本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术：
薄膜晶体管液晶显示器(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay，简称tft-lcd)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在平板显示器市场占据了主导地位。请参考图1-4，带有触控功能的tft-lcd，其结构包括衬底基板20，以及设置于所述衬底基板上的黑矩阵(blackmatrix，简称bm)10和多个相互绝缘的触控电极30，每一触控电极30上均开设有多条狭缝31，狭缝31的设置是用于产生电容。此种tft-lcd的缺点在于，由于黑矩阵10与触控电极30上的狭缝31均为规则排布，当光经过黑矩阵10所在层之后，形成规则的平行光，当平行光经过触控电极30的狭缝31时，会发生光的衍射现象，导致tft-lcd出现摩尔纹现象，从而影响显示视觉效果。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，以消除显示装置出现的摩尔纹现象。
为解决上述技术问题，本发明提供一种显示基板，包括：
衬底基板，以及设置于所述衬底基板上的黑矩阵、散射层和多个相互绝缘的触控电极，每一所述触控电极上开设有至少一条狭缝，所述散射层位于所述黑矩阵和所述触控电极之间，所述散射层包括多个散射结构，所述散射结构在所述衬底基板上的正投影至少部分位于所述狭缝在所述衬底基板上的正投影区域内。
进一步地，本发明提供的显示基板，所述散射层包括：
绝缘层，所述绝缘层上开设有凹槽，所述散射结构设置于所述凹槽内。
进一步地，本发明提供的显示基板，所述散射结构包括填充在所述凹槽内的填充胶以及掺杂在所述填充胶内的散射粒子，所述散射粒子的折射率大于所述填充胶的折射率。
进一步地，本发明提供的显示基板，所述凹槽与所述狭缝的形状相同。
进一步地，本发明提供的显示基板，每一所述狭缝对应至少一个所述散射结构，所述散射结构在所述衬底基板上的正投影至少部分位于对应的狭缝在所述衬底基板上的正投影区域内。
进一步地，本发明提供的显示基板，每一所述狭缝对应两个所述散射结构，每一所述狭缝对应的两个散射结构分别位于所述狭缝的两侧，所述散射结构在所述衬底基板上的正投影部分位于所述狭缝在所述衬底基板上的正投影区域内。
为解决上述技术问题，本发明还提供一种显示基板的制作方法，包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成黑矩阵、散射层和多个相互绝缘的触控电极，每一所述触控电极上开设有至少一条狭缝，所述散射层位于所述黑矩阵和所述触控电极之间，所述散射层包括多个散射结构，所述散射结构在所述衬底基板上的正投影至少部分位于所述狭缝在所述衬底基板上的正投影区域内。
进一步地，本发明提供的显示基板的制作方法，所述散射层包括：绝缘层，所述绝缘层上开设有凹槽，所述散射结构设置于所述凹槽内。
进一步地，本发明提供的显示基板的制作方法，形成散射层的步骤包括：
在所述衬底基板上形成绝缘层；
通过光刻工艺，在所述绝缘层上形成多个凹槽；
将含有散射粒子的填充胶填充至所述凹槽内；
对所述填充胶进行固化，形成所述散射结构。
为解决上述技术问题，本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示基板。
本发明提供的上述技术方案的有益效果如下：光经过黑矩阵所在层后，到达散射层的散射结构时，由于散射结构在所述衬底基板上的正投影至少部分位于所述狭缝在所述衬底基板上的正投影区域内，即散射结构在衬底基板的正投影与狭缝在衬底基板的正投影至少部分重叠，则在散射结构的散射作用之下，光的传播路径发生改变，以使光进入到触控电极的狭缝内的光不再是规则的平行光，从而避免了光经过触控电极的狭缝时产生的光的衍射现象，避免在狭缝内产生的摩尔纹，从而提高了显示视觉效果。
附图说明
图1为现有技术中显示基板的剖面结构示意图；
图2为现有技术中黑矩阵的结构示意图；
图3为现有技术中触控电极的结构示意图；
图4为现有技术中显示基板的俯视图；
图5-10为本发明一实施例的显示基板的制作方法示意图；
图11为本发明一实施例的狭缝与散射结构的正投影区域部分重叠的示意图；
图12本发明一实施例的光路在显示基板中的传播路径的示意图；
图13为本发明一实施例的显示基板的结构示意图；
图14为本发明另一实施例的显示基板的结构示意图；
图15为本发明又一实施例的显示基板的结构示意图；
图16为本发明一实施例的凹槽与狭缝的形状分布示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图10，图13至图15，本发明实施例提供一种显示基板，包括：
衬底基板120，以及设置于所述衬底基板120上的黑矩阵110、散射层和多个相互绝缘的触控电极140，每一所述触控电极140上开设有至少一条狭缝141，所述散射层位于所述黑矩阵110和所述触控电极140之间，所述散射层包括多个散射结构132，所述散射结构132在所述衬底基板120上的正投影至少部分位于所述狭缝141在所述衬底基板120上的正投影区域内。
请参考图10至12，本发明实施例的工作原理如下：光201经过黑矩阵110所在层之后，到达散射层的散射结构132时，由于散射结构132在所述衬底基板120上的正投影至少部分位于所述狭缝141在所述衬底基板120上的正投影区域内，即散射结构132在衬底基板120的正投影与狭缝141在衬底基板120的正投影至少部分重叠(如图11中的重叠区域为l)，则在散射结构132的散射作用之下，光的传播路径发生改变，以使进入到触控电极140的狭缝141内的光不再是规则的平行光，从而避免了光经过触控电极140的狭缝141时产生的光的衍射现象，避免在狭缝141内产生的摩尔纹，从而提高了显示视觉效果。
请参考图10，本发明实施例的散射层包括：
绝缘层130，所述绝缘层130上开设有凹槽131，所述散射结构132设置于所述凹槽131内。散射层采用设置在绝缘层130的凹槽131内的散射结构132形成的镶嵌结构，能够节省散射结构132的材料，具有降低成本的效果。
作为较佳的实施方式，本发明提供的显示基板，所述散射结构132包括填充在所述凹槽131内的填充胶以及掺杂在所述填充胶内的散射粒子，所述散射粒子的折射率大于所述填充胶的折射率。当光201传播到散射结构132的散射粒子时，通过光的散射原理，散射粒子将光散射进入到触控电极140的狭缝141内，从而消除狭缝141内的摩尔纹现象。本发明实施例中，采用的透明粒子的折射率大于溶剂折的射率，差异越大散射效果越好。本发明实施例提供的散射粒子为透明散射粒子，其粒径≤3um，以达到更好的散射效果。
作为较佳的实施方式，所述填充胶可以采用硅胶，所述透明粒子可以采用亚克力材料制成。
当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除散射结构132采用其他类型的结构。
请参考图16，本发明提供的显示基板，所述凹槽131与所述狭缝141的形状相同。其目的是为了使凹槽131适应狭缝141分布在触控电极140的形状，使通过凹槽131内的散射结构132进入到狭缝141内的光更加均匀，以更好的消除狭缝141内的摩尔纹现象。
请参考图14和图15，本发明提供的显示基板，每一所述狭缝141对应至少一个所述散射结构132，所述散射结构132在所述衬底基板120上的正投影至少部分位于对应的狭缝141在所述衬底基板120上的正投影区域内。
请参考图10至图13，本发明提供的显示基板，每一所述狭缝141对应两个所述散射结构132，每一所述狭缝141对应的两个散射结构132分别位于所述狭缝141的两侧，所述散射结构132在所述衬底基板120上的正投影部分位于所述狭缝141在所述衬底基板120上的正投影区域内。每一狭缝141分别对应两个散射结构132，具有散射分布均匀，使狭缝141在两侧均有光进入，从而更好的消除狭缝141内的摩尔纹现象。
本发明的上述实施例中，黑矩阵110位于衬底基板120的一侧，散射结构132和触控电极140位于衬底基板的另一侧(显示侧)，显示基板为on-cell结构的触控显示基板。当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除，黑矩阵110、散射结构132和触控电极140均位于衬底基板的同一侧(衬底基板的背向显示侧的一侧)，该种结构的显示基板为in-cell结构的触控显示基板。
本发明的上述实施例中，触控电极140可以采用掺锡氧化铟(indiumtinoxide，简称ito)制作而成，ito具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。
本发明的上述实施例中，衬底基板120可以为玻璃基板，也可以为柔性基板。
请参考图5至图10，本发明实施例提供一种显示基板的制作方法，包括：
步骤51，提供一衬底基板120；
步骤52，在所述衬底基板120上形成黑矩阵110、散射层和多个相互绝缘的触控电极140，每一所述触控电极140上开设有至少一条狭缝141，所述散射层位于所述黑矩阵110和所述触控电极140之间，所述散射层包括多个散射结构132，所述散射结构132在所述衬底基板120上的正投影至少部分位于所述狭缝141在所述衬底基板120上的正投影区域内。
请参考图12，本实施例的工作原理与上述实施例相同，能够消除触控电极140的狭缝141内产生的摩尔纹，从而提高显示视觉效果。
作为较佳的实施方式，本发明提供的显示基板的制作方法，所述散射层包括：绝缘层130，所述绝缘层130上开设有凹槽131，所述散射结构132设置于所述凹槽131内。散射层采用设置在绝缘层130的凹槽131内的散射结构132形成的镶嵌结构，能够节省散射结构132的材料，具有降低成本的效果。
请参考图5至图8，本发明提供的显示基板的制作方法，形成散射层的步骤包括：
步骤61，请参考图6，在所述衬底基板120上形成绝缘层130；
步骤62，请参考图7，通过光刻工艺，在所述绝缘层130上形成多个凹槽131；
步骤63，请参考图8，将含有散射粒子的填充胶填充至所述凹槽131内；
步骤64，请参考图8，对所述填充胶进行固化，形成所述散射结构132。
本发明实施例中，由于凹槽131采用光刻工艺制作，在刻蚀过程中，凹槽131在垂直于衬底基板12的方向上具有一定的倾斜角度，使凹槽131在垂直于衬底基板120的方向上形成倾斜面，则光线在经过倾斜面时，在光的折射原理的作用下，光以倾斜面为基点向外折射，从而将光的传播路径向周围方向打散，以使更多的折射光进入到散射结构132中，以提高散射结构132的散射效率，以更好的消除摩尔纹现象。
本发明实施例中，优选地，所述绝缘层可以和所述触控电极通过采用同一掩膜版制作。
为解决上述技术问题，本发明还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述实施例的显示基板。
本发明实施例提供的显示装置，能够消除触控电极的狭缝内产生的摩尔纹现象，从而提高显示视觉效果。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。