不同膜系组成的滤光膜通道，实现了四个通道透过率＞70％，在通道其他波段深截止即光密度值OD6以上，在运载同样的信息量时，可以简化整机的光学系统，减轻整机的载荷。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种荧光集成滤光片的结构示意图。
图2为本实用新型一种荧光集成滤光片中微滤单元的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明：
如图1所示，本实用新型提供了一种荧光集成滤光片，包括透光基片1，在透光基片1的一侧表面镀制若干微滤单元2，微滤单元2按周期方式有序排列，每个微滤单元2包括四个由五氧化二钽和二氧化硅两种高低不同折射率的镀膜材料形成的不同光学特性的滤光膜通道21、22、23、24，滤光膜通道21、22、23、24处于同一平面排列成正方形，滤光膜通道间镀制铬膜层3。
透光基片1由直径为50mm，厚度为1mm的圆形JGS1石英玻璃制成。
微滤单元2为52μm×52μm的方形块。
如图2所示，每个微滤单元2中包含四个滤光膜通道21、22、23、24，分别镀制有不同光学特性的带通或截止膜系，其几何形状和尺寸都一样，优选的是正方形，每个通道只允许相应波段的光透过。
本实施例中镀制带通或截止膜系的滤光膜通道21、22、23、24均是由F-P法布里-珀罗干涉技术构建的滤光膜。
采用F-P法布里-珀罗干涉技术构建的滤光膜中心波长分别为410、470、525和620，透过率T＞70％。
410像素31在波长范围450-640nm的光密度值为OD6。
470像素32在波长范围390-430nm&510-640nm的光密度值为OD6。
525像素33在波长范围390nm-485nm&555nm-640nm的光密度值为OD6。
620像素34在波长范围390-585nm的光密度值为OD6。
各滤光膜通道之间以铬膜层3作为间隔，铬膜层3采用离子辅助，电子枪蒸发的物理气相沉积技术镀制，镀制的厚度由晶控片监控，厚度为3μm，宽度为10μm。
因各滤光膜通道间镀制宽度为10μm的铬膜层3，避免了不同滤光膜通道之间缝隙的透光及滤光膜通道之间的交叉串扰问题。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。