偏振光板及其制造方法、以及光学设备与流程

本发明涉及偏振光板及其制造方法、以及光学设备。

背景技术：

偏振光板是将吸收轴方向的偏振光吸收、使与它正交的透射轴方向的偏振光透射的光学元件。近年来，在液晶投影仪等的光学设备中，使用具有线栅构造（wiregrid）的吸收型的偏振光板。该吸收型的偏振光板为了在可见光波段中满足期望的光学特性，需要使栅的周期达到亚微米级。因此，构成栅的反射层、电介质层及吸收层的各层宽度成为数10nm。

此外，上述偏振光板在高湿、粉尘（pm2.5等）环境下使用，而且是吸收型，所以实际使用下栅曝露在高温中。因此，发生栅表面的氧化或腐蚀，即便假设只是表面的氧化或腐蚀，也因尺寸为纳米级而光学特性大受影响。因此，提出了各种一边避免对光学特性的不良影响、一边提高偏振光板的耐久性的技术。

例如公开了在具有线栅构造的偏振光板的表面具备由防腐蚀剂构成的单分子层的偏振光板（例如，参照专利文献1）。依据该偏振光板，使单分子层的厚度小于约100埃，从而不会对光学特性产生不良影响而能够防止腐蚀。

另外，例如公开了在具有线栅构造的偏振光板的表面具备标准区域和校正区域的偏振光板，该标准区域配置在偏振光板的中央并具有标准特性，而该校正区域配置在偏振光板的端部并具有与标准特性不同的特性（例如，参照专利文献2）。依据该偏振光板，压坏校正区域中的栅而使邻接的栅彼此互相熔合，从而能够防止因毛细管现象而油脂或水等的流体从端部渗入造成栅的腐蚀。

另外，例如公开了在具有线栅构造的偏振光板的表面涂敷硅石等的无机类微粒子的偏振光板（例如，参照专利文献3）。依据该偏振光板，由于在表面具备硅石层等的无机类保护膜，能够提高耐久性。

【先前技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本特表2006－507517号公报；

【专利文献2】日本特开2013－218294号公报；

【专利文献3】日本特开2012－103728号公报。

技术实现要素：

【发明要解决的课题】

此外，例如在3lcd型液晶投影仪中，使用对应于蓝、绿及红各色的3种液晶面板，并且以夹持各液晶面板的方式在入射侧和出射侧分别配置有偏振光板。另外，为了减轻各偏振光板的热负荷，有时在入射侧的偏振光板的前段配置被称为预偏振光板的消光比低的偏振光板，使得偏振光板的使用块数包括预偏振光板在内最大成为9块。因此，从防止人为误差、进而提高液晶投影仪等的光学设备的生产性观点来看，使偏振光板的识别容易是重要的。

作为偏振光板的识别方法，举出了采用激光标记（lasermarking）或标记记录笔、金刚石刀具等，对偏振光板的表面或背面的无效区、或偏振光板的端部的侧面印字出产品信息的方法。在无效区较小难以印字的情况下，必然会在端部的侧面印字。这一点现有在一般保护膜的形成中，不仅仅在偏振光板的表面而且在侧面也形成保护膜，但若对这样的侧面进行印字，则担心保护膜剥离而成为粉尘的原因。特别是在保护膜为憎水膜的情况下，担心从一开始就不能用标记记录笔印字。进而在如专利文献2那样的偏振光板中，压坏的栅覆盖端部的侧面的结果，会担心对标记带来障碍。

本发明鉴于上述而构思，其目的在于提供能够提高偏振光板的耐久性并且能够提高光学设备的生产性的偏振光板及其制造方法以及光学设备。

【用于解决课题的方案】

为了达成上述目的，本发明提供具有线栅构造的偏振光板（例如，后述的偏振光板1），具备：透明基板（例如，后述的透明基板2）；以及格子状凸部（例如，后述的格子状凸部3），在所述偏振光板的一个面侧的所述透明基板上以比使用波段的光波长短的间距排列，并沿既定方向延伸，在所述偏振光板的一个面形成有覆盖所述格子状凸部的表面的憎水层（例如，后述的憎水层4、41），在所述偏振光板的侧面没有形成憎水层。

也可以在所述偏振光板的侧面露出所述透明基板。

也可以对所述偏振光板的侧面施加识别用的标记。

也可以在所述偏振光板的另一个面形成憎水层（例如，后述的憎水层42、4）。

所述憎水层也可以从所述透明基板侧依次具有由硅石构成的硅石层、和由硅烷偶联剂构成的硅烷偶联层。

所述硅烷偶联层也可以包含氟。

所述透明基板也可以对所述使用波段的光波长透明，且由玻璃、石英或蓝宝石构成。

也可以还具备配置在所述透明基板的另一个面上并由蓝宝石构成的热传导板。

另外本发明提供具有线栅构造的偏振光板的制造方法，包括：格子状凸部形成工序，在比所述偏振光板的使用尺寸大的透明基板的一个面侧，形成以比使用波段的光波长短的间距沿既定方向延伸的格子状凸部；憎水层形成工序，在所述透明基板的一个面侧形成覆盖所述透明基板的表面及所述格子状凸部的表面的憎水层；以及切断工序，以所述使用尺寸切断形成有所述憎水层的透明基板。

另外本发明提供具有线栅构造的偏振光板的制造方法，包括：格子状凸部形成工序，在与所述偏振光板的使用尺寸同等大小的透明基板的一个面侧，形成以比使用波段的光波长短的间距沿既定方向延伸的格子状凸部；憎水层形成工序，在所述透明基板的一个面侧形成覆盖所述透明基板的表面及所述格子状凸部的表面的憎水层；以及除去工序，利用蚀刻来除去形成在所述透明基板的侧面的憎水层。

另外本发明提供具备上述任一种发明所涉及的偏振光板的光学设备。

【发明效果】

依据本发明，能够提供能提高偏振光板的耐久性并且能提高光学设备的生产性的偏振光板及其制造方法以及光学设备。

附图说明

【图1】是本发明的一实施方式所涉及的偏振光板的立体图。

【图2】是上述实施方式所涉及的偏振光板的截面图。

【图3a】是用于说明上述实施方式所涉及的偏振光板的制造方法的图。

【图3b】是用于说明上述实施方式所涉及的偏振光板的制造方法的图。

【图3c】是用于说明上述实施方式所涉及的偏振光板的制造方法的图。

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的一实施方式详细地进行说明。

[偏振光板1]

本发明的一实施方式所涉及的偏振光板1是具有线栅构造的无机偏振光板。本实施方式所涉及的偏振光板1，具备：透明基板2；以及在偏振光板1的一个面侧的透明基板2上以比使用波段的光波长短的间距（周期）排列并沿既定方向延伸的格子状凸部3。另外，以在偏振光板1的一个面形成有覆盖格子状凸部3的表面的憎水层4，另一方面在偏振光板1的侧面没有形成憎水层为特征。

图1是本实施方式所涉及的偏振光板1的立体图。图2是本实施方式所涉及的偏振光板1的截面图。

如图1及图2所示，将格子状凸部3延伸的方向（既定方向）称为y轴方向。另外，将与y轴方向正交并沿着透明基板2的主面排列格子状凸部3的方向称为x轴方向。在该情况下，入射到偏振光板1的光，适宜在透明基板2的形成格子状凸部3的一侧从与x轴方向及y轴方向正交的方向入射。

偏振光板1通过利用透射、反射、干涉及光学各向异性带来的选择性光吸收偏振光波的4个作用，使具有与y轴方向平行的电场分量的偏振光波（te波（s波））衰减，并使具有与x轴方向平行的电场分量的偏振光波（tm波（p波））透射。因而，y轴方向为偏振光板1的吸收轴的方向，x轴方向为偏振光板1的透射轴的方向。

作为透明基板2，只要为对于使用波段的光显示透光性的基板就没有特别限制，能够对应目的进行适当选择。“对于使用波段的光显示透光性”并不意味着使用波段的光的透射率为100％，而是显示能够保持作为偏振光板的功能的透光性即可。作为使用波段的光，能举出例如波长380nm～810nm左右的可见光。

透明基板2的主面形状没有特别限制，可适当选择与目的对应的形状（例如，矩形形状）。透明基板2的平均厚度优选例如0.3mm～1mm。

作为透明基板2的构成材料，优选折射率为1.1～2.2的材料，可举出玻璃、石英、蓝宝石等。从成本及透光率的观点来看，优选使用玻璃，特别是石英玻璃（折射率1.46）或碱石灰玻璃（折射率1.51）。玻璃材料的成分组成没有特别限制，例如能够采用作为光学玻璃广泛流通的硅酸盐玻璃等的廉价玻璃材料。

另外，从热传导性的观点来看，优选采用热传导性高的石英或蓝宝石。由此，对于强光能得到较高的耐光性，可以优选作为发热量多的投影仪的光学引擎用偏振光板而采用。或者，也可以在透明基板2的另一个面上配置由蓝宝石构成的热传导板。通过将这样的热传导板抵接配置在透明基板2的另一个面，能得到较高的耐热性，提高偏振光板1的耐久性。

此外，在采用由石英等的光学活性的晶体构成的透明基板的情况下，优选相对于晶体的光学轴沿平行方向或垂直方向配置格子状凸部3。由此，能得到优异的光学特性。在此，光学轴是指沿该方向前进的光的o（普通光线）与e（异常光线）的折射率之差成为最小的方向轴。

格子状凸部3在透明基板2的一个面上以比使用波段的光波长短的间距一维状排列，并沿既定方向延伸。格子状凸部3以从透明基板2垂直延伸的四棱柱状形成。格子状凸部3从透明基板2侧依次层叠均未图示的反射层、电介质层、吸收层而构成。即，本实施方式所涉及的偏振光板1是具有线栅构造的吸收型的偏振光板。

因此，从偏振光板1的形成有格子状凸部3的一侧入射的光，在通过吸收层及电介质层时一部分被吸收而衰减。在透射吸收层及电介质层的光之中，偏振光波（tm波（p波））以较高的透射率透射反射层。另一方面，在透射吸收层及电介质层的光之中，偏振光波（te波（s波））在反射层反射。在反射层反射的te波，在通过吸收层及电介质层时一部分被吸收，一部分反射而返回到反射层。另外，在反射层反射的te波，在通过吸收层及电介质层时干涉而衰减。如以上那样，偏振光板1进行te波的选择性衰减，从而能得到期望的偏振光特性。

在此，格子状凸部3的高度是指垂直于透明基板2的主面的方向的尺寸，格子状凸部3的宽度是指在从沿着格子状凸部3的延伸方向的y轴方向观看时，与高度方向正交的x轴方向的尺寸。另外，在从沿着格子状凸部3的延伸方向的y轴方向观看偏振光板1时，将格子状凸部3的x轴方向的重复间隔称为间距p。

格子状凸部3的高度优选为10nm以上。通过使格子状凸部3的高度为10nm以上，能得到期望的光学特性，并且显现更加良好的憎水性。该格子状凸部3的高度能够用扫描型电子显微镜或透射型电子显微镜观察从而进行测定。例如，能够采用扫描型电子显微镜或透射型电子显微镜，对于任意4个部位测定格子状凸部3的高度，将其算术平均值设为格子状凸部3的高度。以下，将该测定方法称为电子显微镜法。

格子状凸部3的宽度优选为35～45nm。通过使格子状凸部3的宽度为该范围内，能得到期望的光学特性，并且显现更加良好的憎水性。该格子状凸部3的宽度能够通过例如上述电子显微镜法进行测定。

格子状凸部3的间距p（参照图2）只要比使用波段的光的一半波长短就无特别限制。从制作的容易性及稳定性的观点来看，格子状凸部3的间距p优选为例如100nm～200nm。通过使格子状凸部3的间距p为该范围内，能得到期望的光学特性，并且显现更加良好的憎水性。该格子状凸部3的间距p能够通过例如上述电子显微镜法进行测定。

反射层由沿吸收轴即y轴方向以带状延伸的金属膜构成。反射层使在与反射层的长边方向平行的方向具有电场分量的偏振光波（te波（s波））衰减，并使在与反射层的长边方向正交的方向具有电场分量的偏振光波（tm波（p波））透射。

作为反射层的构成材料，只要为对使用波段的光具有反射性的材料就没有特别限制，能举出例如al、ag、cu、mo、cr、ti、ni、w、fe、si、ge、te等的元素单体或包含1种以上这些元素的合金。其中，反射层也优选由铝或铝合金构成。此外，除了这些金属材料以外，也可以例如由表面的反射率利用着色等而较高地形成的金属以外的无机膜或树脂膜构成反射层。

电介质层形成在反射层上，排列沿吸收轴即y轴方向以带状延伸的电介质膜而成。作为构成电介质层的材料，能举出sio2等的si氧化物、al2o3、氧化铍、氧化铋等的金属氧化物、mgf2、冰晶石、锗、ニ氧化钛、硅、氟化镁、氮化硼、氧化硼、氧化钽、碳、或这些的组合等的一般性材料。其中，电介质层也优选由si氧化物构成。

吸收层形成在电介质层上，沿吸收轴即y轴方向以带状延伸而排列。作为吸收层的构成材料，可举出金属材料或半导体材料等的光学常数的消光常数不为零的、具有光吸收作用的一种以上的物质，可根据所适用的光的波长范围适当选择。作为金属材料，能举出ta、al、ag、cu、au、mo、cr、ti、w、ni、fe、sn等的元素单体或包含1种以上这些元素的合金。另外，作为半导体材料，能举出si、ge、te、zno、硅化物材料（β－fesi2、mgsi2、nisi2、basi2、crsi2、cosi2、tasi等）。通过采用这些材料，偏振光板1对于所适用的可见光区能得到较高的消光比。其中，吸收层也优选包含fe或ta，并且包含si而构成。

憎水层4形成在偏振光板1的一个面、即形成在形成有格子状凸部3的面上，且覆盖格子状凸部3的表面。在本实施方式中，如图2所示，在邻接的格子状凸部3间的各槽内也形成憎水层4，且以覆盖偏振光板1的一侧的整个面的方式形成憎水层4。由此，例如因结露等在偏振光板1的一个面附着水滴的情况下，在液晶投影仪等的光学设备内通常水滴也不会长时间滞留在纵向放置（以使偏振光板1的厚度方向成为大致水平方向的方式配置）的偏振光板1的一个面，而是迅速流动而被除去。因此，能够避免因水滴长时间附着着的状态下吸收大气中的灰尘等而产生污垢等，从而对光学特性产生不良影响的事态。即，能得到优异的耐湿性，能够提高偏振光板1的耐久性。

另外，通过以憎水层4覆盖格子状凸部3的表面，能够保护格子状凸部3的表面。因此，能防止格子状凸部3的表面上的氧化及腐蚀，并能提高偏振光板1的耐久性。

另外在本实施方式中，憎水层4还形成在偏振光板1的另一个面，且以覆盖偏振光板1的另一个面整体的方式形成。由此，在偏振光板1的另一个面，也能避免因水滴长时间附着着的状态下吸收大气中的灰尘等而产生污垢等，从而对光学特性产生不良影响的事态。即，能得到更加优异的耐湿性，能够进一步提高偏振光板1的耐久性。

上述憎水层4的厚度没有特别限定。能够在对偏振光板1的光学特性不会产生不良影响的范围内适当设定。具体而言，憎水层4的优选厚度为1～3nm。

上述憎水层4优选从透明基板2侧依次具有由硅石构成的硅石层（未图示）、和由硅烷偶联剂构成的硅烷偶联层（未图示）。

硅石层由硅石构成。硅石层以覆盖整个透明基板2的表面及格子状凸部3的表面的方式形成。在该硅石层的表面存在硅烷醇基，与以覆盖硅石层的表面的方式层叠的后述硅烷偶联层中的硅烷偶联剂进行缩合反应。由此，硅烷偶联层牢固地结合在硅石层上，结果能够防止硅烷偶联层的剥离。因而，本实施方式所涉及的偏振光板1能够长期维持优异的耐水性、耐湿性及防污性，且具有较高的耐久性。

硅石层优选使厚度为20nm以下。如果硅石层的厚度为20nm以下，则能一边维持期望的光学特性，一边长期维持优异的耐水性、耐湿性、及防污性。另外，硅石层的厚度优选为间距p的1/10以下。由此，能够长期维持更加优异的耐水性、耐湿性、及防污性。此外，该硅石层能够通过利用例如cvd（化学气相沉积：chemicalvapordeposition）或ald（原子层沉积：atomiclayerdeposition）来形成。

硅烷偶联层由硅烷偶联剂构成。硅烷偶联层以覆盖整个硅石层的表面的方式形成。如上述，构成硅烷偶联层的硅烷偶联剂，通过与存在于硅石层表面的硅烷醇基的缩合反应，牢固地结合。

硅烷偶联层优选包含氟。更具体而言，硅烷偶联层优选由全氟十七烷三甲基氧硅烷（fdts）等的氟类硅烷偶联剂构成。由此，能长期得到更加优异的耐水性、耐湿性及防污性。此外，除了例如上述cvd或ald之外，该硅烷偶联层能够利用浸渍（dipping）等来形成。

另一方面，在偏振光板1的侧面没有形成憎水层。更详细而言，在偏振光板1的侧面未形成憎水层而露出透明基板2。因此，偏振光板1的侧面具有亲水性。在此，偏振光板1的侧面是指沿偏振光板1的厚度方向延伸的面，构成偏振光板1的外周端部的侧面。

如上述在偏振光板1的侧面没有形成憎水层等的包覆层，从而例如在向光学设备进行安装作业时，能够避免现有的偏振光板那样的保护膜的脱落，并能使偏振光板的处理变得容易。此外，偏振光板1的侧面处于露出透明基板2的状态，但是偏振光板1的侧面位于外周端部，因此可以说在使用时温度也并不比光进行入射出射的偏振光板1的中央部高出多少，难以出现氧化或腐蚀的问题。

另外，在偏振光板1的侧面施加识别用的标记。具体而言，利用激光标记或标记记录笔、金刚石刀具等印字出产品信息。如上述，本实施方式所涉及的偏振光板1在其侧面不形成憎水层4而露出透明基板2，因此当侧面具有亲水性时，容易溶合标记记录笔等的墨，从而能够可靠地进行标记。另外，由于没有形成包覆侧面的层，在利用激光标记或金刚石刀具等来印字时，也不会如以往那样保护膜等剥落而成为粉尘的原因。因而，依据本实施方式，能够可靠地标记，能够容易且可靠地进行偏振光板1的识别。

[偏振光板1的制造方法]

（第1制造方法）

上述偏振光板1的第1制造方法具有格子状凸部形成工序、憎水层形成工序、和切断工序。以下，参照图3a～图3c，对各工序详细地进行说明。

在此，图3a～图3c是用于说明本实施方式所涉及的偏振光板1的制造方法的图。

首先，在格子状凸部形成工序中，在比偏振光板1的使用尺寸大的透明基板2的一个面侧，形成以比使用波段的光波长短的间距沿既定方向延伸的格子状凸部3。即，在第1制造方法中，在比偏振光板1的使用尺寸大的大型的透明基板2上形成格子状凸部3。

格子状凸部形成工序例如具有反射层形成工序、电介质层形成工序、吸收层形成工序、和蚀刻工序。此外，如上述，也可以综合电介质层形成工序和吸收层形成工序而一体形成电介质层和吸收层。

在反射层形成工序中，在透明基板2上形成反射层。在电介质层形成工序中，在以反射层形成工序形成的反射层上形成电介质层。在吸收层形成工序中，在以电介质层形成工序形成的电介质层上形成吸收层。在这些各层形成工序中，例如能够利用溅射法或蒸镀法形成各层。

在蚀刻工序中，对经上述各层形成工序而形成的层叠体进行选择性蚀刻，从而形成在透明基板2上以比使用波段的光波长短的间距排列的格子状凸部3。具体而言，例如利用光刻法或纳米压印法，形成一维格子状的掩模图案。然后，对上述层叠体进行选择性蚀刻，从而形成在透明基板2上以比使用波段的光波长短的间距排列的格子状凸部3。作为蚀刻方法，可举出例如采用与蚀刻对象对应的蚀刻气体的干法蚀刻法。

在憎水层形成工序中，如图3a所示，以覆盖形成有格子状凸部3的大型的透明基板100a的一个面的方式形成憎水层4。憎水层形成工序例如具有硅石层形成工序和硅烷偶联层形成工序。

在硅石层形成工序中，以覆盖形成有格子状凸部3的大型的透明基板100a的一个面的方式形成由硅石构成硅石层。具体而言，例如通过利用上述cvd或ald，形成硅石层。此时，在硅石层的成形方法上，以不只覆盖透明基板100a的一个面、也覆盖包括另一个面在内的全体的方式形成硅石层。

在硅烷偶联层形成工序中，如图3a所示，在通过硅石层形成工序形成的硅石层的表面，形成由硅烷偶联剂9构成的硅烷偶联层。具体而言，例如除了上述cvd或ald之外，利用浸渍等来形成硅烷偶联层。此时，在硅烷偶联层的成形方法上，以不只覆盖透明基板100a的一个面、也覆盖包括另一个面在内的全体的方式形成硅烷偶联层。

在切断工序中，如图3b所示，按照偏振光板1的使用尺寸切断形成有憎水层4的大型的透明基板100b。具体而言，首先，通过例如采用划线器8的划线加工等，在透明基板100b的表面形成分开用槽（裂缝）。接着，沿着所形成的分开用槽，将透明基板100b分开（断开）为单片，从而做成期望的尺寸。

如上述，在第1制造方法中，由于使用大型的透明基板，所以通过本工序按适合液晶面板等的尺寸的期望的大小切断透明基板100b。此时，由于切断形成有憎水层4的透明基板100b，所以成为在切断而得到的偏振光板1的侧面不存在憎水层而露出透明基板的状态。

通过以上，能制造由图3c所示那样的期望的尺寸构成且在侧面露出透明基板的偏振光板1。

（第2制造方法）

上述偏振光板1的第2制造方法具有格子状凸部形成工序、憎水层形成工序、和除去工序。以下，对各工序详细地进行说明。

在格子状凸部形成工序中，在与偏振光板1的使用尺寸同等大小的透明基板的一个面侧，形成以比使用波段的光波长短的间距沿既定方向延伸的格子状凸部3。即，在第2制造方法中，在与偏振光板1的使用尺寸同等尺寸的较小的小型透明基板上形成格子状凸部3。此外，格子状凸部3的形成次序本身与第1制造方法同样，例如，通过反射层形成工序、电介质层形成工序、吸收层形成工序、和蚀刻工序形成格子状凸部3。

在憎水层形成工序中，以覆盖形成有格子状凸部3的小型的透明基板的一个面的方式形成憎水层4。该憎水层形成工序与第1制造方法中的憎水层形成工序同样。此时，在憎水层4的成形方法上，以不只覆盖透明基板的一个面、也覆盖包括另一个面在内的全体的方式形成憎水层4。

在除去工序中，通过蚀刻来除去形成在透明基板的侧面的憎水层4。如上述，在第2制造方法中，使用与偏振光板1的使用尺寸同等尺寸的较小的小型透明基板，因此不需要如第1制造方法那样的切断工序。另外如上述，在偏振光板1的侧面也形成了憎水层4，但通过本工序除去形成在偏振光板1的侧面的憎水层4。具体而言，利用期望的蚀刻等来除去侧面的憎水层4。

通过以上，能制造在侧面露出透明基板的偏振光板1。

[光学设备]

本实施方式所涉及的光学设备具备上述偏振光板1。作为光学设备，能举出液晶投影仪、平视显示器、数码相机等。本实施方式所涉及的偏振光板1是与有机偏振光板相比耐热性优异的无机偏振光板，因此适合要求耐热性的液晶投影仪、平视显示器等的用途。

例如，偏振光板1对于设置在液晶投影仪等的光学设备内部的安装框（固定框），以纵向放置的状态，并以使安装框抵接其侧面的方式嵌入。然后，例如向安装框与偏振光板1的侧面之间提供粘接剂，由此，偏振光板1固接在安装框。此时，本实施方式所涉及的偏振光板1的侧面，露出透明基板2而具有亲水性，因此容易溶合到粘接剂而能得到较高的粘接强度，从而能够对安装框牢固地固接。另外，由于在侧面不存在憎水层，所以能够防止粘接剂因栅的毛细管现象而向偏振光板1的中央流入，且因粘接作业的作业性提高而能够提高光学设备的生产性。

此外，本发明并不局限于上述实施方式，在能够达成本发明的目的的范围内的变形及改良将包括在本发明内。

上述实施方式中，偏振光板1为吸收型的偏振光板，且格子状凸部3由反射层、电介质层、吸收层的层叠体构成，但是并不局限于此。例如，也可以一体化电介质层和吸收层。或者，也可以格子状凸部由反射层构成，且偏振光板1为反射型的偏振光板。

另外，上述实施方式中，在偏振光板1的另一个面（与形成有格子状凸部3的面相反侧的面）也形成憎水层4，但并不局限于此。憎水层4形成在偏振光板1的至少一个面（形成有格子状凸部3的面）即可。

另外，在上述实施方式中，包括邻接的格子状凸部3间的各槽内在内，以覆盖偏振光板1的一个面整体的方式形成憎水层4，但并不局限于此。憎水层4以至少覆盖格子状凸部3的表面的方式配置即可。

标号说明

1偏振光板；2透明基板；3格子状凸部；4憎水层。