彩膜基板及其制作方法及显示面板及显示装置与流程

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及彩膜基板及其制作方法及显示面板及显示装置。

背景技术：

在进行面板设计时，一般通过叠层设计，完成彩膜基板cf结构图如图1。图1所示，在衬底基板100上设有黑色矩阵200，在黑色矩阵200上设有色阻层，色阻层包括红色色阻层301、绿色色阻层302、蓝色色阻层303，在色阻层上层设有金属氧化物层400，作为公共电极层，在金属氧化物层400上层设有隔垫物500，隔垫物500上层和公共电极层上设有配向膜600。

随着终端产品分辨率的不断提高，需要不断提高隔垫物解析度，但受限于隔垫物材料附着力的限制，针对高分辨率的隔垫物图案设计，容易造成隔垫物图案脱落，进而影响产品最终形态。

在现有隔垫物材料附着力的条件下，如何通过优化设计，辅助增强隔垫物材料附着力成为需要解决的问题。

技术实现要素：

为解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板及其制作方法及显示面板及显示装置。

本发明提供的技术方案如下：

本发明公开了一种彩膜基板，包括阵列设置在所述衬底基板上的多个黑色矩阵、设置在相邻黑色矩阵之间的色阻层、覆盖多个黑色矩阵和色阻块的公共电极层以及位于公共电极层上的多个隔垫物，多个所述黑色矩阵在所述衬底基板上形成阵列分布的多个子像素区域，所述色阻层包括一一对应设置在多个所述子像素区域的多个色阻块；

与每个所述隔垫物位置对应的至少一个色阻块的上表面设有至少一个色阻凸起。

优选的，所述色阻凸起呈锯齿状。

优选的，所述色阻凸起为并列设置的两个梯形。

优选的，所述色阻凸起为梯形。

优选的，相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均设有一个色阻凸起。

优选的，相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均分别设有相互配合的色阻凸起。

本发明还公开一种显示面板，所述显示面板包括所述的彩膜基板。

本发明还公开一种显示装置，所述显示装置包括所述的显示面板。

本发明还公开一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括：

在衬底基板上形成黑色矩阵；所述黑色矩阵在所述衬底基板上形成阵列分布的多个子像素区域；

在黑色矩阵上形成色阻层；所述色阻层包括一一对应设置在所述子像素区域内的多个色阻块；至少有一个色阻块的上表面设有至少一个色阻凸起；

在所述色阻层上形成公共电极层；在所述公共电极层上形成多个隔垫物；所述隔垫物位于设有色阻凸起的色阻块的上方。

优选的，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层以及蓝色色阻层；所述红色色阻层包括多个红色色阻块，所述绿色色阻层包括多个，所述蓝色色阻层包括多个蓝色色阻块；

所述色阻凸起形成于所述红色色阻块、所述绿色色阻块或所述蓝色色阻块上；

所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块均通过一次曝光和显影制程制得，其中，所述色阻凸起通过利用半色调掩膜版一次曝光和显影制得。

优选的，所述方法还包括在所述公共电极层上形成配向膜。

与现有技术相比，本发明在现有隔垫物材料附着力的条件下，通过优化色阻块的设计，辅助增强隔垫物材料附着力。

附图说明

下面将以明确易懂的方式，结合附图说明优选实施方式，对本发明予以进一步说明。

图1为现有彩膜基板示意图；

图2为本发明一种彩膜基板的实施例一示意图；

图3为本发明一种彩膜基板的实施例二示意图；

图4为本发明一种彩膜基板的实施例三示意图；

图5为本发明一种彩膜基板的实施例四示意图；

图6为本发明一种彩膜基板的实施例五示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对照附图说明本发明的具体实施方式。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，并获得其他的实施方式。

为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本发明相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。

本发明在现有隔垫物材料附着力的条件下，通过优化设计，辅助增强隔垫物材料附着力。

本发明公开了一种彩膜基板，包括阵列设置的多个黑色矩阵、设置在相邻黑色矩阵之间的色阻层、覆盖多个黑色矩阵和色阻块的公共电极层以及位于公共电极层上的多个隔垫物，多个所述黑色矩阵在所述衬底基板上形成阵列分布的多个子像素区域，所述色阻层包括一一对应设置在多个所述子像素区域的多个色阻块；与每个所述隔垫物位置对应的至少一个色阻块的上表面设有至少一个色阻凸起。

具体的，一般相邻两个色阻块在黑色矩阵处相交，所述隔垫物一般设置在两个色阻块交界位置的上方，该两个色阻块中至少有一个色阻块的上表面设有至少一个色阻凸起，该色阻凸起上方为公共电极层，在公共电极层上方为隔垫物，通过这种设计，色阻块通过色阻凸起经由公共电极层与上方隔垫物的底部贴合，接触面积增加，增加了隔垫物材料附着力。

优选的，所述色阻凸起呈锯齿状。

优选的，所述色阻凸起为并列设置的两个梯形。

优选的，所述色阻凸起为梯形。

优选的，相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均设有一个色阻凸起。

优选的，相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均分别设有相互配合的色阻凸起。

需要说明的是本发明中隔垫物下部色阻块上的凸起图案设计，包括但不限于锯齿型、梯型，具体的图案数量可以是单个，也可以是多个，对此不作具体限定。

具体的，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层以及蓝色色阻层；所述红色色阻层包括多个红色色阻块，所述绿色色阻层包括多个，所述蓝色色阻层包括多个蓝色色阻块；

所述色阻凸起形成于所述红色色阻块、所述绿色色阻块或所述蓝色色阻块上；所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块均通过一次曝光和显影制程制得，其中，所述色阻凸起通过利用半色调掩膜版一次曝光和显影制得。

具体的，所述彩膜基板还包括设置在所述公共电极层上的配向膜。

本发明还公开了上述彩膜基板的制作方法，包括步骤：

在衬底基板上形成黑色矩阵；所述黑色矩阵在所述衬底基板上形成阵列分布的多个子像素区域；

在黑色矩阵上形成色阻层；所述色阻层包括一一对应设置在所述子像素区域内的多个色阻块；至少有一个色阻块的上表面设有至少一个色阻凸起；

在所述色阻层上形成公共电极层；

在所述公共电极层上形成多个隔垫物；多个所述隔垫物分别设置在设有色阻凸起的色阻块的上方。

所述方法还包括在所述公共电极层上形成配向膜。

下面以具体实施例来详细说明本发明：

实施案例一

如图2所示，利用多灰阶光罩，对红色色阻层301与黑色矩阵200的重叠处进行锯齿型图案设计，即对隔垫物500下方对应的红色色阻块进行图案设计，在上表面设有多个色阻凸起(图中圆圈部分所示)，形成锯齿型，增加隔垫物500底部与红色色阻层301的接触面积，从而增强隔垫物500材料附着力。

本发明实施例一对应的彩膜基板制作方法具体包括以下步骤：

1、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第一层黑色矩阵200；

2、在衬底基板100上完成红色色阻层的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第一区a、第二区b进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第二层红色色阻层301；

3、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第三层绿色色阻层302；

4、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第四层蓝色色阻层303；

5、在衬底基板100上通过物理沉积，制作第五层金属氧化物层400，用作公共电极层；

6、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第六层隔垫物500。

实施案例二：

如图3所示，利用多灰阶光罩，对红色色阻层301与黑色矩阵200的重叠处进行双梯型图案设计，即对隔垫物500下方对应的红色色阻块进行图案设计，在上表面设有多个梯形的色阻凸起(图中圆圈部分所示)，增加隔垫物500底部与红色色阻层301的接触面积，从而增强隔垫物500材料附着力。

1.在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第一层黑色矩阵200；

2.在衬底基板100上完成红色色阻层301的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第一区a、第二区b进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第二层红色色阻层301；

3.在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第三层绿色色阻层302；

4.在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第四层蓝色色阻层303；

5.在衬底基板100上通过物理沉积，制作第五层金属氧化物层400；

6.在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第六层隔垫物500。

实施案例三：

如图4所示，利用多灰阶光罩，对红色色阻层301、绿色色阻层302、蓝色色阻层303的色层与黑色矩阵200的重叠处进行双梯型图案设计(即相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均设有一个呈梯形的色阻凸起)，即对隔垫物500下方对应的红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块进行图案设计，在红色色阻块上表面、绿色色阻块上表面以及蓝色色阻块上表面分别设有色阻凸起(图中圆圈部分所示)，增加隔垫物500底部与红色色阻层301、绿色色阻层302、蓝色色阻层303的接触面积，从而增强隔垫物500材料附着力。

1、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第一层黑色矩阵200；

2、在衬底基板100上完成红色色阻层的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第一区a、第二区b进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第二层红色色阻层301；

3、在衬底基板100上完成绿色色阻层302的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第三区c、第四区d进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第三层绿色色阻层302；

4、在衬底基板100上完成绿色色阻层302的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第五区e、第六区f进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第四层蓝色色阻层303；

5、在衬底基板100上通过物理沉积，制作第五层金属氧化物层400，用作公共电极；

6、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第六层隔垫物500。

实施案例四：

如图5所示，利用多灰阶光罩，对红色色阻层301与黑色矩阵200的重叠处进行单梯型图案设计(此梯型柱高于实施例二的梯型柱高)，即对隔垫物500下方对应的红色色阻块进行图案设计(图中圆圈部分所示)，在上表面设有单梯型的色阻凸起增加隔垫物500底部与红色色阻层301的接触面积，从而增强隔垫物500材料附着力。

1、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第一层黑色矩阵200；

2、在衬底基板100上完成红色色阻层301的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩分别对第一区a、第二区b进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第二层红色色阻层301；

3、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第三层绿色色阻层302；

4、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第四层蓝色色阻层303；

5、在衬底基板100上通过物理沉积，制作第五层金属氧化物层400，用作公共电极层；

6、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第六层隔垫物500。

实施案例五：

如图6所示，利用多灰阶光罩，对红色色阻层301与黑色矩阵200的重叠处进行部分凹槽型图案设计，即对隔垫物500下方对应的红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块进行图案设计，在绿色色阻块上表面设有色阻凸起(图中左边圆圈部分所示)，该色阻凸起与上方的隔垫物贴合，增强隔垫物的附着力，即相邻两个色阻块在靠近彼此的端部均分别设有相互配合的色阻凸起。

位于右边隔垫物下方的蓝色色色阻块上表面设有色阻凸起(图中右边圆圈部分所示)，该色阻凸起与上方的隔垫物贴合，增加隔垫物500底部与蓝色色阻层301的接触面积，从而增强隔垫物500材料附着力。

1、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第一层黑色矩阵200；

2、在衬底基板100上完成红色色阻层301的涂布、预烘烤后，利用多灰阶光罩对第一区a、第二区b进行不同能量的曝光，并通过显影、固化制作第二层红色色阻层301；

3、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第三层蓝色色阻层303；

4、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第四层绿色色阻层302；

5、在衬底基板100上通过物理沉积，制作第五层金属氧化物层400，用作公共电极层；

6、在衬底基板100上通过涂布、预烘烤、曝光、显影、固化制作第六层隔垫物500。

需要说明的是，上述不同实施例中隔垫物500下部色阻块的图案设计，包括色阻凸起，色阻凸起形状但不限于锯齿型、梯型等，且隔垫物500下部色阻块上的色阻凸起图案数量，可以是单个，也可以是多个。

还需要说明的是，色阻凸起可以在隔垫物下部的某一色阻块上，也可以在隔垫物下部的多个不同色阻块上。

还需要说明的是，本发明不限于开口区，隔垫物种类，如非显示区隔垫物挡墙类设计。

还需要说明的是，本发明对于面板的显示模式不作限定。

应当说明的是，上述实施例均可根据需要自由组合。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。