本实用新型属于光阻涂布技术领域，具体涉及一种光阻喷嘴清洗装置及光阻涂布装置。
背景技术：
CF(彩色滤光片)基板是LCD(液晶显示器)用来实现彩色显示的主要器件，其基本构成通常包括玻璃基板、黑色矩阵、彩色色阻层等。在CF制程中，包括光阻涂布、曝光、显影等，光阻涂布是最为重要的一个环节，光阻涂布的均匀性对于显示效果都有很重要的影响。
为了使光阻涂布到基板上一致性和均匀性较好，现有技术对喷涂光阻的光阻喷嘴每工作一定时间就要对其进行清洗，请参见图1和图2，图 1是现有技术光阻喷嘴清洗装置的示意图；图2是图1的光阻喷嘴清洗装置的截面图，使用时，滚筒1上部与光阻喷嘴2接触，下部浸润在浸润槽 3中的洗涤溶剂中，滚筒1旋转，其表面对光阻喷嘴2进行刮拭以使光阻喷嘴2形成平坦的端面，同时带动洗涤溶剂对光阻喷嘴2进行清洗；随后对光阻喷嘴2进行烘干处理。清洗完成后，光阻喷嘴2对玻璃基板进行光阻涂布。
然而，在上述清洗过程中，由于滚筒的转动，会带动浸润槽中的洗涤溶剂向四周溅射，容易溅射到旁边待涂布的玻璃基板上，造成后续涂布不均匀的现象，此外也造成了洗涤溶剂一定程度上的浪费，增大了成本。
技术实现要素：
为了解决现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种光阻喷嘴清洗装置及光阻涂布装置。本实用新型要解决的技术问题通过以下技术方案实现：
本实用新型的一个方面提供了一种光阻喷嘴清洗装置，包括固定轴和滚筒，其中，
所述固定轴水平固定在光阻涂布装置的机架上；
所述滚筒套设在所述固定轴上并可绕所述固定轴转动，所述滚筒的外部设置滚筒包覆件，所述滚筒包覆件与所述滚筒同轴，且所述滚筒的外壁与所述滚筒包覆件的内壁之间构成空心腔，所述滚筒包覆件上开设有喷嘴开口和溶剂开口，所述光阻喷嘴能够通过所述喷嘴开口与所述滚筒的外壁接触，并且洗涤溶剂能够通过所述溶剂开口到达所述滚筒的外壁。
在本实用新型的一个实施例中，所述光阻喷嘴清洗装置还包括设置于所述滚筒下方的浸润槽，所述洗涤溶剂设置在所述浸润槽内，所述洗涤溶剂通过所述溶剂开口与所述滚筒的外壁接触。
在本实用新型的一个实施例中，所述滚筒包覆件包括两个半圆筒件，所述半圆筒件的两端分别设置有把手，所述把手的一端固定至所述半圆筒件的端部，另一端活动连接至所述固定轴。
在本实用新型的一个实施例中，所述滚筒包覆件的内径比所述滚筒的外径大4-8cm。
在本实用新型的一个实施例中，所述滚筒的外径为15-25cm。
在本实用新型的一个实施例中，所述滚筒包覆件的内径为25-35cm。
在本实用新型的一个实施例中，所述洗涤溶剂为PGMEA。
本实用新型的另一方面提供了一种光阻涂布装置，包括光阻喷嘴和涂布台面，以及任一上述实施例所述的光阻喷嘴清洗装置。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：
1、本实用新型的光阻喷嘴清洗装置在现有滚筒的外部设置滚筒包覆件，使得滚筒转动过程中带起的洗涤溶剂的活动被限制在滚筒包覆件与滚筒之间的间隙中，防止洗涤溶剂溅射到旁边待涂布的玻璃基板上而造成后续涂布不均匀的现象，因此提高了产品的良率。
2、本实用新型的光阻喷嘴清洗装置能够防止光阻喷嘴清洗过程中洗涤溶剂向四周溅射，因此减少了洗涤溶剂的浪费，降低了成本。
附图说明
图1是现有技术光阻喷嘴清洗装置的示意图；
图2是图1的光阻喷嘴清洗装置沿A-A线的截面图；
图3是本实用新型实施例提供的光阻喷嘴清洗装置的示意图；
图4是图3的光阻喷嘴清洗装置沿B-B线的截面图；
图5是本实用新型实施例提供的光阻喷嘴清洗装置的使用过程截面图；
图6是本实用新型实施例的一种光阻涂布装置的结构示意图。
附图标记说明：
1-滚筒；2-光阻喷嘴；3-浸润槽；4-固定轴；5-机架；6-滚筒包覆件； 601-半圆筒件；7-喷嘴开口；8-溶剂开口；9-把手；10-涂布台面；11-玻璃基板；12-光阻容器
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型做进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。
实施例一
请一并参见图3和图4，图3是本实用新型实施例提供的光阻喷嘴清洗装置的示意图；图4是图3的光阻喷嘴清洗装置沿B-B线的截面图。本实用新型实施例公开了一种光阻喷嘴清洗装置，用于在光阻涂布制程完成之后，对光阻喷嘴进行清理，以保证下次进行光阻涂布时光阻喷嘴喷出的光阻的一致性和均匀性。如图3和图4所示，本实施例的光阻喷嘴清洗装置包括固定轴4、滚筒1和浸润槽3。固定轴4水平固定在光阻涂布装置的机架5上，用于对滚筒1起支撑作用。滚筒1套设在固定轴4上并连接至电机，在本实施例中，滚筒1呈圆柱体，可以通过电机的驱动绕固定轴4做旋转运动，滚筒1用于对光阻喷嘴2进行清洁。具体地，光阻喷嘴2 位于滚筒的上方，在清洁过程中，光阻喷嘴2的底部与滚筒1的外壁接触，通过滚筒1的旋转，光阻喷嘴2上残留的已凝固光阻即可以被刮掉。
浸润槽3中容纳有洗涤溶剂，设置在滚筒1的下方。在清洗过程中，滚筒1的下方浸润在洗涤溶剂中，通过滚筒1的旋转，洗涤溶剂在滚筒1 的外壁上形成洗涤层，该洗涤层与光阻喷嘴2接触，对光阻喷嘴2上的凝固物进行进一步溶解和清理。在本实施例中，所述洗涤溶剂选用 PGMEA(丙二醇甲醚乙酸酯)，该洗涤溶剂能够对光阻喷嘴上的已凝固光阻进行溶解，以清楚残留光阻。在其他实施例中，所述洗涤溶剂也可以为其他种类的溶剂。
滚筒1的外部设置有滚筒包覆件6，滚筒包覆件6与滚筒1同轴，滚筒包覆件6的长度等于滚筒1长度。在本实施例中，滚筒1的外径为20cm，滚筒包覆件6的内径为30cm。滚筒包覆件6连接至固定轴4上。滚筒包覆件6的上部沿长度方向开设有喷嘴开口7，滚筒包覆件6的下部沿长度方向开设有溶剂开口8。滚筒包覆件6可以由抗腐蚀性能高的金属或合金制成。请参见图5，图5是本实用新型实施例提供的光阻喷嘴清洗装置的使用过程截面图。使用时，光阻喷嘴2穿过喷嘴开口7并与滚筒1接触，滚筒包覆6的下部浸润在洗涤溶剂中，洗涤溶剂穿过溶剂开口8进入滚筒包覆件6与滚筒1之间的空隙。在滚筒1旋转时，洗涤溶剂会被带起，但由于滚筒包覆件6的阻挡，始终留在滚筒包覆件6与滚筒1之间的空隙中，不会四处飞溅。通常情况下，为了涂布过程中的便利，光阻喷嘴清洗装置位于涂布台面的附近，借助于滚筒包覆件6，清洗过程中飞溅的洗涤溶剂就不会飞溅到位于涂布台面上待涂布的玻璃基板上。
进一步的，本实施例中，所述滚筒包覆件6的内径比所述滚筒1的外径大4-8cm。
具体的，滚筒包覆件与滚筒之间的空心腔一方面为滚筒转动提供空间，另一方面，从光阻喷嘴上清洗下来的污物可在该空心腔内随着滚筒的转动从溶剂开口处排出。既要避免滚筒包覆件过大，又要避免滚筒转动空间不足，因此本实施例中，滚筒包覆件的内壁到滚筒外壁的距离为2cm或者4厘米，优选为3cm。
进一步地，在本实施例中，滚筒包覆件6可以包括两个半圆筒件601，也就是说，滚筒包覆件6是由半圆筒件601组合成为包围滚筒1的圆筒状结构。半圆筒件601的两端各设置有一个把手9，每个把手9的一端固定至半圆筒件601的端部，另一端安装在固定轴4上。把手9能够从固定轴4上拆卸下来，以将两个半圆筒件601分别从滚筒1上拆卸下来进行更换或清洗。
本实施例的光阻喷嘴清洗装置在现有的滚筒外部设置滚筒包覆件，使得滚筒转动过程中带起的洗涤溶剂的活动限制在在滚筒包覆件与滚筒之间的间隙中，防止在光阻喷嘴清洗过程中洗涤溶剂向四周溅射，溅射到旁边待涂布的玻璃基板上，造成后续涂布不均匀的现象，因此提高了产品的良率。
实施例二
在上述实施例的基础上，本实施例公开了一种光阻涂布装置。请参见图6，图6是本实用新型实施例的一种光阻涂布装置的结构示意图。本实施例的光阻涂布机包括机架5、光阻喷嘴2、涂布台面10以及如以上实施例中所述的光阻喷嘴清洗装置。涂布台面10和所述光阻喷嘴清洗装置均安装在机架5上。光阻喷嘴2通过导管连接至光阻容器12中，光阻容器 12用于对光阻喷嘴2供应光阻。涂布台面10用于放置待涂布的玻璃基板 11。
本实施例的光阻涂布机的工作过程如下：
首先通过所述光阻喷嘴清洗装置对光阻喷嘴2进行清洗，除去光阻喷嘴2上残留的光阻；随后对光阻喷嘴2进行烘干处理；接着将光阻喷嘴2 移动至玻璃基板11的上方进行光阻均匀涂布；涂布完成后，光阻喷嘴2移动回到初始位置。
本实用新型光阻涂布装置中的光阻喷嘴清洗装置由于防止了光阻喷嘴清洗过程中洗涤溶剂向四周溅射，因此一定程度上减少了洗涤溶剂的浪费，减少了成本。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。