1.一种用于制造光学装置的方法，包括以下步骤：对第一基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第一基底包括基础层以及形成在所述基础层上的间隔物和配向膜；以及对第二基底的摩擦配向膜进行摩擦，所述第二基底包括基础层和形成在所述基础层上的配向膜，其中不存在间隔物，
其中在对第一基底配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度(rs1)和在对第二基底配向膜进行摩擦时由以下方程式1确定的摩擦强度(rs2)满足以下方程式2，所述摩擦强度(rs1)在2.5至100的范围内，以及所述摩擦强度(rs1和rs2)的平均值在12至250的范围内：
[方程式1]
rs1或rs2＝2×n×m×π×n×r/(v-1)
[方程式2]
rs1<rs2
其中，rs1为在对所述第一基底配向膜进行摩擦时的摩擦强度，rs2为在对所述第二基底配向膜进行摩擦时的摩擦强度，n为摩擦次数的数，m为摩擦深度(单位：mm)，r为摩擦鼓的半径(单位：mm)，n为所述摩擦鼓的旋转速度(单位：rpm)，以及v为所述基底相对于所述摩擦鼓的相对移动速度(单位：mm/秒)。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述第一基底和所述第二基底的所述基础层为塑料膜。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其中在所述基础层上存在电极层，以及在所述电极层上形成有所述配向膜。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述配向膜为垂直配向膜或水平配向膜。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其中所述配向膜包含选自以下的一者或更多者：聚酰亚胺化合物、聚乙烯醇化合物、聚酰胺酸化合物、聚苯乙烯化合物、聚酰胺化合物和聚氧乙烯化合物。
6.根据权利要求1所述的制造方法，还进行以下步骤：在所述第一基底和所述第二基底相对设置使得各配向膜面向彼此的状态下，在所述配向膜之间形成光调制层。
7.根据权利要求1所述的制造方法，还进行以下步骤：将包含液晶化合物的光调制材料点涂在所述第一基底和所述第二基底的任一个配向膜上，以及对所述第一基底和所述第二基底中的处于与其上点涂有所述光调制材料的配向膜相对设置的状态的另一个基底进行压制，使得点涂的光调制材料填充所述配向膜之间的间隙。
8.根据权利要求6或7所述的制造方法，其中所述光调制材料还包含二色性染料。
9.根据权利要求6或7所述的制造方法，其中彼此相对设置的所述第一基底与所述第二基底之间的间隙为4μm或更大。