使用目标或产品的形状双折射的晶片对准的制作方法

文档序号:26802056发布日期:2021-09-29 02:03阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种方法,包括:引导具有第一偏振态的照射束以形成来自对准目标的、具有第二偏振态的衍射束;将所述衍射束拆分成第一偏振子束和第二偏振子束;测量所述第一偏振子束和第二偏振子束的偏振态;以及根据所测量的偏振态来确定所述对准目标的部位。2.根据权利要求1所述的方法,其中:所述对准目标包括具有单个间距以及两个或更多个占空比的多个衍射光栅周期;所述间距小于所述照射束的波长;并且所述对准目标的部位对应于所述衍射光栅的占空比。3.根据权利要求2所述的方法,其中所述衍射光栅包括矩形形状。4.根据权利要求2所述的方法,其中所述衍射光栅包括具有顶部斜面、底部斜面或侧壁角的不对称形状。5.根据权利要求2所述的方法,其中所述衍射光栅包括正弦形状。6.根据权利要求2所述的方法,其中:所述照射束是线性偏振的;并且所述照射束的电场相对于光栅线形成介于0度与90度之间的角度。7.根据权利要求1所述的方法,其中所述照射束是圆偏振的或是椭圆偏振的。8.一种系统,包括:第一光学系统和第二光学系统,其中:所述第一光学系统被配置成朝向对准目标引导具有第一偏振态的照射束并且将具有第二偏振态的衍射束从所述对准目标引导至所述第二光学系统;并且所述第二光学系统被配置成将所述衍射束拆分成第一偏振子束和第二偏振子束;第一检测器和第二检测器,所述第一检测器和第二检测器被配置成测量来自所述第一偏振子束和第二偏振子束的偏振态;以及处理器,所述处理器被配置成根据所测量的偏振态来确定所述对准目标的部位。9.根据权利要求8所述的系统,其中所述第一光学系统和第二光学系统一起被整体地集成到光子电路上并且被耦合至所述衬底上的所述对准目标。10.根据权利要求9所述的系统,其中:所述衬底包括硅;并且所述第一光学系统和第二光学系统包括硅光子。11.根据权利要求8所述的系统,其中所述第一检测器和第二检测器被整体地集成至位于集成光子封装件中的滤波器和束成形光学器件。12.根据权利要求8所述的系统,还包括用于所述第一光学系统和第二光学系统的使用光纤光学器件的光学链路。13.根据权利要求8所述的系统,其中所述对准目标包括具有单个间距以及两个或更多个占空比的多个衍射光栅,所述间距小于所述照射束的波长。14.根据权利要求13所述的系统,其中所述衍射光栅包括矩形形状。15.根据权利要求13所述的对准系统,其中所述衍射光栅包括具有顶部斜面、底部斜面或侧壁角的不对称形状。
16.根据权利要求13所述的对准系统,其中所述衍射光栅包括正弦形状。

技术总结
一种对准方法,包括:引导具有第一偏振态的照射束以形成来自对准目标的、具有第二偏振态的衍射束;和使所述衍射束传递通过偏振分析器。所述对准方法还包括:测量所述衍射束的偏振态;和根据所测量的偏振态,相对于其初始偏振态来确定所述对准目标的部位。所述对准目标包括具有单个间距以及两个或更多个占空比的多个衍射光栅,其中所述间距小于所述照射束的波长,并且所述对准目标的部位对应于所述衍射光栅的占空比。光栅的占空比。光栅的占空比。


技术研发人员:J
受保护的技术使用者:ASML控股股份有限公司
技术研发日:2020.02.06
技术公布日:2021/9/28
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