专利名称：工业用射线照相新产品和新方法
技术领域：
本发明涉及一种拟在高能电离辐射下曝光的卤化银射线照相产品、一种新的射线照相系统和一种形成射线照相相片的方法。具体而言，本发明涉及一种高感光度的工业用高能射线照相产品。
工业用射线照相是一种非破坏性检查和分析技术，该法可检查和分析如玻璃、纸、木材和金属制品的零部件中的缺陷。这种技术广泛用于航天工业，核工业和石油工业，因为它能发现飞行器，核反应堆或管道材料的焊接或材料结构的缺陷。
这种技术包括含卤化银乳剂的照相产品在电离辐射通常为X或γ射线下曝光。射线照相乳剂对X或γ射线的感光能力归因于卤化银颗粒对这些射线的部分吸收，该颗粒引起次级电子辐射，以生成内潜影，然后再将射线照相产品显影和定影。
医用射线照相是用再发射可见光的荧光屏使底片曝光，与之相反，工业用射线照相底片对可见光不敏感，这就是其通常对色彩不敏感的原因。工业射线照相底片或者直接在电离辐射下曝光，或者通过电离射线增强屏曝光。这类屏通常是金属，它们能增加卤化银颗粒对电离辐射的吸收份额。
工业用射线照相产品通常由主要含粗颗粒(三维或立方)的卤化物乳剂组成，以能最大量地吸收通过乳剂层的电离辐射。
已知的含片状颗粒乳剂的工业用射线照相底片，在例如US4,883,784或EP757,286等专利中已有描述。
本发明之目标在于提供一种感光性能优异的工业用射线照相新产品。
本发明的目的可按如下达到采用一种对色彩不感光的照相产品，其在能量至少为40keV的电离辐射下曝光，该产品银涂层密度为50-200mg/dm2；该产品包括在其至少一面上涂有卤化银乳剂层的基片，该乳剂层含通式为(Ⅰ)的炔基胺，其量为0.05×10-5mol/molAg-1×10-3mol/molAg，
通式中，Y1,Y2分别表示氢原子、烷基或芳香核，或Y1和Y2共同表示形成芳香环或脂环所需的原子环中含选自碳、氧、硒或氮的原子；R1表示氢原子、取代的或未取代的烷基或芳基；X选自氧、硫或硒。
本发明还涉及一种形成工业用射线照片的方法，该法包括将本发明的射线照相产品在能量至少为40keV的电离辐射下曝光，以生成潜影，并将该产品显影以形成射线照相相片。
本发明的一个实施方案是将射线照相产品在能量为40keV-20MeV的射线下进行曝光。
具体而言，该射线照相新产品对电离辐射的感光性能有惊人的提高，并随射线能量增加而增加。
根据本发明，优选的炔基胺化合物具有下列通式
其中R1和X如上述定义，X优选为氧原子；R2和R3分别代表氢原子、卤素原子、取代的和未取代的烷基或烷氧基，优选具有1-10碳原子。R1,R2和R3优选为氢原子。
可用于本发明范围使用的炔基胺例如为
根据本发明，该辐射照相产品可包含一种或几种炔基胺。
所含炔基胺的量优选为0.05×l0-3mol/mol Ag-0.5×10-3mol/molAg。
在一个具体的实施方案中，炔基胺(A)的用量为4-80mg/molAg。
本发明范围内所用的卤化银乳剂是通常用于工业用射线照相的乳剂。这类乳剂有各种形式、结构和组成。
这类乳剂可以是三维颗粒乳剂，例如立方体颗粒、十四面体等，或片状颗粒乳剂。这类乳化剂在Research Disclosure(研究公开本)，部分Ⅰ中已有叙述。工业用射线照相产品通常含立方体颗粒乳剂。在一个具体的实施方案中，射线照相产品含片状颗粒乳剂。
有利的是用片状颗粒乳剂可减小这类产品的银涂层、“片状颗粒”是有2个比其它面宽的平行面的颗粒。这种颗粒的特征是径厚比，它是颗粒平均当量圆直径(ECD)对颗粒平均厚度(e)的比值。这种乳剂所含片状颗粒的径厚比大于或等于2，优选10-20之间。
片状颗粒乳剂是一种径厚比大于或等于2的及片状颗粒含量至少为50％，优选至少为80％的乳剂。
含片状颗粒的射线照相产品，其银涂层与普通含粗粒或三维颗粒乳剂的射线照相产品相比，其银涂层可减小到25％，而同时保持相同的感光度。
在银涂层相当的情况下，片状颗粒的存在可进一步改善在电离辐射下的曝光速度。
用于本发明范围内的乳剂优选主要含溴化银的颗粒，即卤化银是卤化银的主要组成部分。用于本发明范围内的卤化银颗粒可含碘化银或氯化银。在本发明的一个实施方案中，射线照相产品的乳剂颗粒含至少90％(mol)的溴化银。这种颗粒中含氯化物和碘化物的量可小于或等于10％(mol)。
在一个优选的实施方案中，工业用射线照相乳剂的卤化银颗粒为溴-碘化银颗粒，其中碘化物含量小于3％，该碘化物可定位在卤化银颗粒的部分体积内或均匀分布在整个体积之中。
本发明的射线照相产品的乳剂包含弥散于粘结剂中的卤化银颗粒，该粘结剂通常是一种水可渗透的亲水胶体，诸如明胶、明胶衍生物、清蛋白、聚乙烯醇，乙烯系聚合物等等。
这类卤化银乳剂可含掺杂剂，诸如少量铑、铟、锇、铱等离子(见Research Disclosure Section I-D3)。这类掺杂物通常在乳剂沉淀过程中加入。
卤化银乳剂可根据Research Disclosure Section Ⅳ中所描述的方法进行化学敏化。通常使用的化学敏化剂为硫和/或硒和/或金的化合物。亦可采用还原敏化。
此外，卤化银乳剂还可含Research Disclosure Sections Ⅱ-B,Ⅳ,Ⅶ,Ⅷ,Ⅸ中所描述的光亮剂、防雾剂、表面活性剂、增塑剂、润滑剂、坚膜剂、稳定剂、吸收和/或散射剂。
至于卤化银乳剂层，本发明之射线照相产品可含其它通常用于射线照相产品中的其它物料层，诸如保护层(外表层)、中间层、过滤层或消晕层、基片可以是任一种通常用于工业用射线照相产品的基片，通常的基片为聚合物基片，诸如聚乙烯对苯二甲酸酯。
外表层可含抗静电剂、聚合物和褪光剂等。
本发明的工业用射线照相产品优选包含在其基片的两面涂敷卤化银乳剂，涂敷在基片两面的乳剂在大小、组成、银涂层方面可以相同亦可不同。
本发明的射线照相产品可用Research Disclosure Section Ⅱ.B．中所描述的坚膜剂增固。这类坚膜剂可以是有机坚膜剂或无机坚膜剂，诸如铬盐、醛类、N-羟甲基化合物、二噁烷衍生物、含活性乙烯基的化合物、含活性卤素的化合物等等。
本发明的射线照相产品可用于一种射线照相系统，该系统由两个排列在射线照相产品两边的两个电离射线增强屏组成。
增强屏是一种能使卤化银颗粒吸收的电离射线份额增加的屏。该电离射线与增强屏作用，产生在各个方向上的电子辐射。乳剂层的卤化银颗粒吸收部分电子形成许多潜影点。增加颗粒方向上的辐射电子数，颗粒吸收的电子数亦随之增加。屏的材料通常为金属。
通常采用的屏的形式为铅片、氧化铅片或铜和钢一类重金属片。这种屏的厚度，视所用电离射线的种类可为0.025mm-0.5mm。
辐射线照相相片可通过直接在电离辐射中曝光或者通过这种增强屏来曝光而获得。
工业用射线照相的处理方法包括含显影剂的黑白显影浴；含卤化银溶剂如硫代硫酸盐、硫代氰酸盐、或含硫有机化合物的定影浴。通常所用之显影剂为二羟基苯、3-吡唑烷酮或氨基苯酚化合物。亦可采用抗坏血酸或抗坏血酸衍生物显影剂。
本发明用下列实例展示本发明之优点。
实例实例1本实例中所用的射线照相产品包括ESTAR基片，其两面皆涂含片状颗粒的卤化银乳剂，银涂层密度为75mg/dm2/面(总银涂层密度为150mg/dm2)。乳剂含AgBrI片状颗粒(0.06％碘化物)，ECD=1.0μm,e=0.10μm。
每层卤化银乳剂上涂有含褪光剂的明胶保护层。
产品用双(乙烯基磺酰甲基)醚增固，其量约为产品中所含干明胶总重量的3％。
片状颗粒占组成乳剂的颗粒总数的90％以上。
乳剂用双喷沉淀法制备。当化合物(A)存在时，它是以下述量在卤化银乳剂经硫和金化学敏化后加入的。
射线照相产品放置在带有8mm铜滤光片的两块铅屏(25μm)之间，再在下表所述能量水平的辐射下曝光。
曝光之后，每个产品以用于工业用射线照相的Kodak MX 800方法显影(8min,26℃，干对干)，该法包括用氢醌-菲尼酮显影剂溶液的固膜显影步骤(2min)、定影步骤(2.5min)、洗涤步骤(2min)和干燥步骤。测定每个样品的最低密度Dmin(基片和浊斑的密度)和密度为D=Dmin+2底片的感光速度。
下表表明，在不含化合物(A)的射线照相产品和本发明的射线照相产品之间的感光速度的差别，不含化合物(A)的射线照相产品的感光速度定为100。
表1
本实例表明，当含化合物(A)的射线照相产品在电离辐射下曝光时，底片感光速度明显增加。实例2本实例中，射线照相产品的应用条件同实例1，产品的特性亦同实例1，但它含AgBr片状颗粒乳剂，该颗粒之ECD为0.47μm，厚度为0.11μm。感光速度的差别列于下表。
权利要求
1．一种用于工业射线照相的对色彩不敏感的射线照相产品，其银涂层密度为50-200mg/dm2，该产品包含至少在其一面涂有卤化银乳剂层的基片，该乳剂层含通式为(Ⅰ)的炔基胺，其量为0.05×10-3mol/molAg-1×10-3mol/molAg。
其中Y1和Y2分别表示氢原子、烷基或芳香核，或者Y1和Y2共同表示形成取代的或未取代的芳香环或脂环的所需的原子，该环含有选自碳、氧、硒或氮的原子；R1表示氢原子、取代的或未取代的烷基或芳基基团；以及X选自氧、硫或硒。
2．权利要求1的射线照相产品，其中炔基胺的通式为
其中R1表示氢原子；R2和R3分别表示氢原子、卤素原子、取代的或未取代的烷基或烷氧基，优选具有1-10碳原子。
3．权利要求1的射线照相产品，其中卤化银乳剂是一种片状颗粒乳剂，其径厚比至少为2。
4．权利要求1或2的射线照相产品，其中炔基胺(Ⅰ)为N-2-丙炔基-2苯并噁唑胺。
5．权利要求1的射线照相产品，其中存在的炔基胺(Ⅰ)的量为0.05×10-3mol/mol Ag-0.5×10-3mol/molAg。
6．权利要求1-5中任一项的射线照相产品，它包含在其两面涂敷有卤化银乳剂层的基片，在每层乳剂层上涂敷保护外表层。
7．一种形成工业用射线照相的方法，该方法包括将权利要求1-6中任一项所定义的射线照相产品在能量水平至少为40keV的电离辐射下曝光，以形成潜影；将该产品显影以形成射线照相相片。
8．一种工业用射线照相系统，该系统包括两个电离射线增强屏，和权利要求1-6中任一项所定义的射线照相产品，该屏排列在该产品的两面。
全文摘要
本发明涉及一种在高能电离辐射下曝光的卤化银射线照相产品,涉及一种新的射线照相系统,以及涉及一种形成射线照相相片的方法。具体而言,本发明涉及一种用于工业用高能射线照相的产品。本发明的射线照相产品具有改进的感光速度。
文档编号G03C1/005GK1233778SQ9910254
公开日1999年11月3日 申请日期1999年2月26日 优先权日1998年2月27日
发明者G·M·德鲁安, Y·莫兰 申请人:伊斯曼柯达公司