一种抗反射电驱动3d液晶透镜的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种显示器件，尤其涉及一种抗反射电驱动3D液晶透镜。
【背景技术】
[0002]裸眼3D显示器，一般需要将一个3D液晶透镜设置在一平板显示器前方，其中的3D液晶透镜，由第一基板、第二基板、设置在第一基板内侧的第一配向层和第一电极、设置在第二基板内侧的第二配向层和第二电极构成，第一基板与第二基板之间设置有液晶层，所述第一电极、第二电极均为氧化铟锡(ITO)薄膜，其中，第一电极为整面连续电极，第二电极由多个并排的线状电极构成。
[0003]这种液晶透镜，由于作为第一电极、第二电极的氧化铟锡薄膜，其与第一基板、第二基板，以及第一配向层、第二配向层之间存在较大的折射率差，会导致3D液晶透镜出现明显的膜层反射，由此导致3D显示器的反射率偏大，在较亮的环境下所显示的画面对比度减少，影响到用户对画面的观看，除此之外，线状电极在强光下非常容易产生线状的反射光，也会干扰用户对画面的观看。
【发明内容】
[0004]本发明要解决的技术问题是提供一种抗反射电驱动3D液晶透镜，这种抗反射电驱动3D液晶透镜能够减少膜层反射，使得在较亮的环境下所显示的画面具有较高的对比度。采用的技术方案如下:
一种抗反射电驱动3D液晶透镜，包括第一基板、第二基板、设置在第一基板内侧的第一配向层和第一电极、设置在第二基板内侧的第二配向层和第二电极，第一基板与第二基板之间设置有液晶层，液晶层为向列型液晶，第一电极、第二电极均为氧化铟锡薄膜，第一电极为整面连续电极，第二电极由多个并排的线状电极构成，相邻两个线状电极之间设有间隙，其特征为:所述第一电极与第一基板之间设有第一抗反射层，第一抗反射层为透明绝缘膜层，第一抗反射层的整体折射率大于第一基板的折射率并且小于第一电极的折射率。
[0005]通过在第一电极与第一基板之间设置第一抗反射层，由于第一抗反射层的整体折射率大于第一基板的折射率并且小于第一电极的折射率，第一抗反射层在第一电极与第一基板之间起到过渡作用，减少了第一电极与第一基板之间的膜层反射，从而大幅度地降低了 3D液晶透明的反射率，使得在较亮的环境下所显示的画面具有较高的对比度。
[0006]作为本发明的优选方案，所述第一抗反射层由至少一层第一子层、至少一层第二子层复合而成，第一子层的折射率大于第二子层的折射率，第一子层为氧化铌薄膜，第二子层为氧化硅薄膜。第一抗反射层由第一子层、第二子层构成的复合膜层，第一抗反射层可以由第一子层、第二子层构成的双层膜，第一抗反射层也可以由第一子层、第二子层交错构成的多层膜，其中，氧化铌(Nb2O5)与氧化硅(S12)薄膜的绝缘性都非常良好，氧化铌(Nb2O5)薄膜的折射率接近于氧化铟锡(ΙΤ0)，而氧化硅(S12)薄膜的折射率低于氧化铟锡(ΙΤ0)，通过适当设置第一子层、第二子层的厚度(一般小于150nm)，使得复合膜层(第一抗反射层)的整体折射率大于第一基板的折射率并且小于第一电极的折射率，即是介于第一电极层与第一基板之间，由此达到减少膜层反射的效果。
[0007]作为本发明的优选方案，所述第一抗反射层由至少一层第一子层、至少一层第二子层复合而成，第一子层的折射率大于第二子层的折射率，第一子层为氧化钛薄膜，第二子层为氧化娃薄膜。氧化钛(T12)薄膜的性质更加稳定，也能够与氧化娃(S12)薄膜也能够良好的搭配，通过适当设置第一子层、第二子层的厚度(一般小于150nm)，使得复合膜层(第一抗反射层)的整体折射率大于第一基板的折射率并且小于第一电极的折射率(即是介于第一电极层与第一基板之间)，由此达到减少膜层反射的效果。
[0008]作为本发明进一步的优选方案，所述第一抗反射层是由第一子层、第二子层复合而成的双层膜，第一子层靠近第一电极，第二子层靠近第一基板。第一子层的折射率较高，第二子层的折射率较低，因此，将第一子层设置为靠近第一电极，第二子层设置为靠近第一基板，使得第一抗反射层的整体折射率自第一电极至第一基板具有较好的渐变，从而进一步减少了第一电极与第一基板之间的膜层反射，进一步降低了 3D液晶透明的反射率。
[0009]作为本发明的优选方案，所述第二电极与第二基板之间还设有第二抗反射层，第二抗反射层为透明绝缘膜层，第二抗反射层的整体折射率大于第二基板的折射率并且小于第二电极的折射率。通过在第二电极与第二基板之间设置第二抗反射层，第二抗反射层能够减小第二电极与第二基板之间的反射，从而减少了第二电极产生的电极影。
[0010]作为本发明进一步的优选方案，所述第二抗反射层由至少一层第三子层、至少一层第四子层复合而成，第三子层的折射率大于第四子层的折射率，第三子层为氧化铌薄膜，第四子层为氧化硅薄膜。第二抗反射层由第三子层与第四子层构成的复合膜层，第一抗反射层可以由第三子层、第四子层构成的双层膜，第二抗反射层也可以由第三子层、第四子层交错构成的多层膜，其中，氧化铌(Nb2O5)与氧化硅(S12)薄膜的绝缘性都非常良好，氧化铌(Nb2O5)薄膜的折射率接近于氧化铟锡(ΙΤ0)，而氧化硅(S12)薄膜的折射率低于氧化铟锡(ΙΤ0)，通过适当设置第三子层、第四子层的厚度(一般小于150nm)，使得复合膜层(第二抗反射层)的整体折射率大于第二基板的折射率并且小于第二电极的折射率(即是介于第二电极层与第二基板之间)，由此达到减少膜层反射的效果。
[0011]作为本发明进一步的优选方案，所述第二抗反射层由至少一层第三子层、至少一层第四子层复合而成，第三子层的折射率大于第四子层的折射率，第三子层为氧化钛薄膜，第四子层为氧化娃薄膜。氧化钛(T12)薄膜的性质更加稳定，也能够与氧化娃(S12)薄膜也能够良好的搭配，通过适当设置第三子层、第四子层的厚度(一般小于150nm)，使得复合膜层(第二抗反射层)的整体折射率大于第二基板的折射率并且小于第二电极的折射率(即是介于第二电极层与第二基板之间)，由此达到减少膜层反射的效果。
[0012]作为本发明进一步的优选方案，所述第二抗反射层是由第三子层、第四子层复合而成的双层膜，第三子层靠近第二电极，第四子层靠近第二基板。第三子层的折射率较高，第四子层的折射率较低，因此，将第三子层设置为靠近第二电极，第四子层设置为靠近第二基板，使得第二抗反射层的整体折射率自第二电极至第二基板具有较好的渐变，从而进一步减少了第二电极与第二基板之间的膜层反射，进一步减少了第二电极产生的电极影，进一步降低了 3D液晶透明的反射率。
[0013]作为本发明的优选方案，所述第二电极与第二配向层之间设有消影膜，消影膜为透明绝缘膜层，消影膜的整体折射率与第二电极相同。消影膜的整体折射率设置为与第二电极相同，因此，无论第二电极处还是相邻两个线状电极之间的间隙，都与相邻膜层之间具有相同的折射率差，因此能够彻底消除第二电极产生的反射条纹。
[0014]作为本发明进一步的优选方案，所述消影膜由至少一层第五子层、至少一层第六子层复合而成，第五子层的折射率大于第六子层的折射率，第五子层为氮化硅薄膜，第六子层为薄膜。由第五子层与第六子层构成的复合膜层作为消影膜，消影膜可以由第五子层、第六子层构成的双层膜，也可以由第五子层、第六子层交错构成的多层膜，其中氮化硅(Si3N4)薄膜的折射率比ITO高，而氧化硅(S12)薄膜的折射率低于ΙΤ0，将第一子层设置为氮化硅，能够更好地使复合膜层的折射率匹配到与ITO接近。
[0015]本发明与现有技术相比，具有如下优点:
通过在第一电极与第一基板之间设置第一抗反射层，由于第一抗反射层的整体折射率大于第一基板的折射率并且小于第一电极的折射率，第一抗反射层在第一电极与第一基板之间起到过渡作用，减少了第一电极与第一基板之间的膜层反