遮光板及镜头组件的制作方法

本实用新型涉及光学成像技术领域，特别地涉及一种遮光板及镜头组件。

背景技术：

随着成像技术的发展以及具有摄像功能的电子产品的广泛使用，光学镜头组件广泛应用于生活的各个领域。光学镜头组件在使用时，从镜筒的通光孔入射的光线中包括一部分杂光，这些杂光会导致在实拍画面中出现较明显的杂光，降低成像品质。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种遮光板，所述遮光板呈中空环状结构，所述遮光板上设有吸光层，所述吸光层呈蜂窝状。

优选的，所述吸光层是通过三维打印形成的。

优选的，所述遮光板包括物侧面、与所述物侧面相对设置的像侧面、以及连接所述物侧面和所述像侧面的侧壁，所述侧壁包括靠近光轴的内侧面和与所述内侧面相对设置的外侧面，所述内侧面上设置有若干所述吸光层。

优选的，所述内侧面包括自所述物侧面靠近所述光轴的边缘朝像侧弯折延伸的第一表面、自所述第一表面的远离所述物侧面的边缘朝远离光轴的方向延伸的第二表面、以及自所述第二表面的远离光轴的边缘朝远离光轴的方向倾斜延伸的第三表面；所述吸光层设置在所述第一表面和/或所述所述第二表面和/或所述第三表面上。

优选的，所述物侧面上设置有所述吸光层。

优选的，所述像侧面上设置有所述吸光层。

本实用新型还提供一种镜头组件，所述镜头组件包括镜筒和收容于所述镜筒内的镜片组，所述镜片组内包括包括上述技术方案所述的遮光板，所述遮光板设置于所述镜片组内任意两个镜片之间。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的遮光板及镜头组件，通过在遮光板上设置吸光层，吸收在镜头组件内部对成像效果形成影响的杂光，大大削减镜筒内杂光的反射现象，有效弱化了杂光对镜头组件的干扰，有效提升了成像品质。

【附图说明】

图1为本实用新型实施例的遮光板的结构示意图；

图2为图1中A的局部放大图；

图3为本实用新型实施例的镜头组件的结构示意图。

【具体实施方式】

下面通过具体实施方式结合图1、图2和图3对本实用新型作进一步详细说明，以便能够更好地理解本实用新型的方案以及其各方面的优点。在以下的实施例中，提供以下具体实施方式的目的是便于对本申请公开内容更清楚透彻的理解，而不是对本实用新型的限制。其中上、下、左、右等指示方位的字词仅是针对所示结构在附图中位置而言。

如图1和图2所示，本实用新型实施例提供一种遮光板10。该遮光板10呈中空环状结构，遮光板包括物侧面11、与物侧面11相对设置的像侧面12、以及连接物侧面11和像侧面12的侧壁，侧壁包括靠近光轴21的内侧面13和与内侧面相对设置的外侧面14，遮光板10上设有吸光层1321，吸光层1321由若干凹坑形成蜂窝状。

镜筒外部的光从镜筒的物侧经由筒壁上的通光孔入射至镜筒内，外部光线进入镜筒内后在遮光板上会出现反射现象。在本实施方式中，在遮光板上设置有吸光层1321，可以有效削减入射至遮光板上的光的反射现象，通过吸收对成像效果产生干扰的杂光，防止了光线的进一步反射，从而有效弱化了镜头组件内部的杂光现象，有效地提升了成像品质。

在本实用新型实施例中，吸光层1321是通过三维打印形成的。

如图2所示，内侧面13上设置有吸光层1321，具体地，内侧面13包括自物侧面11靠近光轴的边缘朝像侧弯折延伸的第一表面131、自第一表面131的远离物侧面11的边缘朝远离光轴的方向延伸的第二表面132、以及自第二表面132的远离光轴的边缘朝远离光轴的方向倾斜延伸的第三表面133。其中，第二表面132和第三表面133上设置有上述吸光层1321。但在实际应用中，第一表面131上也可以设置吸光层1321，以吸收不同方向上照射到该表面上的杂光，增强削减杂光能量的效果。杂光的光线入射方向如图2中带箭头的线段所示。

此外，物侧面11和像侧面12上也可以设置有上述吸光层1321，以进一步优化对杂光的吸收效果。

如图3所示，本实用新型实施例提供一种镜头组件20，镜头组件20包括镜筒24和收容于镜筒内的镜片组22，镜片组22内包括上述技术方案中的遮光板10，遮光板10设置于镜片组22内的任意两个镜片之间。

如图3所示，镜片组22包括第一镜片221、第二镜片222、第三镜片223以及第四镜片224，其中，第一镜片221、第二镜片222和第三镜片的相邻的两镜片之间设置有遮光片23，第三镜片223和第四镜片224之间设置有遮光板10。但在实际应用中，遮光板也可以位于其它镜片之间。

如图3所示，镜筒下方设置有滤光片26，滤光片下方为支架27，支架27可以支撑镜筒24。传感器28设置于镜筒24内部或者镜筒24下部，该传感器28可以为光敏传感器，用于对入射到其上的光进行感应以进一步处理。

与现有技术相比，本实用新型的遮光板及镜头组件，通过在遮光板上设置若干吸光层，吸收在镜头组件内部对成像效果形成影响的杂光，大大削减镜筒内杂光的反射现象，有效弱化了杂光对镜头组件的干扰，有效提升了成像品质。

以上所述的仅是本实用新型的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本实用新型的保护范围。