1.一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于所述的倾斜投影成像光学系统具有如下特征：该倾斜投影成像光学系统由“照明光学系统”、“被投影图像及承载基片”、“投影成像光学系统”三部分组成。“被投影图像”经“投影成像光学系统”投影成像，在“投影平面”形成清晰的投影光学像。
2.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：权利要求1所述的“照明光学系统”可由LED、灯泡等发光源单独构成；也可以由LED灯珠与光学系统组合构成；主要用于对被投影图像进行照明；在“LED灯珠+光学系统”构成的照明光学系统中，光学系统主要用于对LED光源发出的光进行汇聚、发散或者均匀化，进而提高照射到“被投影图像”上的光强度或光均匀性。
3.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：权利要求1所述的“被投影图像及承载基片”由承载基片及承载基片携带的“被投影图像”构成；被投影图像位于承载基片内包括但不限于承载基片的前、后、上、下、左、右表面和内部等位置；相对于投影成像光学系统，被投影图像不同区域具有不同的成像物距值。
4.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：“被投影图像”不同区域(或者不同点)距离“投影成像光学系统”的物方焦面的光学距离不同；或者说“被投影图像”不同区域(或者不同点)位于“投影成像光学系统”物方不同物距的光学物面处。
5.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：将“被投影图像”不同区域(或者不同点)放置于“投影成像光学系统”不同物面处的实现手段包括但不限于“将承载被投影图像的基片沿光轴倾斜放置”、“将承载被投影图像的基片前后表面由相互平行面改为非平行面”、“调制承载被投影图像的基片厚度，使得承载被投影图像的基片不同位置具有不同的厚度”三种方法；通过改变基片放置方式、放置位置、基片形状以及被投影图像在基片中的位置(如：上、下表面和内部)的方法，使得被投影图像不同区域具有不同物距，在倾斜投影平面获得清晰的成像效果的各种光学实现形式都属于本发明专利保护的范围。
6.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：被投影图像上不同区域的图像(如A点、B点)对于投影成像光学系统来讲具有不同的光学物距，在投影平面上对于投影成像光学系统不同光学像距的A1点、B1点均获得清晰的投影成像。A点与A1点、B点与B1点之间满足投影成像光学系统的光学物距-光学像距成像关系。
7.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：“投影成像光学系统”可以为单个透镜构成，也可以为两个乃至多个透镜组成的透镜组构成，其功能主要用于将“被投影图像”放大或缩小投影成像到“投影平面”上。
8.根据权利要求1所述的一种新型倾斜投影成像光学系统，其特征在于：目标“投影平面”与“投影成像光学系统”光轴不垂直，即“投影成像光学系统”光轴与“投影平面”成一定夹角。