扩散板、制造方法及投影系统与流程

1.本技术涉及光学领域，更具体地，涉及扩散板、制造方法及投影系统。


背景技术：

2.光学扩散板是使入射光光强在空间一定范围内均匀分布的光学器件，在激光雷达，抬头显示(hud)、辅助驾驶等系统中广泛应用。基于对入射光的扩散原理不同，主要分为掺杂粒子型和微结构型两类。相比于传统的掺杂粒子型扩散板，微结构型扩散板在扩散角大小、光场强度均匀度以及清晰度等方面具有良好可控性。
3.在一些hud系统中，图像生成单元(pgu)先将图像投影到扩散板(diffuser)上，随后再将图像投影到挡风玻璃上。随着hud技术的发展，对hud系统投影图像的分辨率和清晰度提出了更高的要求。因此，对相关的配套器件诸如扩散板的性能也提出了更高的要求。
4.基于微机电系统(mems)的pgu通常是点扫描式成像。现有的微透镜型扩散板，对该种入射光进行扩散后光场强度均匀度较小，从而影响投影图像的质量。


技术实现要素：

5.本技术提供了一种可至少部分解决现有技术中存在的上述问题的扩散板、制造方法及投影系统。
6.本技术的一个方面提供了一种扩散板。该扩散板包括：基底，具有第一平面；以及微透镜阵列，设置于基底，并包括沿第一平面设置的多个微透镜；其中，每个微透镜的光轴与第一平面的法线方向形成的倾斜角根据微透镜在微透镜阵列中的位置而设置，每个倾斜角相互不同。
7.在一个实施方式中，微透镜可用于扩散入射至微透镜的入射光，其中，入射光与第一平面的法线方向形成入射角，并且倾斜角与对应的入射角正相关。
8.在一个实施方式中，对应于每个微透镜，倾斜角的角度值与所述入射角的角度值之比可为常量。
9.在一个实施方式中，常量可具有
±
10％的误差范围。
10.在一个实施方式中，多个微透镜的光轴可都朝向第一平面的一个基准点倾斜。
11.在一个实施方式中，微透镜阵列中的多个微透镜的排布方式可包括：矩形排布、正多边形排布和不规则排布。
12.在一个实施方式中，微透镜阵列中相邻的微透镜可彼此连接。
13.在一个实施方式中，多个微透镜的面型可相同。
14.在一个实施方式中，各个微透镜的面型可包括球面、非球面或者自由曲面。
15.本技术的另一个方面提供了一种扩散板的制造方法。该扩散板包括基底以及在基底上形成的微透镜阵列，微透镜阵列包括沿基底的第一平面设置的多个微透镜，该方法包括：根据微透镜位于微透镜阵列中的位置，设定每个微透镜的倾斜角，其中，倾斜角由微透镜的光轴与第一平面的法线方向限定，并且每个倾斜角相互不同。
16.在一个实施方式中，设定每个微透镜的倾斜角的步骤可包括：设定微透镜的面型；使来自外部的试验光以非零的试验入射角入射至微透镜阵列中的微透镜，其中，试验光和第一平面的法线方向形成试验入射角；设定微透镜的对应于试验入射角的试验倾斜角，以使试验光经微透镜扩散后的光场强度均匀度大于阈值；计算试验倾斜角与试验入射角的比值；以及使入射光入射至微透镜阵列中的微透镜，并根据比值与入射光和第一平面的法线方向形成的入射角，设定每个所述微透镜的倾斜角。
17.在一个实施方式中，阈值可为90％。
18.在一个实施方式中，设定微透镜的对应于试验入射角的试验倾斜角的步骤包括：通过九点计算法获取光场强度均匀度。
19.在一个实施方式中，倾斜角的角度值与入射角的角度值的比值可具有
±
10％的误差范围。
20.在一个实施方式中，该方法还包括：按照矩形排布、正多边形排布和不规则排布中的至少一种排布方式在基底形成包括多个微透镜的微透镜阵列。
21.在一个实施方式中，该方法还包括：按照相邻的微透镜彼此连接的方式，在基底形成微透镜阵列。
22.本技术的另一个方面还提供给了一种投影系统。该投影系统包括：至少一个图像生成单元，用于发出携带有图像信息的光；至少一个如上述实施方式所描述的扩散板，每个微透镜阵列用于将对应的一个图像生成单元发出的携带有图像信息的光进行扩散；以及投影模块，用于投射扩散后的光。
23.在一个实施方式中，微透镜阵列位于基底的朝向携带有图像信息的光的一侧。
24.在一个实施方式中，图像生成单元包括：光源；以及微机电系统，用于提供图像信息，并使光源发出的光携带有图像信息。
25.在一个实施方式中，携带有图像信息的光是点扫描光束；微透镜用于扩散入射至微透镜的点扫描光束。
26.根据本技术所提供的扩散板、制造方法以及投影系统，经过处于不同位置而倾斜角不同的各个微透镜扩散后，可以提高具有不同入射角的入射光的扩散光场的均匀性，实现消散斑的作用。并且使经由扩散板扩散后的不同位置处的扩散光的发散角相同。此外，当该扩散板应用于投影系统时，可以提高投影图像的画面均匀性。
附图说明
27.通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
28.图1是根据本技术实施方式的扩散板的结构示意图；
29.图2是根据本技术实施方式的微透镜的透视图；
30.图3是根据本技术实施方式的微透镜阵列的灰度示意图；
31.图4是根据本技术实施方式的微透镜的侧视图；
32.图5是根据本技术实施方式的扩散板的光路示意图；
33.图6是根据本技术实施方式的倾斜角为0
°
时的微透镜接收以0
°
入射角入射的扩散光场；
34.图7是根据本技术实施方式的倾斜角为0
°
时的微透镜接收以10
°
入射角入射的扩散光场；
35.图8至图10是根据本技术实施方式的具有相应的倾斜角的微透镜接收以0
°
、5.5
°
以及11
°
的入射角入射的扩散光场；
36.图11是根据本技术实施方式的设定每个微透镜的倾斜角的步骤流程图；以及
37.图12是根据本技术实施方式的投影系统的示意图。
具体实施方式
38.为了更好地理解本技术，将参考附图对本技术的各个方面做出更详细的说明。应理解，这些详细说明只是对本技术的示例性实施方式的描述，而非以任何方式限制本技术的范围。
39.本文使用的术语是为了描述特定示例性实施方式的目的，并且不意在进行限制。当在本说明书中使用时，术语“包含”、“包含有”、“包括”和/或“包括有”表示存在所述特征、整体、元件、部件和/或它们的组合，但是并不排除一个或多个其它特征、整体、元件、部件和/或它们的组合的存在性。
40.本文参考示例性实施方式的示意图来进行描述。本文公开的示例性实施方式不应被解释为限于示出的具体形状和尺寸，而是包括能够实现相同功能的各种等效结构以及由例如制造时产生的形状和尺寸偏差。附图中所示的位置本质上是示意性的，而非旨在对各部件的位置进行限制。
41.除非另有限定，否则本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属技术领域的普通技术人员的通常理解相同的含义。诸如常用词典中定义的术语应被解释为具有与其在相关领域的语境下的含义一致的含义，并且将不以理想化或过度正式的意义来解释，除非本文明确地如此定义。
42.下面将结合附图对本技术的实施方式进行详细地说明。
43.图1是根据本技术实施方式的扩散板100的结构示意图。如图1所示，扩散板100可包括微透镜阵列110和基底120。基底120可为薄板状结构，具有第一侧和相对于第一侧的第二侧。微透镜阵列110可位于基底120的第一侧。应该理解的是，微透镜阵列110也可位于基底120的第二侧。也就是说，微透镜阵列110可设置在基底120的任意一侧上。
44.此外，基底120可具有作为参考面的第一平面121。微透镜阵列110可以与基底120一体成型，通过例如光刻的方式形成微透镜阵列110的表面，此时第一平面121可以为一个虚拟的参考面，也可以认为各微透镜的镜面的最低点位于第一平面121处。微透镜阵列110与基底120也可以是不同的材质。图1中的第一平面121可以与基底120的左侧面平行。
45.微透镜阵列110可包括多个微透镜，例如第一微透镜111和第二微透镜112。这些微透镜的数目可从几万至几百万不等。此外，微透镜的尺寸可为10-100μm。本领域技术人员应理解的是，图1仅仅示出了本技术实施方式中扩散板100的结构形式，其微透镜阵列110中的微透镜数目和尺寸不应将其作为实际情况进行参考。
46.微透镜阵列110可对来自外部的入射光进行扩散，并且微透镜阵列110中的每个微透镜均可对来自外部的入射光进行扩散。具体地，来自外部的入射光可从基底120的设置有微透镜阵列110的一侧入射，进而经过微透镜阵列110中的各个微透镜后，以一定的发散角
出射，从而实现对入射光进行扩散。
47.图2为根据本技术实施方式的第一微透镜111的透视图。图3为根据本技术实施方式的微透镜阵列110的灰度示意图。如图2所示，第一微透镜111可为微透镜阵列110中多个微透镜的其中之一。第一微透镜111可具有第二平面1111和镜面1112。第二平面1111可为正方形，镜面1112可为与第二平面1111相对的曲面。因此，第一微透镜111可为具有一个曲面表面的大致的四棱柱体。
48.第一微透镜111的镜面1112的面型可利用但不限于公式(1)进行限定：
[0049][0050]
如图2所示，镜面1112的面型依据第一光轴s1设置，镜面1112与第一光轴s1的交点可视为公式(1)所依据的原点。其中，r
x
为镜面1112上的一点在x轴方向上与第一微透镜111的第一光轴s1的距离；ry为镜面1112上的一点在y轴方向上与第一微透镜111的第一光轴s1的距离；c
x
为在x轴方向上的曲率半径的倒数；cy为在y轴方向上的曲率半径的倒数；k
x
为在x轴方向上的圆锥系数；ky为在y轴方向上的圆锥系数。
[0051]
在一个实施方式中，圆锥系数k
x
＝ky＝0.75，曲率半径r
x
＝1/c
x
＝40μm，ry＝1/cy＝19μm。
[0052]
参考图3，微透镜阵列110中的微透镜在第一平面121内的投影可以是正方形，微透镜阵列110中的微透镜可按矩形排布的方式排布在第一平面121上。第一微透镜111的两边长度满足pa＝pb＝36μm。
[0053]
图4为根据本技术实施方式的第一微透镜111的侧视示意图。如图4所示，第一微透镜111的第一光轴s1与第一平面121的法线w形成第一倾斜角α1。第二微透镜112可具有第二倾斜角α2。由于第一微透镜111和第二微透镜112位于微透镜阵列110中的位置的不同，因此，第一微透镜111的第一倾斜角α1和第二微透镜112的第二倾斜角α2不同。
[0054]
上文中所描述的多个微透镜根据其位于微透镜阵列110中的位置不同，每个微透镜相对于基板120的第一平面121的倾斜角不同。具体地，一个倾斜角的角度值及其倾斜方向中的至少一者与其他的倾斜角的不同。示例性地，两个倾斜角的角度值可以相同，但是倾斜方向不同。再一个示例中，两个倾斜角的倾斜方向可以相同，但角度值不同。
[0055]
图5为根据本技术实施方式的扩散板100光路示意图。来自外部的入射光入射至微透镜阵列110中的微透镜，该入射光和基底120所在的第一平面121的法线之间的夹角为入射角。示例性地，当该实施方式的扩散板100应用于hud系统时，通常情况下，来自hud系统的pgu的入射光为非平行的入射光，并且根据光源的摆放位置，入射光入射至微透镜阵列110的各个微透镜的入射角是可确定的。
[0056]
如图5所示，来自pgu的第一入射光l1和第二入射光l2从基底120设置有微透镜阵列110的一侧入射，进而分别入射至微透镜阵列110的第一微透镜111和第二微透镜112。第一入射光l1和第二入射光l2可以是被同时发出的锥形光束的两部分。示例性地，当pgu发出点扫描光束时，第一入射光l1和第二入射光l2是该点扫描光束扫描到不同位置时的光。第一入射光l1和第二入射光l2可以携带不同的信息。
[0057]
第一入射光l1和基底120的第一平面121的法线之间形成第一入射角θ1。同样地，
第二入射光l2可具有第二入射角θ2。由于来自pgu的入射光为非平行的入射光，因此，第一入射光l1的第一入射角θ1和第二入射光l2的第二入射角θ2可具有不同的角度值，并且可根据hud系统中pgu单元和扩散板100的布置方式，确定第一入射角θ1和第二入射角θ2的角度值。进一步地，第一微透镜111的第一倾斜角α1与第一入射光l1的第一入射角θ1正相关。
[0058]
图6为根据本技术实施方式的倾斜角为0
°
时的微透镜接收以0
°
入射角入射的扩散光场。图7为根据本技术方式的倾斜角为0
°
时的微透镜接收以10
°
入射角入射的微透镜的扩散光场。作为示例性实施方式，如图6所示，微透镜以固定的倾斜角，例如0
°
，设置在基底的第一侧，入射光以0
°
的入射角入射至该微透镜时，可以实现均匀扩散，扩散角可为29
°×
12
°
。
[0059]
如图7所示，微透镜以固定的倾斜角，例如0
°
，设置在基底的第一侧，入射光以10
°
的入射角入射至该微透镜时，由于入射光的入射角发生变化，微透镜不能使入射光均匀地扩散。由此可知，该微透镜仅能够对指定入射角的入射光实现均匀扩散。换言之，现有的扩散板中，多个微透镜具有相同的倾斜角。当将扩散板应用于非平行的光源，例如点光源时，无法保证位于微透镜阵中各个微透镜可使不同入射角的入射光均匀地扩散，从而无法保证经扩散板后扩散光场的均匀性。
[0060]
根据本技术实施方式的扩散板100的微透镜阵列110中的每个微透镜可具有不同的倾斜角，当以不同入射角入射至相应的倾斜角的各个微透镜时，可以保证各个微透镜均能够对入射光进行均匀地扩散，从而提高扩散后的扩散光场均匀性。
[0061]
在本技术的一个实施方式中，每个微透镜的倾斜角与入射至该微透镜的入射光的入射角正相关。具体地，倾斜角的倾斜方向与入射角的方向大致相同。同时，当入射至任一微透镜的入射光的入射角具有较大的角度值时，则对应的微透镜的倾斜角也应具有较大的角度值。通过对倾斜角和入射角的数值关系的限定，便于对倾斜角根据入射角进行调控。
[0062]
在本技术的一个实施方式中，微透镜的倾斜角和入射至该微透镜的入射光的入射角之比为常量a。示例性地，第一微透镜111的第一倾斜角α1、第二微透镜112的第二倾斜角α2、入射至第一微透镜111的第一入射光l1的第一入射角θ1以及入射至第二微透镜112的第二入射光l2的第二入射角θ2可满足：α1/θ1＝α2/θ2＝a。应该理解的是，任一微透镜的倾斜角的角度值与入射至该微透镜的入射光的入射角的角度值的比值均可满足a。通过对倾斜角和入射角的进一步限定，便于根据入射角对相应的微透镜的倾斜角进行调控。
[0063]
特别地，各入射光可以基于大致同一点发出，进而经过该点的入射光中包括垂直于第一平面121的入射光，该点在第一平面121的投影即基准点。基准点可以在微透镜阵列110内也可以在微透镜阵列110外。微透镜阵列110中的微透镜的光轴可以全部朝基准点倾斜。
[0064]
具体地，a的值可为0.74，即入射光以0
°
、7.5
°
以及14.9
°
的入射角入射时，相应的微透镜的倾斜角可分别为0
°
、5.5
°
以及11
°
，可使扩散光场具有较好的均匀性。图8至图10为根据本技术实施方式的具有相应倾斜角的微透镜接收0
°
、5.5
°
以及11
°
的入射角入射时的扩散光场。如图8至图10所示，根据入射角对相应的微透镜的倾斜角进行设置后，可实现以不同入射角入射至微透镜后均匀地扩散，从而保证扩散板的扩散均匀性。
[0065]
表1示出了在-14.9
°
至14.9
°
的入射角范围内对应的微透镜的倾斜角。如表1所示，入射角θ与倾斜角α在倾斜方向上相对应。换言之，微透镜的光轴朝向第一平面的一个基准
点倾斜的方向与入射角方向一致。
[0066]
入射角θ(
°
)倾斜角α(
°
)-14.9-11-12.01-8.8-9.07-6.57-6.07-4.38-3.05-2.3003.052.36.074.389.076.5712.018.814.911
[0067]
表1
[0068]
根据表1，在θ和a的基础上，可以再进行修订才得到α。具体的修订可以是为了加工方便、为了适应加工设备的客观精度或者为了相邻微透镜的镜面便于连接等。具体的修订值可在10％以内。
[0069]
在另一个实施方式中，再次参考图2，微透镜阵列的各个微透镜的镜面1112的面型可由上文中所描述的公式(1)进行限定。圆锥系数k
x
＝ky＝0.75，曲率半径r
x
＝1/c
x
＝15μm，ry＝1/cy＝10μm。并且微透镜阵列中任一微透镜的长度与宽度满足：pa＝pb＝20μm。此时，入射光经过微透镜后形成的光场的扩散角为57
°×
38
°
。
[0070]
同样地，根据上文中所描述的倾斜角与入射角的比值可满足a，并且当a的值为0.8时，可实现微透镜均匀地扩散。示例性地，当入射角分为0
°
、8
°
以及20
°
时，对应的微透镜的倾斜角可为0
°
、6.4
°
以及16
°
。
[0071]
在本技术的一个实施方式中，倾斜角与相应的入射角的比值a的误差范围可为
±
10％。具体地，当入射光入射至微透镜阵列110的微透镜的入射角可确定时，微透镜阵列110中的微透镜的倾斜角可具有负百分之十至正百分之十的误差范围，这样在不影响光场均匀性的前提下，有利于扩散板的加工制造。
[0072]
在本技术的一个实施方式中，微透镜阵列110可包括按照一定规律排列的多种排布方式。例如，微透镜阵列110可具有矩形排布、正多边形排布以及不规则排布等，以实现控制扩散后光场的视角。
[0073]
在本技术的一个实施方式中，微透镜阵列110中的每个微透镜可具有相同的面型。使微透镜阵列110中的每个微透镜的面型可相同，有利于提升对入射光的发散效果。
[0074]
在本技术的一个实施方式中，微透镜远离基底120的镜面可包括多种面型，例如球面、非球面或者自由曲面，以满足不同扩散光场的需求。
[0075]
在本技术的一个实施方式中，相邻的微透镜之间彼此连接。例如，当微透镜为近似棱柱体时，相邻的微透镜之间彼此接触连接。
[0076]
在本技术的一个实施方式中，当来自外部的入射光由激光光源所生成时，本技术一个实施方式的扩散板100可在一定程度上消除消散斑。
[0077]
本技术的一个实施方式提供了一种扩散板的制造方法，可用于制造上述实施方式中的扩散板100。该方法可包括：根据微透镜位于微透镜阵列中的位置，设定每个微透镜的倾斜角，其中，倾斜角由微透镜的光轴与基底的第一平面的法线方向限定，并且每个倾斜角相互不同。
[0078]
在本技术的一个实施方式中，扩散板可包括基底以及在基底上形成的微透镜阵列，微透镜阵列包括沿基底的第一平面设置的多个微透镜，用于对来自外部的入射光进行扩散。
[0079]
在设定每个微透镜的倾斜角的步骤中，微透镜的倾斜角可为其光轴相对于基底的第一平面的法线而设定的。并且，微透镜阵列中的微透镜的倾斜角可根据微透镜位于微透镜阵列中的位置而不同。
[0080]
图11是根据本技术实施方式的设定每个微透镜的倾斜角的步骤1000流程图。如图11所示，步骤1000可包括：
[0081]
步骤s101，设定微透镜的面型。
[0082]
步骤s102，使来自外部的试验光以非零的试验入射角入射至微透镜阵列中的微透镜，其中，试验光和第一平面的法线方向形成试验入射角。
[0083]
在步骤s102中，试验入射角可由试验光与第一平面的法线方向限定。当试验光以非零的试验入射角从扩散板设置有微透镜阵列的一侧入射，在经过微透镜阵列中的微透镜扩散后，以一定的发散角出射。此时，扩散后的光场强度均匀度较低，无法满足扩散后的光场强度均匀度的要求。
[0084]
步骤s103，设定微透镜对应于试验入射角的试验倾斜角，以使试验光经微透镜扩散后的光场强度均匀度大于阈值。
[0085]
在步骤s103中，试验光可为平行光，当此时微透镜阵列中的多个微透镜具有相同的倾斜角时，可同时设定微透镜阵列中的微透镜对应于试验入射角的试验倾斜角。并且通过计算此时扩散后的光场强度均匀度，使设定的微透镜的试验倾斜角，在经过微透镜阵列中的微透镜扩散后，可满足扩散后的光场强度均匀度，即大于光场强度均匀度的阈值。
[0086]
具体地，扩散后的光场强度均匀度可以是入射到扩散板上的光点经扩散后的最小发光强度与平均发光强度之比。扩散后的出射光分布越均匀，经扩散后的光点的最小发光强度与平均发光强度越接近，也就是说，光场强度均匀度越接近100％。
[0087]
示例性地，为了保证扩散后的出射光的均匀性，可使扩散后的光场强度均匀度大于90％。
[0088]
在本技术的一个实施方式中，光场强度均匀度的计算方法可采用逐点计算法，例如，九点计算法计算。具体地，首先，在扩散光场上提取九个测量点发光强度值；其次，计算九个测量点的发光强度值的平均值；然后，计算九个测量点的发光强度值的最小值与平均值的比值，以获得光场强度均匀度。本领域技术人员应该理解的是，还可采用其他计算方法获得扩散后的光场强度均匀度，例如，点光源平方反比例法以及线光源方位系数法等。
[0089]
步骤s104，计算试验倾斜角与试验入射角的比值。
[0090]
在步骤s104中，基于上述步骤s102可获知试验光入射至微透镜阵列中的微透镜的试验入射角。基于上述步骤s103可获知，使扩散光场的光场强度均匀度大于阈值后，设定的微透镜阵列中的每个微透镜的试验倾斜角，并且可计算微透镜的试验倾斜角与试验光的试
验入射角的比值。当微透镜的试验倾斜角与对应的试验光的试验入射角具有该比例关系时，可使扩散后的试验光以一定的发射角出射，并使其满足扩散后的光场强度均匀度。
[0091]
步骤s105，使入射光入射至微透镜阵列中的微透镜，并根据比值与入射光和第一平面的法线方向形成的入射角，设定每个微透镜的倾斜角。
[0092]
根据本技术的一个实施方式，当扩散板应用于hud系统中时，从pgu单元入射至扩散板的入射光可为非平行光。并且根据hud系统中pgu单元和扩散板的布置方式，非平行的入射光入射至微透镜阵列中的各个微透镜的入射角是可确定的。
[0093]
在步骤s105中，基于上述步骤s104计算的比值，可相应地重新设定每个微透镜的倾斜角，从而确保经重新设定倾斜角后的每个微透镜扩散后的出射光以一定的扩散角的出射，并满足光场强度均匀度的阈值。
[0094]
本领域技术人员应该理解的是，本技术的实施方式所提供的确定微透镜阵列中的微透镜的倾斜角的步骤仅仅是示例性的，还可采用其他方法确定微透镜阵列中的每个微透镜的倾斜角的大小。
[0095]
示例性地，在基底上形成微透镜阵列的方法的可采用例如光刻胶热回流法、热压膜成型法和灰度掩膜法等方法，以在基底上形成具有不同倾斜角的微透镜的微透镜阵列。
[0096]
根据本技术的一个实施方式的扩散板的制造方法，通过使微透镜阵列中的每个微透镜的倾斜角在不同位置而相互不同，可使具有不同入射角的入射光实现均匀扩散，提高扩散后的光场强度均匀度。也可根据不同的需求，使具有不同入射角的入射光通过扩散板后的出射光具有相同的发散角。
[0097]
图12为根据本技术一个实施方式的投影系统200的示意图。如图12所示，投影系统200沿着光传播的路径依次设置：图像生成单元210、扩散板220以及投影模块230。
[0098]
图像生成单元210可用于发出携带有图像信息的光。示例性地，图像生成单元210可包括光源。光源可包括led光源、激光光源或者诸如氙灯、卤素灯等的传统光源。示例性地，光源可包括用于发射红色(r)、绿色(g)、蓝色(b)等的单色激光光源。
[0099]
示例性地,图像生成单元210还可包括微机电系统(micro electro mechanical system,简称mems),用于提供图像信息，并使光源发出的光携带有图像信息。
[0100]
在一个实施方式中，当图像生成单元210包括mems系统时，携带有图像信息的光可为点扫描光束。
[0101]
扩散板220可具有与本技术实施方式中所描述的扩散板100相同的结构和作用，用于将携带图像信息的光进行扩散。示例性地，扩散板的设置有微透镜阵列的一侧朝向图像生成单元210一侧。
[0102]
在一个实施方式中，当图像生成单元携带有图像信息的光为点扫描光束时，扩散板的各个微透镜用于扩散该点扫描光束。
[0103]
投影模块230可包括球面透镜、非球面透镜以及自由曲面透镜的组合，用于投射携带有图像信息并经过扩散的光。示例性地，当投影系统200应用于hud系统时，投影模块230将图像投射至前挡风玻璃上。
[0104]
本技术的实施方式提供的投影系统，可以提高投影图像的均匀性，提高投成像品质。
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以上描述仅为本技术的较佳实施方式以及对所运用技术原理的说明。本领域技术
人员应当理解，本技术中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本技术中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。