色阻层的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种色阻层的制作方法，该方法利用微转印技术制作色阻层，先在第一基板上形成一色阻薄膜，随后通过一微转印传送头将部分色阻薄膜吸附到该微转印传送头的多个凸起部上，然后将微转印传送头吸附的部分色阻薄膜释放到第二基板上，从而在第二基板上形成色阻层，该方法通过微转印传送头的多个凸起部的组成图案来控制色阻层的图案，不需要曝光和显影，不浪费色阻材料，制作过程简单，生产成本低，适用范围广。
【专利说明】
色阻层的制作方法
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种色阻层的制作方法。【背景技术】[00〇2]液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无福射等众多优点，得到了广泛的应用。如:液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
[0003]通常液晶显示面板由彩膜基板(Color Filter，CF)、薄膜晶体管基板(Thin Film Transistor，TFT)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括:前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动1C与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动冲段 Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动1C压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
[0004]彩色滤光片基板即彩膜基板是液晶显示器的重要组成部分，传统的彩膜基板的制作方法为制作完黑色矩阵(Black Matrix，BM)后，再制作色阻层(包括红色色阻、绿色色阻、 及蓝色色阻)，下面以红色色阻的制作方法为例，对现有技术中的色阻层制方法进行说明: 首先在基板上涂布一层红色色阻材料，固化后形成红色色阻薄膜，再经过曝光和显影制程形成图案化的红色色阻层，该方法中有大量的色阻材料被显影掉，造成色阻材料的大量浪费。
[0005]微转印(Micro Transfer Printing，MTP)是一种将微型器件从一个基板上转印到另一个基板上的技术，其通过一个图案化的聚二甲基娃氧烧(？〇17(1；[11161:11718；[1(?3116， PDMS)传送头将微型器件从一个基板上吸附起来，然后将微型器件贴附到另一个基板上预设的位置，再剥离PDMS传送头，以完成微型器件的转移。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种色阻层的制作方法，能够减少色阻材料的消耗，降低生产成本。
[0007]为实现上述目的，本发明提供了一种色阻层的制作方法，包括如下步骤:
[0008]步骤1、提供一第一基板，在所述第一基板上涂布色阻材料，固化后形成一色阻薄膜；
[0009]步骤2、提供一微转印传送头，所述微转印传送头的一侧表面上形成有多个凸起部，所述多个凸起部组成的图案与待形成的色阻层的图案相同；
[0010]步骤3、利用所述微转印传送头将部分色阻薄膜吸附到所述微转印传送头的多个凸起部上；
[0011]步骤4、提供一第二基板，对位所述微转印传送头与第二基板，将所述微转印传送头的多个凸起部上吸附的色阻薄膜释放到第二基板上，在所述第二基板上形成色阻层。
[0012]所述步骤I中的色阻材料为红色色阻材料、绿色色阻材料、蓝色色阻材料、或白色色阻材料。
[0013]所述微转印传送头为PDMS传送头。
[0014]所述步骤3具体包括:先将所述微转印传送头形成有多个凸起部的一侧表面与所述色阻薄膜贴合到一起，然后再将微转印传送头从色阻薄膜上揭开，从而将部分色阻薄膜吸附到所述微转印传送头的多个凸起部上。
[0015]所述步骤4具体包括:先将所述微转印传送头形成有多个凸起部的一侧表面与所述第二基板对位贴合到一起，然后再将微转印传送头从第二基板上揭开，从而在所述第二基板上形成色阻层。
[0016]所述微转印传送头对所述色阻薄膜的吸附力与所述微转印传送头的揭开速度成正比。
[0017]所述第二基板为玻璃基板。
[0018]所述色阻层的制作方法适用于COA型液晶显示面板、BOA型液晶显示面板、及WOLED显示面板中的色阻层的制作。
[0019]本发明的有益效果:本发明提供了一种色阻层的制作方法，该方法利用微转印技术制作色阻层，先在第一基板上形成一色阻薄膜，随后通过一微转印传送头将部分色阻薄膜吸附到该微转印传送头的多个凸起部上，然后将微转印传送头吸附的部分色阻薄膜释放到第二基板上，从而在第二基板上形成色阻层，该方法通过微转印传送头的多个凸起部的组成图案来控制色阻层的图案，不需要曝光和显影，不浪费色阻材料，制作过程简单，生产成本低，适用范围广。
【附图说明】
[0020]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
[0021]附图中，
[0022]图1为本发明的色阻层的制作方法的步骤I的示意图；
[0023]图2为本发明的色阻层的制作方法的步骤2的示意图；
[0024]图3为本发明的色阻层的制作方法的步骤3的示意图；
[0025]图4和图5为本发明的色阻层的制作方法的步骤4的示意图；
[0026]图6为本发明的色阻层的制作方法中微转印传送头的揭开速度与微转印传送头对色阻薄膜的吸附力的关系曲线图；
[0027]图7为本发明的色阻层的制作方法的流程图。
【具体实施方式】
[0028]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0029]请参阅图7，本发明提供一种色阻层的制作方法，包括如下步骤:
[0030]步骤1、请参阅图1，提供一第一基板I，在所述第一基板I上涂布色阻材料，固化后形成一色阻薄膜2。
[0031]具体地，所述色阻材料的颜色可以根据制作需要选择任意颜色，例如红色色阻材料、绿色色阻材料、蓝色色阻材料、及白色材料等各种颜色的色阻材料。
[0032]所述步骤1中先将色阻材料分散于溶液中，然后再将分散有色阻材料的溶液涂布于第一基板1上，随后通过烘烤制程固化所述色阻材料，进而形成色阻薄膜2,该色阻薄膜2 不形成图案，整面覆盖于第一基板1。[0〇33] 步骤2、请参阅图2，提供一微转印传送头(Transfer Stamp) 3，所述微转印传送头3 的一侧表面上形成有多个凸起部4,所述多个凸起部4组成的图案与待形成的色阻层图案相同。[〇〇34] 可选地，所述微转印传送头3为PDMS传送头。
[0035]步骤3、请参阅图3,利用所述微转印传送头3将部分色阻薄膜2吸附到所述微转印传送头3的多个凸起部4上。
[0036]具体地，由于所述多个凸起部4组成的图案与待形成的色阻层图案相同，从而吸附在所述多个凸起部4上的色阻薄膜2的图案也对应待形成的色阻层的图案。
[0037]进一步地，所述步骤3具体包括:先将所述微转印传送头3形成有多个凸起部4的一侧表面与所述色阻薄膜2贴合到一起，然后再将微转印传送头3从色阻薄膜2上揭开，从而将部分色阻薄膜2吸附到所述微转印传送头3的多个凸起部4上。
[0038]需要说明的是，请参阅图6,所述微转印传送头3对所述色阻薄膜2的吸附力 (Strength of Adhes1n)与所述微转印传送头3的揭开(Transfer Peel off)速度成正比， 也即所述微转印传送头3从色阻薄膜2上揭开的速度越快，所述微转印传送头3对所述色阻薄膜2的吸附力越大，而所述第一基板1对所述色阻薄膜2的吸附力是固定不变，进而可以通过控制所述微转印传送头3从色阻薄膜2上揭开的速度，使得所述微转印传送头3对所述色阻薄膜2的吸附力大于所述第一基板1对色阻薄膜2的吸附力，进而将部分色阻薄膜2吸附到所述微转印传送头3的多个凸起部4上。[〇〇39]步骤4、请参阅图3及图4,提供一第二基板5,对位所述微转印传送头3与第二基板 5,将所述微转印传送头3的多个凸起部4上吸附的色阻薄膜2释放到第二基板5上，在所述第二基板5上形成色阻层6。
[0040]具体地，所述第二基板5优选玻璃基板。所述步骤4具体包括:先将所述微转印传送头3形成有多个凸起部4的一侧表面与所述第二基板5对位贴合到一起，然后再将微转印传送头3从第二基板5上揭开，从而在所述第二基板5上形成色阻层6。
[0041]需要说明的是，请参阅图6,所述第二基板5对所述色阻薄膜2的吸附力也是固定不变，通过控制所述微转印传送头3从色阻薄膜2上揭开的速度，使得所述微转印传送头3对所述色阻薄膜2的吸附力小于所述第二基板5对色阻薄膜2的吸附力，进而将吸附到所述微转印传送头3的多个凸起部4上的部分色阻薄膜2转印到第二基板5上，在第二基板5上相应的位置形成预定图案的色阻层6。[〇〇42]可以理解的是，上述色阻层的制作方法，不仅适用于传统液晶显示面板中彩膜基板上的色阻层的制作，同样也适用于彩色滤光片位于阵列基板(Color-filter on Array， C0A)型液晶显示面板、黑色矩阵位于阵列基板(Black Matrix On Array，BOA)型液晶显示面板、及白光有机发光二极管(White Organic Light-Emitting D1de，W0LED)显示面板中的色阻层的制作。并且色阻层不仅可以为红、绿、及蓝色色阻依次排列的色阻层，也可以为红、绿、蓝、及白色色阻、或者红、绿、蓝、及黄色色阻依次排列的色阻层，以红、绿、及蓝色色阻依次排列的色阻层为例，可通过多次重复本发明的色阻层的制作方法依次制作红、绿、及蓝色色阻，形成相应的色阻层。
[0043]综上所述，本发明提供了一种色阻层的制作方法，该方法利用微转印技术制作色阻层，先在第一基板上形成一色阻薄膜，随后通过一微转印传送头将部分色阻薄膜吸附到该微转印传送头的多个凸起部上，然后将微转印传送头吸附的部分色阻薄膜释放到第二基板上，从而在第二基板上形成色阻层，该方法通过微转印传送头的多个凸起部的组成图案来控制色阻层的图案，不需要曝光和显影，不浪费色阻材料，制作过程简单，生产成本低，适用范围广。
[0044]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种色阻层的制作方法，其特征在于，包括如下步骤: 步骤1、提供一第一基板(I)，在所述第一基板(I)上涂布色阻材料，固化后形成一色阻薄膜(2); 步骤2、提供一微转印传送头(3)，所述微转印传送头(3)的一侧表面上形成有多个凸起部(4)，所述多个凸起部(4)组成的图案与待形成的色阻层的图案相同； 步骤3、利用所述微转印传送头(3)将部分色阻薄膜(2)吸附到所述微转印传送头(3)的多个凸起部(4)上； 步骤4、提供一第二基板(5)，对位所述微转印传送头(3)与第二基板(5)，将所述微转印传送头(3)的多个凸起部(4)上吸附的色阻薄膜(2)释放到第二基板(5)上，在所述第二基板(5)上形成色阻层(6)。2.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述步骤I中的色阻材料为红色色阻材料、绿色色阻材料、蓝色色阻材料、或白色色阻材料。3.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述微转印传送头(3)为PDMS传送头。4.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述步骤3具体包括:先将所述微转印传送头(3)形成有多个凸起部(4)的一侧表面与所述色阻薄膜(2)贴合到一起，然后再将微转印传送头(3)从色阻薄膜(2)上揭开，从而将部分色阻薄膜(2)吸附到所述微转印传送头(3)的多个凸起部(4)上。5.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述步骤4具体包括:先将所述微转印传送头(3)形成有多个凸起部(4)的一侧表面与所述第二基板(5)对位贴合到一起，然后再将微转印传送头(3)从第二基板(5)上揭开，从而在所述第二基板(5)上形成色阻层(6)ο6.如权利要求4或5所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述微转印传送头(3)对所述色阻薄膜(2)的吸附力与所述微转印传送头(3)的揭开速度成正比。7.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述第二基板(5)为玻璃基板。8.如权利要求1所述的色阻层的制作方法，其特征在于，所述色阻层的制作方法适用于COA型液晶显不面板、BOA型液晶显不面板、及WOLED显不面板中的色阻层的制作。
【文档编号】G02F1/1335GK106019686SQ201610422372
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年6月15日
【发明人】陈黎暄
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司