1.一种波长转换模块，其特征在于，包括基板以及波长转换层，其中：
所述基板具有粗糙表面，且所述粗糙表面包括两个第一区域以及第二区域，其中所述第二区域在自所述基板的径向方向上位于所述两个第一区域之间；以及
所述波长转换层位于所述基板上，且包括波长转换材料、结合材料以及多个漫反射粒子，其中：
所述波长转换材料散布于所述结合材料中；以及
所述多个漫反射粒子位于所述基板的所述粗糙表面上，且所述多个漫反射粒子位于所述波长转换材料与所述基板之间，其中所述第二区域范围内的所述多个漫反射粒子的密集度大于各所述第一区域范围内的所述多个漫反射粒子的密集度。
2.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，所述多个漫反射粒子的密集度是指所述多个漫反射粒子的体积百分比浓度，且所述第二区域范围内的所述多个漫反射粒子的体积百分比浓度介于60％至100％之间。
3.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，所述第二区域的表面粗糙度(Ra)大于所述两个第一区域的表面粗糙度。
4.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，所述第二区域的表面粗糙度(Ra)小于或等于所述两个第一区域的表面粗糙度。
5.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，所述粗糙表面的所述第二区域的表面粗糙度(Ra)的范围介于10微米至100微米之间。
6.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，位于所述第二区域范围内的各所述漫反射粒子之间的粒子间隙小于位于所述两个第一区域范围内的各所述漫反射粒子之间的粒子间隙。
7.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，所述基板的所述粗糙表面包括多个凹凸结构。
8.根据权利要求7所述的波长转换模块，其特征在于，分布于所述两个第一区域范围内的所述的凹凸结构具有第一平均深度，且分布于所述第二区域范围内的所述的凹凸结构具有第二平均深度，其中所述第二平均深度大于或等于所述第一平均深度。
9.根据权利要求1所述的波长转换模块，其特征在于，还包括：
氧化物陶瓷层，位于所述基板的所述粗糙表面上。
10.根据权利要求9所述的波长转换模块，其特征在于，所述氧化物陶瓷层与所述多个漫反射粒子共同形成反射层，且所述反射层包括：
两个第一反射区域，分别位于所述两个第一区域上；以及
第二反射区域，位于所述第二区域上，其中各所述第一反射区域的厚度小于所述第二反射区域的厚度。
11.根据权利要求10所述的波长转换模块，其特征在于，各所述第一反射区域的厚度小于0.05毫米，且所述第二反射区域的厚度介于0.02毫米至0.15毫米之间。
12.根据权利要求9所述的波长转换模块，其特征在于，所述氧化物陶瓷层的材质包括氧化铝或氧化钛。
13.一种投影装置，其特征在于，包括波长转换模块、激发光源、光阀以及投影镜头，其中：
所述波长转换模块包括基板以及波长转换层，其中：
所述基板具有粗糙表面，且所述粗糙表面包括两个第一区域以及第二区域，其中所述第二区域在自所述基板的径向方向上位于所述两个第一区域之间；以及
所述波长转换层位于所述基板上，且包括波长转换材料、结合材料以及多个漫反射粒子，其中：
所述波长转换材料散布于所述结合材料中；以及
所述多个漫反射粒子位于所述基板的所述粗糙表面上，且所述多个漫反射粒子位于所述波长转换材料与所述基板之间，其中所述第二区域范围内的所述多个漫反射粒子的体积百分比浓度大于或等于各所述第一区域范围内的所述多个漫反射粒子的体积百分比浓度；
所述激发光源用于发出激发光束，其中所述激发光束传递至所述波长转换模块，并经由所述波长转换模块转换为照明光束；
所述光阀位于所述照明光束的传递路径上，且用于将所述照明光束转换成影像光束；以及
所述投影镜头位于所述影像光束的传递路径上，且用于将所述影像光束转换成投影光束。
14.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，当所述激发光束被传递至所述波长转换模块时，所述激发光束于所述波长转换模块上形成光斑，且照射于所述第二区域上的所述光斑的部分的能量密度大于照射于各所述第一区域上的所述光斑的部分的能量密度。
15.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，所述第二区域范围内的所述多个漫反射粒子的体积百分比浓度介于60％至100％之间。
16.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，所述第二区域的表面粗糙度(Ra)大于所述两个第一区域的表面粗糙度。
17.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，所述第二区域的表面粗糙度(Ra)小于或等于所述两个第一区域的表面粗糙度。
18.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，所述粗糙表面的所述第二区域的表面粗糙度(Ra)的范围介于10微米至100微米之间。
19.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，位于所述第二区域范围内的各所述漫反射粒子之间的粒子间隙小于位于所述两个第一区域范围内的各所述漫反射粒子之间的粒子间隙。
20.根据权利要求13所述的投影装置，其特征在于，还包括：
氧化物陶瓷层，位于所述基板的所述粗糙表面上。
21.根据权利要求20所述的投影装置，其特征在于，所述氧化物陶瓷层的材质包括氧化铝或氧化钛。