带取向膜的阵列基板的制造方法和液晶面板的制造方法与流程

本说明书中公开的技术涉及带取向膜的阵列基板的制造方法和液晶面板的制造方法。

背景技术：

在液晶面板中，作为使液晶分子在一对基板之间具有规则性地进行取向的方法之一，例如，用布等摩擦在基板上形成的聚酰亚胺系的取向膜的表面的摩擦法已得到广泛使用。具体而言，已广泛采用如下技术：通过一边使在表面贴有摩擦用的布的辊旋转，一边使该辊与设置有取向膜的基板相对移动，从而进行摩擦。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开平5-142542号公报

技术实现要素：

发明要解决的问题

然而，近年来，随着重视宽视角特性的ips、ffs这样的水平取向驱动被广泛展开，基板的凹凸形状变得越来越复杂，通过现有的摩擦法，难以进行没有不均的均匀的取向处理。

特别是，在一对基板之中的形成许多tft(薄膜晶体管)、像素电极等的阵列基板中，存在如下问题：由于复杂的凹凸形状而摩擦布无法充分地到达凹凸的各个角落，在完成的液晶面板中，难以得到维持夹持在基板间的液晶的初始取向状态的充分的取向限制力。在阵列基板中，与作为一对基板之中的另一个基板的cf基板不同，由于形成像素电极，取向限制力是特别重要的。另外，如果为了进行充分的取向处理而以强的压入量进行摩擦，则会产生取向膜的削屑、绒头碎屑这样的异物增加的问题。而且，还会产生由阵列基板的图案转印引起的取向紊乱、条纹不均这样的问题。这样的异物增加、取向紊乱、条纹不均的产生会导致成品率下降。

鉴于上述情况，本说明书中公开的技术的目的在于，提供一种在具有复杂的凹凸形状的阵列基板中能够实现高的取向限制力和成品率的带取向膜的阵列基板的制造方法。另外，本说明书中公开的另一技术是使用通过上述带取向膜的阵列基板的制造方法制造的阵列基板的、能够实现高的取向限制力和成品率的液晶面板的制造方法。

用于解决问题的方案

(1)本说明书中公开的技术是一种带取向膜的阵列基板的制造方法，至少包含：薄膜晶体管形成工序，在基板上形成薄膜晶体管；像素电极形成工序，在上述基板上形成像素电极；取向膜形成工序，以覆盖形成在上述基板上的上述薄膜晶体管和上述像素电极的方式形成取向膜；以及摩擦工序，通过具有与上述基板平行的旋转轴的圆柱状的第1摩擦辊和第2摩擦辊按顺序摩擦上述取向膜，设置在上述第1摩擦辊的外周的第1摩擦材料由与设置在上述第2摩擦辊的外周的第2摩擦材料相比弹力、韧性比较强的材质形成，上述第1摩擦辊和上述第2摩擦辊均设定为向将上述基板朝向该基板相对前进的方向推出的方向旋转。

根据上述构成，对于形成有薄膜晶体管、像素电极以及覆盖它们的取向膜的基板，首先，通过在外周设置有弹力、韧性比较强的第1摩擦材料的第1摩擦辊进行摩擦，从而能够在大范围内显现出取向所需要的适当的取向限制力。在此基础上，接着，当通过在外周设置有弹力、韧性比较弱的第2摩擦材料的第2摩擦辊进行摩擦时，第2摩擦材料不仅能够到达由第1摩擦辊进行了摩擦的区域还能够到达未能被第1摩擦辊摩擦到的复杂的凹凸的各个角落来进行摩擦。另外，通过第2摩擦材料同时能够除去由于第1摩擦辊的摩擦导致起尘而产生的异物。因此，能得到阵列基板整体上没有不均的优异的取向限制力，并且成品率提高。

另外，此时，通过使第1摩擦辊和第2摩擦辊的旋转方向统一为向将基板朝向该基板相对前进的方向推出的方向旋转，能得到更高的取向限制力。这是由于，通过这样而能得到协同效果，与使一对摩擦辊的旋转方向相反的情况相比，取向处理效果进一步变大。

(2)也可以是，在上述(1)的构成中，第1摩擦材料为棉，第2摩擦材料为人造丝。

(3)也可以是，在上述(1)或(2)的构成的基础上，摩擦工序中的第1摩擦辊和第2摩擦辊被设为由单个的第2摩擦辊所摩擦的基板的延迟(δnd2)成为由单个的第1摩擦辊所摩擦的基板的延迟(δnd1)的50～60％的组合(δnd2/δnd1×100＝50～60(％))。

(4)也可以是，在上述(1)至(3)的构成的基础上，在摩擦工序中，第1摩擦辊相对于基板的压入量大于第2摩擦辊相对于基板的压入量。

(5)另外，本说明书中公开的另一技术是一种液晶面板的制造方法，包含：液晶夹持工序，使液晶夹持在带取向膜的阵列基板与带取向膜的相对基板之间，上述带取向膜的阵列基板是通过上述(1)至(4)中的任意1个构成所述的制造方法制造的，上述带取向膜的相对基板配置为与上述带取向膜的阵列基板的上述取向膜侧相对，并且在与上述带取向膜的阵列基板相对的面侧形成有相对基板侧取向膜。

发明效果

根据本说明书中公开的带取向膜的阵列基板的制造方法和液晶面板的制造方法，能够实现高的取向限制力和成品率。

附图说明

图1是示出一个实施方式的带取向膜的阵列基板的制造方法的概略图。

图2是示出液晶面板的截面构成的概略截面图。

图3是概略性地示出阵列基板的配线构成的俯视图。

附图标记说明

10：液晶面板，11a：cf基板(相对基板)，11b：阵列基板，12：液晶层(液晶)，14：tft(薄膜晶体管)，15：像素电极，20：取向膜，21a：带取向膜的cf基板(带取向膜的相对基板)，21b：带取向膜的阵列基板，25：取向膜(相对基板侧取向膜)，32：第1摩擦辊，32b：第1摩擦材料，33：第2摩擦辊，33b：第2摩擦材料。

具体实施方式

说明一个实施方式。通过本实施方式的制造方法形成的带取向膜的阵列基板21b用于构成图2所示的被设为公知的构成的液晶面板10的一对基板中的一侧基板。此外，带取向膜的阵列基板21b是指形成有经过摩擦工序的取向膜20的阵列基板11b。

首先，说明液晶面板10。如图2所示，液晶面板10具有：一对基板11a、11b；以及液晶层(液晶的一个例子)12，其配置在两基板11a、11b之间的内部空间，包含作为光学特性随着电场的施加而发生变化(具有介电常数各向异性，根据电场的施加而改变其朝向)的物质的液晶分子，液晶层12被介于两基板11a、11b之间的未图示的密封部包围而实现了密封。一对基板11a、11b中的表侧设为cf基板(相对基板的一个例子)11a，里侧设为阵列基板11b。cf基板11a和阵列基板11b均是在玻璃制的基板的内表面侧层叠形成各种膜而成的。此外，在两基板11a、11b的外表面侧分别贴附有偏振板13a、13b。

如图2和图3所示，在阵列基板11b中，作为开关元件的许多tft(thinfilmtransistor、薄膜晶体管)14和像素电极15按矩阵状排列设置，并且在这些tft14和像素电极15的周围，以包围它们的方式配设有呈格子状的栅极配线16和源极配线17。规定的图像信号从未图示的控制电路供应到各配线。像素电极15包括ito(indiumtinoxide：氧化铟锡)、zno(zincoxide：氧化锌)、izo(indiumzinkoxide：氧化铟锌)或者igzo(indiumgalliumzinkoxide：氧化铟镓锌)这样的透明电极，在阵列基板11b上形成了约30～80nm的高低差。

另外，在像素电极15的下层，隔着绝缘层18设置有与像素电极15同样地包括透明电极膜的共用电极19。这样，像素电极15和共用电极19都形成于阵列基板11b，当在两电极15、19之间产生了电位差时，会对液晶层12施加不仅包含沿着阵列基板11b的板面的成分还包含相对于阵列基板11b的板面的法线方向上的成分的边缘电场。也就是说，该液晶面板10的动作模式被设为对ips(in-planeswitching；面内开关)模式进行了进一步改良的ffs(fringefieldswitching；边缘场开关)模式。

另外，在该阵列基板11b的上表面，以覆盖tft14和像素电极15的方式形成有作为取向膜20的例如聚酰亚胺膜。

另一方面，如图2所示，在cf基板11a上，在与阵列基板11b侧的各像素电极15呈相对状的位置设置有彩色滤光片22。彩色滤光片22是r(红色)、g(绿色)、b(蓝色)这三色的着色部按矩阵状反复并排排列而成的。按矩阵状排列的彩色滤光片22的各着色部(各像素)之间由遮光部(黑矩阵)23分隔开，通过该遮光部23，防止了透射过各着色部的各色的光彼此混合所致的混色。在彩色滤光片22和遮光部23的表面，外覆膜24被重叠设置于内侧。另外，用于在其之上以规定的间隔保持与阵列基板11b之间的间隙并夹持液晶层12的未图示的柱状的ps(photospacer；感光间隔物)以规定密度配置在遮光部。另外，在外覆膜24的表面，取向膜(相对基板侧取向膜的一个例子)25被重叠设置于内侧。

接着，说明带取向膜的阵列基板21b的制造方法。此外，图1是示出一个实施方式的、形成有取向膜20的阵列基板11b的取向处理方法(摩擦工序)的概略图。首先，在基板上形成多个tft(薄膜晶体管)14和像素电极15等(薄膜晶体管形成工序和像素电极形成工序)，以覆盖这些tft14和像素电极15等的方式形成取向膜20(取向膜形成工序)。然后，将形成有该取向膜20的阵列基板11b在水平的状态下吸附保持在设置于未图示的摩擦装置的搬运装置的工作台31上。工作台31能使其传送速度(工作台移动速度)发生变化，能够根据后述的摩擦辊32、33的旋转速度来调整摩擦取向膜20的次数。

摩擦装置在工作台31的搬运路径的上方具备可旋转的一对摩擦辊32、33。一对摩擦辊32、33中的一个摩擦辊是配置在搬运方向的上游侧的第1摩擦辊32，另一个摩擦辊是与第1摩擦辊32相比配置在搬运方向的下游侧的第2摩擦辊33。

第1摩擦辊32和第2摩擦辊33均呈圆柱状，其旋转轴配置在与阵列基板11b平行并且与搬运方向正交的方向上。另外，第1摩擦辊32和第2摩擦辊33被设为长度和直径为相同尺寸。

第1摩擦辊32是在圆柱状的第1辊32a的外表面缠绕包括棉材料的布(第1摩擦材料的一个例子)32b而成的。另外，第2摩擦辊33是在圆柱状的第2辊33a的外表面缠绕包括人造丝(rayon)材料的布(第2摩擦材料的一个例子)33b而成的。从而，第1摩擦辊32的表面的弹力、韧性比第2摩擦辊33的表面的弹力、韧性强。

此外，这些第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的摩擦材料32b、33b分别不限于棉和人造丝，能使用所希望的摩擦材料。另外，第1摩擦辊32和第2摩擦辊33分别能够独个地设定旋转方向、旋转速度以及相对于阵列基板11b(工作台31)的高度等。其中，旋转速度以每单位时间摩擦辊32、33旋转的次数来定义(rpm/revolutionsperminute：每分钟的旋转次数)。另外，摩擦辊32、33的高度被设为：不仅能调整各摩擦辊32、33的摩擦材料32b、33b接触阵列基板11b的压入量(毛接触长度)，而且也能通过仅使摩擦辊32和33中的一个摩擦辊与阵列基板11b接触而将另一个摩擦辊设为与阵列基板11b分离的状态来使所缠绕的摩擦材料32b、33b中的一个摩擦材料不与阵列基板11b接触。

当在表面形成有取向膜20的阵列基板11b由搬运装置在搬运方向搬运时，上述的第1摩擦辊32和第2摩擦辊33会一边旋转一边按顺序贴靠于取向膜20的表面，并进行摩擦(摩擦工序)。此时，第1摩擦辊32和第2摩擦辊33均以向推出阵列基板11b的方向旋转(在图1中为顺时针旋转)的方式设定(以下，将向该方向旋转而进行摩擦称为向下摩擦。相对于此，将如后述的那样向将阵列基板11b推回的方向旋转而进行摩擦称为向上摩擦。)。

这样，首先，通过弹力、韧性比较强的表面的第1摩擦辊32进行摩擦，能够在大范围内显现出取向所需要的适当的取向限制力，接着，通过弹力、韧性比较弱的表面的第2摩擦辊33进行摩擦，能够对未能被第1摩擦辊32摩擦到的复杂的凹凸的各个角落进行摩擦而显现出取向限制力。另外，通过弹力、韧性弱的表面的第2摩擦辊33同时能够除去由于第1摩擦辊32的摩擦导致起尘而产生的异物。因此，能得到阵列基板11b整体上没有不均的优异的取向限制力，并且成品率提高。

另外，通过这样将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的旋转方向都设为向下摩擦，关于取向处理效果能得到协同效果，能够显现出更高的取向限制力。

另外，在本实施方式中，不是简单地变更摩擦辊32、33相对于基板的压入量(毛接触长度)，而是通过变更第1摩擦材料32b和第2摩擦材料33b的种类，从而利用摩擦材料本身的弹力、韧性的强度来使摩擦的强度由强变为弱，在这一点上是具备特征的。通过变更压入量使摩擦的强度变更由于摩擦材料的毛的弹性弯折、起尘、条纹不均等因素而受到限制，以往，未达到既满足这些要求又得到充分的取向限制力的地步。如本实施方式这样，通过利用摩擦材料本身的弹力、韧性的强度，初次实现了既不会损害其别的特性(产生众多异物、条纹不均)，又能得到具有良好的取向限制力(高的取向膜的延迟)的带取向膜的阵列基板21b。

在摩擦工序之后，在所得到的带取向膜的阵列基板21b与带取向膜的cf基板21a之间封入液晶(液晶层12)，并通过密封物进行密封，从而制造使液晶(液晶层12)夹持在一对基板21a、21b之间的液晶面板10(液晶夹持工序)，其中，带取向膜的cf基板21a配置为与该带取向膜的阵列基板21b的取向膜20侧相对，且在与带取向膜的阵列基板21b相对的面侧形成有取向膜25(相对基板侧取向膜的一个例子)。

此外，虽然带取向膜的cf基板21a是使用与上述的带取向膜的阵列基板21b同样的形态的第1摩擦辊32和第2摩擦辊33来进行摩擦处理，但它们的旋转方向是不同的，在第1摩擦辊32中使用向上摩擦，在第2摩擦辊33中使用向下摩擦。

通过这样制造的液晶面板10具备没有不均的良好的取向限制力和高的成品率。

接着，下面详细地说明具体实施上述的实施方式的制造方法的实施例和比较例。

1.基于使用了单个的摩擦辊的摩擦处理的带取向膜的阵列基板和带取向膜的伪(dummy)基板的验证

在实施例之前，通过以下的方法来进行基于使用了单个的摩擦辊的摩擦处理的带取向膜的阵列基板和带取向膜的伪基板的评价。

首先，对在基板上形成了多个tft(薄膜晶体管)14和像素电极15等(进行了薄膜晶体管形成工序和像素电极形成工序)的阵列基板11b和在基板上不具备这些图案的伪基板的表面，通过柔版印刷法以约100nm的膜厚形成聚酰亚胺膜(取向膜形成工序)，将这些带膜的基板载置于搬运装置的工作台31上的规定位置并对其进行吸附保持。然后，以20mm/sec的速度进行搬运，在表1所示的条件下，通过在直径为150mmφ的辊上缠绕有摩擦材料的单个的摩擦辊来对带膜的阵列基板和带膜的伪基板进行摩擦处理。

之后，针对所得到的各带取向膜的阵列基板，观察起尘和不均的产生频率。对于起尘频率，是使用kubotek公司制造的异物检查机来对带取向膜的阵列基板上的异物数进行计数。另外，对于不均产生频率，是对带取向膜的阵列基板的取向处理面施加水蒸气，使用卤素灯和绿色灯等进行目视确认。

另外，针对各带取向膜的伪基板，测量成为取向限制力的指标的延迟(δnd)。在测量中使用axometrics公司制造的“axoscanfaa-3series”，从带取向膜的伪基板的取向处理面的上方照射光，并测量透射光的延迟(retardation)。另外，对于延迟，是在取向膜面内以12个点进行测量，并算出平均、标准偏差以及标准偏差/平均。此外，之所以在带取向膜的伪基板中进行延迟的测量，是因为在带取向膜的阵列基板中进行测量的情况下，测量用的光由于tft14、像素电极15等的凹凸图案而发生漫反射，从而无法得到取向膜本身的准确的测量值。

在表1中示出各样本的制作条件和测量结果。

[表1]

如表1所示，将使用棉作为摩擦材料并以1000rpm的旋转速度进行向上摩擦的比较例1与比较例2进行比较可知：在毛接触长度长(压入量大)的比较例2中，虽然延迟的平均比毛接触长度短的比较例1优异，但延迟的波动(标准偏差/平均)为48％，与其它比较例相比接近于2倍，难以得到均匀的摩擦效果(取向限制力)。

另外，从上述比较例2和相比于比较例2将摩擦辊的旋转方向变更为向下摩擦的比较例3可知，设为向下摩擦能得到更高的延迟(平均)，并且抑制了波动(标准偏差/平均)。另外，通过设为向下摩擦，抑制了起尘、不均，提高了成品率。

另外，从比较例3和相比于比较例3使毛接触长度变长的比较例4、比较例5中能够得到确认，在设为向下摩擦的情况下，毛接触长度越长越能得到更优异的延迟(平均)，并且波动基本上不变。

而且，从比较例3和相比于比较例3使旋转速度提高到1200rpm的比较例6中能够得到确认，提高旋转速度的话，摩擦辊的延迟的波动会稍微改善。另外，延迟的平均、起尘以及不均基本上不变。

另一方面，将使用与棉相比弹力、韧性比较弱的人造丝作为摩擦材料并以1200rpm的旋转速度进行向下摩擦的比较例7与比较例8进行比较可知：毛接触长度短的比较例7的延迟稍低，但波动是比较例8的一半，得到了均匀的摩擦效果(取向限制力)。

另外，在表1中也一并示出各带取向膜的阵列基板的起尘和不均的评价结果。关于起尘和不均，可知向下摩擦比向上摩擦优异，另外，人造丝比棉优异。另一方面，无论是在棉时还是在人造丝时都没有观察到由于各自的毛接触长度的不同而导致的大的差。

2.基于使用了2个摩擦辊的摩擦处理的带取向膜的阵列基板和带取向膜的伪基板的评价

以表1所示的单个的摩擦辊的摩擦处理的结果为基础，在表2所示的条件下，进行基于使用了2个摩擦辊32、33的摩擦处理(摩擦工序)的带取向膜的阵列基板21b和带取向膜的伪基板的评价。摩擦处理前的带膜的基板的形成方法设为与上述1同样，搬运速度也与上述1同样地设为20mm/sec。另外，测量方法也是以与上述1同样的方法进行。在表2中示出各样本的制作条件和测量结果。

[表2]

如表2所示，在将第1摩擦材料32b和第2摩擦材料33b设为相同的材料(棉)并将摩擦辊的旋转方向设为在第1摩擦辊32中为向上摩擦而在第2摩擦辊33中为向下摩擦的比较例9中，与单独使用各摩擦辊的情况相比，对于延迟的测量值没有观察到大的变化。认为这是由于，通过将各摩擦辊的旋转方向设为相反，摩擦效果相抵消了。另外，延迟的波动也是48％，比其它的大。

接着，对一方面与比较例9同样地将第1摩擦材料32b和第2摩擦材料33b设为相同的材料(棉)而另一方面组合了与向上摩擦相比能得到比较高的延迟的向下摩擦的比较例10和比较例11进行探讨。这些比较例是第1摩擦辊32的毛接触长度(压入量)被设为相同(0.7mm)而使第2摩擦辊33的毛接触长度向变少的方向以不同的值进行了变化的比较例(0.5mm和0.6mm)。也就是说，是从强摩擦变为弱摩擦的比较例。

从表2的结果可知，首先，在组合了向下摩擦的情况下，2个摩擦辊32、33所致的延迟的值(δnd)(平均)提高到接近于独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)。另外，虽然随着第1摩擦辊32与第2摩擦辊33的毛接触长度的差变大，延迟的值(δnd)虽然本来就由于合计值变小而下降，但接近于独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)(与合计值的差α变小)。换言之，独个摩擦辊的各延迟不容易被损害。认为这是由于，摩擦材料本来就具有布的毛的长度上的波动，长的毛和短的毛发挥了各有优势的效果，但通过使毛接触长度(压入量)的差变大，除了毛的长度之差所带来的效果之外，还能够使这些毛的压入量之差所带来的效果在更大的范围内得到发挥。

而且，从具体的数值来看，可知：由第2摩擦辊33进行了处理的基板相对于由第1摩擦辊32进行了处理的基板的延迟的比例(δnd2/δnd1×100(％))在比较例10中为68％，在比较例11中为82％，比例小的(即延迟之差大的)比较例10中的2个摩擦辊32、33所致的延迟(δnd)更接近于独个摩擦辊的延迟所致的合计值(δnd1+δnd2)(即，差α更小)。关于2个摩擦辊32、33各自的延迟的优选比例，后面会更详细地进行分析。

另外，在第1摩擦材料32b和第2摩擦材料33b均使用棉的这些比较例9～11中，都产生了略多的灰尘，也观察到不均。

在上述的比较例10和比较例11中，示出了通过变更毛接触长度(压入量)使摩擦的强度由强变弱的例子，而例如比较例12和比较例13不仅通过压入量还通过摩擦材料的材质来使摩擦的强度发生变化。具体而言，通过使用弹力、韧性比较弱的人造丝作为第1摩擦材料32b，使用弹力、韧性比较强的棉布作为第2摩擦材料33b，从而使摩擦的强度由弱变强。对这些比较例12和比较例13的结果进行探讨，关于由2个摩擦辊32、33进行了摩擦处理的基板的延迟(δnd)，仅得到了与单独使用第2摩擦辊33的情况下的结果(δnd2)相近的延迟。也就是说，基本上没有得到第1摩擦辊32的效果。由此可知，在使摩擦的强度由弱变强的情况下，基本上不能得到进行2次摩擦的效果。

与上述的比较例相比，在使用弹力、韧性比较强的棉作为第1摩擦材料32b，之后使用弹力、韧性比较弱的人造丝作为第2摩擦材料33b，使毛接触长度不发生变化而仅通过摩擦材料的材质使摩擦的强度由强变弱的实施例1中，得到了与分别单独使用第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的情况下的延迟的合计值(δnd1+δnd2)相近的延迟(δnd)。这虽然是与比较例10和比较例11同样的结果，但在实施例1中，相比于这些比较例，波动(标准偏差/平均)得到了改善。另外，在实施例1中，起尘、不均也得到改善，成品率良好。认为这些结果是由于使用了人造丝作为第2摩擦材料33b。

而且，在与实施例1同样地使用棉作为第1摩擦材料32b，使用人造丝作为第2摩擦材料33b并且使毛接触长度(压入量)也由大变小从而使摩擦的强度由强变弱的实施例2和实施例3中，都得到了超过独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)的高的延迟(δnd)(α变为+)。也就是说，在这些实施方式中，可以说关于延迟得到了协同效果。另外，波动(标准偏差/平均)也与实施例1同等地得到了抑制。

实施例2和实施例3是第1摩擦辊32的毛接触长度被设为相同(0.7mm)而使第2摩擦辊33的毛接触长度向变少的方向以不同的值进行了变化的实施例(0.4mm和0.5mm)。将这些实施例2与实施例3进行比较，与实施例3相比，在第1摩擦辊32与第2摩擦辊33的毛接触长度之差大的实施例2中，延迟(δnd)更高，并且与独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)之差(+α)也更大。也就是说，得到了大的协同效果。

在此，对第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的、在单独使用的情况下得到的延迟的优选比例(δnd2/δnd1)进行探讨，可知：由第2摩擦辊33进行了处理的基板相对于由第1摩擦辊32进行了处理的基板的延迟的比例(δnd2/δnd1×100(％))在实施例2中为52％，在实施例3中为60％，比例小的(即延迟之差大的)实施例2中的2个摩擦辊32、33所致的延迟(δnd)更大于独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)(即，α更大)。但是，在差变得过大的情况下，第2摩擦辊33的值(δnd2)本身必然变小，因此，在第2摩擦辊33被设定为表现出第1摩擦辊32的延迟(δnd1)的50％～60％的值的摩擦辊的情况下，能最高效地得到独个摩擦辊所致的延迟的合计值(δnd1+δnd2)以上的延迟(δnd)。

而且，在实施例2和实施例3中，与比较例相比，起尘和不均较少。认为这是由于，通过使用人造丝作为第2摩擦材料33b，从而弹力、韧性弱的人造丝起到了除去由于第1摩擦辊32的摩擦处理而产生的异物的效果。

根据以上的结果能够得到确认，在首先通过弹力、韧性比较强的棉进行摩擦，之后通过弹力、韧性比较弱的人造丝进行摩擦的情况下，摩擦效果倍增，并得到了优异的延迟。另外，经过这种摩擦工序得到的液晶面板10的起尘、不均少。

＜其它实施方式＞

本说明书中公开的技术不限于通过上述记述和附图所说明的实施方式，例如，如下这样的实施方式也包含在技术范围内。

(1)在上述实施例2和实施例3中，虽然将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的旋转速度设为不同的旋转速度，但旋转速度也可以是相同的。

(2)在上述实施例中，虽然将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的直径设为相同的尺寸，但也可以使用直径不同的摩擦辊。

(3)在上述实施例中，虽然将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的旋转轴设定为与搬运方向正交的方向，但旋转轴也可以不与搬运方向正交。

(4)在上述实施例2和实施例3中，虽然第1摩擦辊32相对于基板的压入量(毛接触长度)设为大于第2摩擦辊33的压入量，并且第1摩擦辊32的旋转速度设定为小于第2摩擦辊33的旋转速度，但压入量、旋转速度不限于上述实施例，能够适当地进行变更。即，不一定要成为这种关系，只要是根据例如摩擦材料的种类等来调整以使第1摩擦辊32成为较强摩擦即可，也可以将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的压入量(毛接触长度)如实施例1那样设为相同或者将第2摩擦辊33的压入量设为较大，或是将第1摩擦辊32和第2摩擦辊33的旋转速度如实施例1那样设为相同或者将第2摩擦辊33的旋转速度设定为较小。

(5)搬运装置的移动速度能够适当地进行变更。