曝光装置和曝光方法与流程

本发明涉及曝光装置和曝光方法，更详细而言，涉及对具有多个曝光区域的基板使用比基板更小的掩模来曝光的曝光装置和曝光方法。

背景技术：

以往，已知如下的分割逐次曝光装置：用掩模保持部来保持比作为被曝光材料的基板小的掩模，并且用基板保持部来保持基板，在将掩模与基板以预定的间隙对置配置的状态下，边使基板相对于掩模逐步移动，边在每个步骤从曝光用照明装置向掩模照射曝光用的光，将掩模的图案依次曝光转印到基板上。

另外，公开了例如形成彩色滤光片的着色层的扫描曝光装置(例如参照专利文献1)：能够边连续搬运基板，边使用在与基板搬运方向正交的方向上并列的小型的光掩模，高精度地进行曝光中的基板与光掩模的位置对齐。在该情况下，拍摄装置对形成于基板上的曝光区域内的遮光层进行拍摄并求出遮光层相对于基板搬运方向的倾角，基于此使光掩模旋转、移动从而校正光掩模相对于遮光层的倾斜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-123050号公报

技术实现要素：

本发明欲解决的问题

可是，根据以往的分割逐次曝光装置，如图9所示，使保持基板的基板保持部移动至预定的曝光位置并停止后(ta1)，用对准摄像机对掩模和基板的标记进行拍摄(ta2)，接着进行对准校正(ta3)以边使掩模驱动，边使掩模和基板的标记对齐。并且，在确认了校正结果后(ta4)，使对准摄像机从曝光区域退开(ta5)，经由掩模对基板照射曝光光束并将掩模的图案曝光转印(ta6)。此外，在图9中，vw表示基板保持部的移动速度，vm表示掩模保持部的移动速度，vc表示对准摄像机的退开移动速度。这样的分割逐次曝光装置存在的问题是：由于在每次曝光时重复进行基板保持部、掩模保持部、对准摄像机的移动与停止，因此，1次曝光所需要的时间较长，在对1片基板进行多次曝光的情况下，随着曝光次数增加，节拍时间会增加从而生产效率会下降。

另外，专利文献1中的这样的扫描曝光装置由于专用于在基板的搬运方向上的图案一样的线状的曝光，因此，不是应对分割逐次曝光装置所使用的图案的曝光的装置。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种曝光装置和曝光方法，能够缩短节拍时间，对具有多个曝光区域的基板高效地进行曝光转印。

用于解决问题的方案

本发明的上述目的由下述的构成实现。

(1)一种曝光装置，其特征在于，包括：

基板保持部，所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模；

基板搬运部，所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板；

对准检测系统，所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记；

掩模驱动部，所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准；

掩模搬运部，所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在所述预定的方向搬运所述掩模；以及

照明装置，所述照明装置经由所述掩模在所述基板的所述曝光区域照射曝光光束。

(2)如(1)所述的曝光装置，其特征在于，

还包括驱动所述对准检测系统的检测系统驱动部，

所述对准检测系统和所述检测系统驱动部配设在所述掩模保持部，被所述掩模搬运部沿着所述预定的方向搬运。

(3)如(1)或(2)所述的曝光装置，其特征在于，

还包括照明装置搬运部，所述照明装置搬运部能在所述预定的方向搬运所述照明装置。

(4)如(1)或(2)所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明装置具有至少比所述基板的曝光区域在所述预定的方向更长的有效照射区域。

(5)一种曝光方法，使用曝光装置，所述曝光装置包括：

基板保持部，所述基板保持部保持具有多个曝光区域的作为被曝光材料的基板；

掩模保持部，所述掩模保持部保持形成有具有与所述曝光区域大致相等大小的图案的掩模；

基板搬运部，所述基板搬运部驱动所述基板保持部以能在预定的方向搬运所述基板；

对准检测系统，所述对准检测系统检测设置在所述掩模和所述基板的对准用标记；

掩模驱动部，所述掩模驱动部驱动所述掩模保持部以能调整所述基板与所述掩模的对准；

掩模搬运部，所述掩模搬运部驱动载放所述掩模驱动部的驱动部载放台以能在预定的方向搬运所述掩模；以及

照明装置，所述照明装置经由所述掩模在所述基板的所述曝光区域照射曝光光束，

所述曝光方法的特征在于，包括：

利用所述基板搬运部，来将所述基板在预定的方向搬运的工序；

利用所述掩模搬运部，来使所述掩模在所述预定的方向移动并与所述基板同步的工序；

利用所述对准检测系统和所述掩模驱动部，来对准所述掩模与所述基板的工序；以及

从所述照明装置照射曝光光束，将所述掩模的图案曝光转印到所述基板的所述曝光区域的工序，

在所述基板与所述掩模同步的状态下，至少进行所述对准工序。

(6)如(5)所述的曝光方法，其特征在于，

在所述基板与所述掩模同步的状态下，还进行所述曝光工序。

(7)如(5)或(6)所述的曝光方法，其特征在于，

还包括驱动所述对准检测系统的检测系统驱动部，

在所述对准工序后，还包括在所述基板与所述掩模同步的状态下，利用所述检测系统驱动部使所述对准检测系统从所述照明装置的有效照射区域退开的工序。

(8)如(5)～(7)中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

在所述照射工序中，使所述照明装置与所述基板和所述掩模同步并在所述预定的方向移动。

(9)如(5)～(8)中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

在所述曝光工序中，在所述基板与所述掩模同步的状态下，所述基板与所述掩模以恒定速度被搬运、或者被减速搬运。

(10)如(5)～(9)中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述掩模在向与所述预定的方向相反方向移动后，在所述预定的方向移动并与所述基板同步。

(11)如(5)～(9)中的任一项所述的曝光方法，其特征在于，

所述掩模在以比搬运所述基板的速度慢的速度在所述预定的方向移动后或者从停止的状态起向所述预定的方向加速移动并与所述基板同步。

(12)如(11)所述的曝光方法，其特征在于，

在曝光了所述曝光区域后，直到将在所述预定的方向相邻的所述曝光区域曝光的期间，所述基板以恒定的速度被搬运。

发明的效果

根据本发明的曝光装置，由于包括：保持具有多个曝光区域的基板的基板保持部；保持形成有具有与曝光区域大致相等的大小的图案的掩模的掩模保持部；能在预定的方向搬运基板的基板搬运部；检测设置在掩模和基板的对准用标记的对准检测系统；能调整基板与掩模的对准的掩模驱动部；能在预定的方向搬运掩模的掩模搬运部；以及经由掩模在曝光区域照射曝光光束的照明装置，因此，能边将基板在预定的方向搬运，边至少能够进行每个曝光区域的对准调整，从而能够缩短节拍时间，对被搬运的基板高效地曝光掩模的图案。

另外，根据本发明的曝光方法，由于包括：利用基板搬运部将基板在预定的方向搬运的工序；利用掩模搬运部使掩模与基板同步移动的工序；将掩模与基板对准的工序；以及从照明装置照射曝光光束，将掩模的图案曝光转印到基板的曝光区域的工序，由于在基板与掩模同步的状态下，至少进行对准工序，因此，能边将基板在预定的方向搬运，边至少能够进行每个曝光区域的对准调整，从而能够缩短节拍时间，对被搬运的基板高效地曝光掩模的图案。

附图说明

图1是本发明的第1实施方式所涉及的曝光装置的主视图。

图2是图1所示的曝光装置的右侧视图。

图3是图1所示的曝光装置的后视图。

图4是示出在第1曝光区域曝光出掩模的图案的顺序的说明图。

图5是示出接着第1曝光区域的曝光，在第2曝光区域曝光出掩模的图案的顺序的说明图。

图6是图4和图5的曝光工序的说明图。

图7是示出接着第1曝光区域的曝光，在第2曝光区域曝光出掩模的图案的其他顺序的说明图。

图8是示出在本发明的第2实施方式所涉及的曝光装置中，利用具有比基板的曝光区域长的有效照射区域的照明装置来曝光掩模的图案的顺序的说明图。

图9是示出以往的曝光装置的曝光工序的说明图。

标记的说明

1：掩模保持部

2：基板保持部

3：照明装置

10：基板搬运部

40：掩模搬运部

41：驱动部载放台

50：掩模驱动部

59：检测系统驱动部

60：对准检测系统

67：进给丝杠机构(照明装置搬运部)

la：有效照射区域

e、e1-e6：曝光区域

m：掩模

pe：曝光装置

w：基板(被曝光材料)

具体实施方式

下面，基于附图来详细说明本发明的各实施方式所涉及的曝光装置和曝光方法。此外，在以下的说明中，曝光装置的x方向、y方向和z方向根据的是附图所示的方向。

(第1实施方式)

第1实施方式的曝光装置pe如图1～图3所示，使用比作为被曝光材料的基板w小的掩模m，用掩模保持部1来保持掩模m，并且用基板保持部2来保持基板w，从照明装置3将图案曝光用的光经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w，从而将掩模m的图案曝光转印到基板w上。

基板w具有与掩模m的图案大小近似相同的多个曝光区域e(在本实施方式态中如图4所示，是2行3列的e1～e6这6个曝光区域)并形成为近似矩形。而且，3列曝光区域e1～e3、e4～e6在预定方向(在如图所示的实施方式中，为x方向或-x方向)并列地保持在基板保持部2上。

能将被基板保持部2保持的基板w在水平面内的x方向、与x方向正交的y方向以及与x方向和y方向正交的z方向上搬运的基板搬运部10包括x轴进给台11、y轴进给台12和z轴进给台13。

详细而言，在由防震腿或者空气悬架5设置在地基g的底座4上，配置有被上下驱动机构14支承的z轴进给台13。上下驱动机构14包括分别具有倾斜面14a的一对驱动块14b、14c，一对驱动块14b、14c重合配置为其倾斜面14a彼此滑动。而且，利用被马达15驱动的未图示的进给丝杠机构来使任意一个驱动块14b、14c移动，从而对z轴进给台13进行上下驱动。

该上下驱动机构14在z轴进给台13的y轴方向的一端侧(图2的前端)设置1台，在y轴方向的另一端侧，且x方向两侧(图1的左右端)设置2台，合计设置3台，分别被独立地驱动控制。由此，上下驱动机构14基于未图示的激光传感器所得到的基板w的上表面位置的测量结果，来独立地对高度进行微调，从而调整基板保持部2的高度和倾角(倾斜度)。

在z轴进给台13上设置有使y轴进给台12在y方向移动的y轴进给机构16。y轴进给机构16包括：在z轴进给台13上沿y轴方向配置的多个(在如图所示的实施方式中为4个)导轨17；以及在y轴进给台12的下表面固定的滑动件18，在各导轨17架设有滑动件18。由此，y轴进给台12利用被y轴驱动马达19驱动的进给丝杠机构20，而能够沿着导轨17在y轴方向往返移动。

另外，在y轴进给台12上设置有使x轴进给台11在x方向移动的x轴进给机构30。x轴进给机构30包括：在y轴进给台12上配置在x轴方向的多个(在如图所示的实施方式中为2个)导轨31；以及固定在x轴进给台11的下表面的滑动件32，在各导轨31架设有滑动件32。

另外，在x轴进给台11与y轴进给台12之间配设有沿x轴方向延伸的线性马达33。线性马达33包括：在x轴进给台11的下表面固定的动子34；以及与动子34对置并固定在y轴进给台12上，且沿x轴方向延伸的一对定子35、35。由此，x轴进给台11的动子34被定子35的磁场在x轴方向驱动，并被导轨31引导且能在x轴方向往返移动。此外，x轴进给台11的x轴方向的能移动距离设定得比具有多个曝光区域e的基板w的x轴方向长度长，能够连续搬运基板w。

在x轴进给台11上固定有用工件卡盘等将基板w真空抽吸并保持的基板保持部2。由此，基板w能够在xyz方向移动。特别是，能够在x方向连续搬运。

另外，驱动部载放台41以能经由掩模搬运部40在x方向搬运的方式配置于在从底座4立起设置的一对腿部4a间架设并固定的掩模基座6。在驱动部载放台41上配设有将掩模保持部1在xy方向和θ方向驱动并调整基板w与掩模m的对准的掩模驱动部50。

掩模搬运部40包括：在掩模基座6上沿x轴方向配置的多个(在如图所示的实施方式中为2个)导轨42；以及在驱动部载放台41的下表面固定的滑动件43，在各导轨42跨设有滑动件43。

另外，在掩模基座6与驱动部载放台41之间配设有沿x方向延伸的线性马达45。线性马达45包括：在驱动部载放台41的下表面固定的动子46；以及与动子46对置，且固定在掩模基座6上并沿x方向延伸的一对定子47、47。由此，驱动部载放台41的动子46被定子47的磁场在x方向驱动，被导轨42引导且能在x轴方向往返移动。

掩模驱动部50包括：固定在驱动部载放台41上的多个马达48；以及被该马达48驱动，沿着x、y方向配设的多个进给丝杠机构(未图示)。通过独立控制各马达48，将掩模保持部1在x、y方向驱动，并且使掩膜保持部在θ方向旋转从而调整基板w与掩模m的对准。驱动部载放台41与掩模保持部1被配置在这两者之间的轴承39能相对水平移动地支承。

由此，被掩模保持部1保持的掩模m能与驱动部载放台41一起在x轴方向往返移动，且被掩模驱动部50在x、y、θ方向驱动，从而能够进行基板w与掩模m的对准调整。

另外，将掩模m的图案缩小并投影到基板w的曝光区域e的缩小投影透镜61将形成于掩模基座6的透镜插通孔6a贯通并被固定在与掩模m对应的驱动部载放台41的下表面。所以，缩小投影透镜61随着掩模搬运部40所导致的驱动部载放台41的移动而在x方向移动。

另外，在掩模保持部1上配设有：检测设置在掩模m和基板w的未图示的对准用标记的对准检测系统60；以及驱动对准检测系统60的检测系统驱动部59。此外，图2所示的附图标记51是运行观测用光学系统。

对准检测系统60的构成包含反射镜、摄像机，从掩模m的上方用该摄像机对设置在掩模m和基板w的对准用标记进行拍摄。此外，掩模m、基板w的对准用标记不限于描绘在掩模m、基板w的标记，也可以将掩模m、基板w的外形形状作为标记。另外，在基板w曝光出多层时，作为基板w的对准用标记，也可以将前一层的图案作为标记。

检测系统驱动部59使对准检测系统60从照明装置3的后述有效照射区域la退开。

参照图2和图3，照明装置3包括：照射曝光用的激光的激光源62；反射激光的多个反射镜63；以及蝇眼透镜64，用多个反射镜63使从激光源62照射的激光弯折，并且用蝇眼透镜64使其成为平行光，经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w的曝光区域e。

照明装置3能在x方向移动地配设在从底座4立起设置的照明基座4b上。即，包括直线导轨，直线导轨的构成包括：在照明基座4b上沿x方向配置的多个(在如图所示的实施方式中为2个)导轨65；以及在照明装置3的下表面固定的滑动件66，滑动件66滑动自如地跨设在各导轨65。另外，在照明基座4b与照明装置3之间配设有被马达68驱动的进给丝杠机构67，对马达68进行旋转驱动，从而照明装置3被导轨65引导并在x方向移动。由此，照明装置3的有效照射区域la(参照图4)能够与掩模m向x轴方向的移动同步地移动。

此外，构成直线导轨的导轨65和滑动件66、马达68和进给丝杠机构67构成将照明装置3在x方向搬运的照明装置搬运部69。

另外，作为照明装置3的光源，不限于激光源，可以被任意构成为超高压水银灯等。

接下来，参照图4～图6，说明将掩模m的图案曝光到基板w的曝光区域e1～e6的顺序。

首先，如图4所示，根据需要，使上下驱动机构14工作并调整倾斜度，利用进给丝杠机构20使基板保持部2与y轴进给台12一起在y方向移动，从而将掩模m与基板w的曝光区域e1～e3的y方向位置对齐。然后，利用线性马达33来驱动x轴进给台11，使基板w向x方向移动(步骤1)。另外，同时，利用线性马达45使驱动部载放台41(掩模m)向-x方向(预定方向的相反方向)移动。

然后，如步骤2所示，当掩模m通过曝光区域e1时，使掩模m的移动方向向x方向反转移动(步骤3)，使掩模m与曝光区域e1的位置一致(步骤4)。此外，为了使掩模m与曝光区域e1一致，也可以增加反转后的掩模m的移动速度，另外，也可以减小基板w的移动速度。

接下来，若步骤4中掩模m与曝光区域e1的位置一致，则边使掩模m与基板w同步地在x方向移动，边用对准检测系统60检测在掩模m和基板w设置的对准用标记，基于检测结果来驱动掩模驱动部50以将掩模保持部1、即掩模m在x、y方向驱动，并且使掩膜保持部在θ方向旋转以调整基板w与掩模m的对准。另外，在步骤s4中，利用进给丝杠机构67使照明装置3移动，使有效照射区域la与掩模m的位置一致后，使掩模m和基板w与有效照射区域la同步地在x方向移动。

然后，在步骤5，完成对准后，使对准检测系统60从有效照射区域la退开后，边使基板w和掩模m与有效照射区域la同步地移动，边打开快门s(步骤6)。由此，在掩模m与基板w同步移动的状态下，从照明装置3将曝光用的激光经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w，将掩模m的图案曝光在曝光区域e1(步骤7)。

在基板w与掩模m同步的状态下，基板w与掩模m可以以恒定速度搬运，另外，也可以减速搬运。

此外，在图中，有效照射区域la内的斜线示出来自照明装置3的激光被快门s遮住的状态，没有斜线的有效照射区域la示出快门s打开且曝光光束经由掩模m照射到基板w的状态。

接下来，在曝光区域e1的曝光完成后，如图5所示，用快门s遮住有效照射区域la，并且使对准检测系统60重回到掩模m上的原来的位置。然后，边将基板w继续向x方向搬运，边使有效照射区域la与曝光区域e2一致，并且使掩模m向-x方向移动，掩模m通过曝光区域e2后(步骤8)，使掩模m的移动方向向x方向反转移动(步骤9)，使掩模m与下一个曝光区域e2的位置一致。

然后，在步骤10，使掩模m与下一个的曝光区域e2的位置一致后，再次，边使掩模m和基板w与有效照射区域la同步移动，边用对准检测系统60检测设置在掩模m和基板w的对准用标记，使掩模驱动部50驱动并将掩模保持部1、即掩模m在x、y方向驱动，并且使掩膜保持部在θ方向旋转以调整基板w与掩模m的对准。

在步骤11，在基板w与掩模m的对准调整完成后，使对准检测系统60从有效照射区域la退开，并打开快门s(步骤12)。由此，在掩模m和基板w同步移动的状态下，将激光经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w以将掩模m的图案曝光在曝光区域e2(步骤13)。

虽然有效照射区域la与掩模m的同步时机不一定必须是上述的时机，但至少在经由掩模m将激光照射到基板w的期间内，照明装置3(有效照射区域la)和掩模m与基板w同步移动。

下面，虽然未图示，但同样地操作，以将掩模m的图案曝光在曝光区域e3。接下来，利用进给丝杠机构20使基板保持部2与y轴进给台12一起在y轴方向移动，以将掩模m与基板w的第2列曝光区域e4～e6的y方向位置对齐。

然后，利用线性马达33来驱动x轴进给台11以使基板w向与之前相反的-x方向移动，并且边使有效照射区域la和掩模m与基板w同步移动，边与上述同样地在曝光区域e4～e6将掩模m的图案依次曝光。

根据上述的曝光顺序，如图6所示，使基板w向有效照射区域la移动，在掩模m与基板w同步移动后(t1)，在同步移动的状态下进行对准调整后(t2)，进而曝光(t3)。由此，能够去除或者大幅削减现有的曝光装置所必须的基板w的停止期间，从而能够缩短曝光的节拍时间，进行效率较佳的曝光。此外，在图6中，虚线所示的基板保持部的移动速度vw示出从掩模m与基板w同步移动的期间t1到下个期间t1为止为恒定速度的情况，在该情况下，虽然未图示，但掩模保持部的移动速度vm也与移动速度vw相同，为恒定速度。

如以上说明，根据本实施方式的曝光装置pe，包括：保持具有多个曝光区域e1～e6的基板w的基板保持部2；保持形成有具有与曝光区域e大致相等大小的图案的掩模m的掩模保持部1；能在预定的方向搬运基板w的基板搬运部10；检测设置在掩模m和基板w的对准用标记的对准检测系统60；能调整基板w与掩模m的对准的掩模驱动部50；能在预定的方向搬运掩模m的掩模搬运部40；以及经由掩模m向曝光区域e照射曝光光束的照明装置3。由此，能够边将基板w向预定的方向搬运，边在每个曝光区域e进行对准调整、曝光转印，从而能够缩短节拍时间，对被搬运的基板w高效地曝光掩模m的图案。

另外，还包括驱动对准检测系统60的检测系统驱动部59，由于对准检测系统60和检测系统驱动部59配设在掩模保持部1，并被掩模搬运部40沿着预定方向搬运，因此，即使在基板w和掩模m同步移动时，也能够容易地进行准检测系统60相对于被搬运的掩模m的进退。

另外，由于还包括能在预定方向搬运照明装置3的照明装置搬运部69，因此，通过与搬运的基板w和掩模m同步地搬运照明装置3，从而能够对基板w高效地曝光转印。

另外，根据本发明的曝光方法，包括：利用基板搬运部10在预定方向搬运基板w的工序；利用掩模搬运部40使掩模m与基板w同步移动的工序；利用对准检测系统60和掩模驱动部50将掩模m与基板w对准的工序；以及从照明装置3向基板w和掩模m照射曝光光束，从而将掩模m的图案曝光转印在基板w的曝光区域e的工序，在基板w与掩模m同步的状态下，至少进行对准工序。由此，能够边将基板w在预定的方向搬运，边在每个曝光区域e进行对准调整，能够缩短节拍时间，从而对被搬运的基板w高效地曝光掩模m的图案。

所以，由于灵活使用使接下来曝光的基板w的曝光区域e向照明装置3的有效照射区域la移动的时机来边使掩模m与基板w同步移动边进行对准调整，因此，节拍时间缩短。

另外，由于在基板w与掩模m同步的状态下，再进行曝光工序，因此，能够边将基板w在预定方向搬运，边在每个曝光区域e进行对准调整和曝光，能够大幅缩短节拍时间，对搬运的基板w高效地曝光掩模m的图案。

另外，由于还包括驱动对准检测系统60的检测系统驱动部59，且还包括在对准工序后，在基板w与掩模m同步的状态下，利用检测系统驱动部59将对准检测系统60从照明装置3的有效照射区域la退开的工序，因此，能够进一步缩短节拍时间。

另外，在照射工序中，由于使照明装置3与基板w和掩模m同步并在预定方向移动，因此，有效照射区域la具有至少将掩模m的图案曝光的大小即可，能够将照明装置3紧凑构成。

另外，在曝光工序中，在基板w与掩模m同步的状态下，由于基板w与掩模m以恒定速度被搬运、或者减速搬运，因此，能够根据基板w的搬运速度，高效且稳定地将掩模m的图案曝光转印。

另外，由于掩模m在向-x方向移动后在x方向移动并与基板w同步，因此，能够可靠地进行掩模m与基板w的同步移动，能够缩短掩模搬运部40的长度。

此外，在上述实施方式中，暂且使掩模m向基板w的搬运方向的相反方向(-x方向)移动，对于下一个曝光的曝光区域使掩模m向搬运方向下游侧移动后，使其向x方向反转移动，将掩模m与曝光区域e2的位置对齐。然而，在掩模m相对于接下来曝光的曝光区域位于搬运方向上游侧的情况下，掩模m可以在以比搬运基板w的速度慢的速度向x方向移动后、或者停止的状态后，在x方向加速移动并与基板w同步。

此外，掩模m可以加速到基板w的搬运速度并与基板w同步，也可以暂且加速到超过基板w的搬运速度并与基板w同步。

下面，参照图7以接续曝光区域e1而相邻的曝光区域e2的曝光为例进行说明。在曝光区域e1曝光了掩模m的图案后(步骤7)，将掩模m的移动速度减速至比搬运基板w的速度慢，或者暂且停止且曝光区域e2通过了掩模m的位置后(步骤9a)，使掩模m在x方向加速移动并将掩模m和曝光区域e2的位置对齐(步骤10)。然后，边同步搬运掩模m和基板w及有效照射区域la，边用对准检测系统60检测设置在掩模m和基板w的对准用标记，驱动掩模驱动部50并将掩模保持部1、即掩模m在x、y方向驱动，并且使掩膜保持部在θ方向旋转并调整基板w与掩模m的对准(步骤11)。

然后，在基板w与掩模m的对准调整完成后，使对准检测系统60从有效照射区域la退开并打开快门s(步骤12)。由此，将激光经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w，将掩模m的图案曝光在曝光区域e2(步骤13)。

所以，在该变形例中，由于掩模m以比搬运基板w的速度慢的速度在x方向移动后、或者从停止的状态起在x方向加速移动并与基板w同步，因此不会使掩模m在-x方向移动，能够使掩模m与曝光区域e2在短时间同步。

另外，在该变形例中，基板w在曝光了曝光区域e后，直到将在x方向相邻的曝光区域e曝光期间，以一定的速度搬运，从而能够缩短节拍时间，高效且稳定地曝光转印。

此外，在图7中，说明了曝光区域e2的曝光，但该变形例也可以适用于其他曝光区域e1、e3～e6的曝光时。

(第2实施方式)

接下来，详细说明使用了第2实施方式的曝光装置的曝光方法。此外，第2实施方式的曝光装置虽然未图示，但与第1实施方式的不同点在于，没有照明装置搬运部。另一方面，在本实施方式中，取而代之，照明装置3的有效照射区域la构成为比第1实施方式在预定的方向(x方向)更长，至少比曝光区域e1～e3(或者e4～e6)的x方向合计长度更长(参照图8)。

此外，此处，为便于说明，与第1实施方式的变形例同样，说明将接续曝光区域e1而相邻的曝光区域e2曝光的情况。另外，下面，与第1实施方式的变形例同样，在将曝光区域e1曝光后，使掩模m的移动速度减速，或者使掩模m暂且停止并与曝光区域e2的位置对齐。

如图8所示，在曝光区域e1曝光了掩模m的图案后(步骤7)，使掩模m的移动速度减速，或者暂且停止且在曝光区域e2通过了掩模m的位置后(步骤9a)，使掩模m在x方向加速移动。而且，在步骤s10，当将掩模m和曝光区域e2的位置对齐时，边同步搬运掩模m与基板w，边用对准检测系统60检测设置在掩模m和基板w的对准用标记，基于检测结果来驱动掩模驱动部50，将掩模保持部1、即掩模m在x、y方向驱动，并且使掩膜保持部在θ方向旋转从而调整基板w与掩模m的对准。

然后，在基板w与掩模m的对准调整完成后(步骤11)，使对准检测系统60从掩模m的上方区域退开，打开成为曝光对象的曝光区域(在如图所示的实施例中为曝光区域e2)的快门s(步骤12)。由此，将激光经由掩模m和缩小投影透镜61照射到基板w，将掩模m的图案曝光在曝光区域e2(步骤13)。

此外，成为曝光对象的曝光区域e2以外的部分被快门s屏蔽，仅曝光区域e2被曝光。曝光区域e1、e3～e6的曝光也能够同样地进行。

这样，照明装置3由于具有至少比基板w的曝光区域e在预定的方向长的有效照射区域la，因此，利用不包括照明装置搬运部的照明装置3，也能够对被搬运的基板w从照明装置3照射曝光光束，从而在基板w的多个曝光区域e曝光掩模m的图案。

另外，本发明不限于上述的实施方式和变形例，能够适当进行变形、改良等。

例如，在上述实施方式中，在基板w与掩模m同步移动的状态下，进行对准工序和曝光工序，但本发明边使基板w与掩模m同步移动，边至少进行对准工序，从而能够缩短节拍时间。

例如，曝光工序也可以在基板w与掩模m停止的状态下进行，在该情况下，能够减小第1实施方式的照明装置搬运部69、第2实施方式的有效照射区域la。

另外，在上述实施方式中，在基板w被减速搬运期间、或者基板w被以一定的速度搬运期间，基板w和掩模m同步移动，但本发明也可以在基板w加速搬运期间，使基板w和掩模m同步移动。

并且，在上述实施方式中，说明了在掩模保持部1与基板保持部2之间配设缩小投影透镜61并将掩模m的图案的像在基板w上成像的情况，但本发明不限于此，也可以将掩模保持部1与基板保持部2接近配置，使掩模m与基板w接近并接近曝光。

本发明基于2016年8月29日申请的日本专利申请(日本特愿2016-167193)，其内容作为参照并入本文。