防尘镜座逃气孔的制作方法

文档序号:9027254阅读:594来源:国知局
防尘镜座逃气孔的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及模具设计加工技术领域,尤其涉及一种防尘镜座逃气孔。
【背景技术】
[0002]模具排气系统是模具设计的一项重要内容之一,它直接关系到成型制品的品质。因此为了在模组组装烘烤过程中,可以释放模组内部的热气,会在镜座上设计逃气孔。
[0003]通常模具设计加工过程中会使用磷酸脂作为阻燃剂,其部分的阻燃剂因在高温加工过程中,会产生气体,由逃气孔排出,此气体会沾附模具表面,而变为粉末,堵塞逃气孔。目前的逃气孔设计都是上大下小(如图1、2),此种设计在模组加工过程中,大的面会积累粉尘,而且在后续的制程或运输中,粉尘也会从大孔掉落到产品的感光器件表面,影响产品质量。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题是:为了解决现有技术中逃气孔容易积累粉尘的技术问题,本实用新型提供一种防尘镜座逃气孔。
[0005]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种防尘镜座逃气孔,包括镜座本体,镜座本体上开设有逃气孔,所述的逃气孔分为上半段和下半段,所述上半段的内径小于下半段的内径。
[0006]进一步,具体的防尘结构为,所述上半段与下半段交接处形成周向的台阶面面朝下的台阶。
[0007]进一步,具体地,所述上半段的内径d为0.15-0.3mm,下半段的内径D为0.25-0.5mm。
[0008]作为优选,所述上半段的内径d为0.2mm,下半段的内径D为0.4mm。
[0009]本实用新型的有益效果是,本实用新型的防尘镜座逃气孔,将原来的逃气孔上大下小设计,改为上小下大,来减少粉尘在孔中积累的机率,降低粉尘污染的机率,提升良率,结构上没有增加额外的制作原料,节省成本,不增加逃气孔加工工时。
【附图说明】
[0010]下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0011]图1是现有技术中镜座的结构示意。
[0012]图2是图1的A-A剖视图。
[0013]图3是本实用新型逃气孔的结构示意。
[0014]图4是图3中B处的放大图。
[0015]图中:1、镜座本体,2、逃气孔,21、上半段,22、下半段,23、台阶。
【具体实施方式】
[0016]现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0017]如图1-3所示,是本实用新型的实施例,包括镜座本体I,镜座本体I上开设有逃气孔2,逃气孔2分为上半段21和下半段22,上半段21的内径小于下半段22的内径。上半段21与下半段22交接处形成周向的台阶面面朝下的台阶23。上半段21的内径d为0.15-0.3mm,下半段22的内径D为0.25-0.5mm。本实施例中优选上半段21的内径d为0.2_,下半段22的内径D为0.4_,也可根据需要选择给定范围内的其他数值。
[0018]本实用新型的防尘镜座逃气孔,将原来的逃气孔上大下小设计,改为上小下大,来减少粉尘在孔中积累的机率,降低粉尘污染的机率,提升良率,结构上没有增加额外的制作原料,节省成本,不增加逃气孔加工工时。
[0019]以上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
【主权项】
1.一种防尘镜座逃气孔,其特征在于:包括镜座本体(I),镜座本体(I)上开设有逃气孔(2),所述的逃气孔(2)分为上半段(21)和下半段(22),所述上半段(21)的内径小于下半段(22)的内径。2.如权利要求1所述的防尘镜座逃气孔,其特征在于:所述上半段(21)与下半段(22)交接处形成周向的台阶面面朝下的台阶(23)。3.如权利要求1所述的防尘镜座逃气孔,其特征在于:所述上半段(21)的内径d为0.15-0.3mm,下半段(22)的内径 D 为 0.25-0.5mm。4.如权利要求3所述的防尘镜座逃气孔,其特征在于:所述上半段(21)的内径d为.0.2mm,下半段(22)的内径D为0.4mm。
【专利摘要】本实用新型涉及模具设计加工技术领域,尤其涉及一种防尘镜座逃气孔,包括镜座本体,镜座本体上开设有逃气孔,所述的逃气孔分为上半段和下半段,所述上半段的内径小于下半段的内径。本实用新型的有益效果是,本实用新型的防尘镜座逃气孔,将原来的逃气孔上大下小设计,改为上小下大,来减少粉尘在孔中积累的机率,降低粉尘污染的机率,提升良率,结构上没有增加额外的制作原料,节省成本,不增加逃气孔加工工时。
【IPC分类】G02B7/00
【公开号】CN204679701
【申请号】CN201520280661
【发明人】柳阳森
【申请人】群光电子(苏州)有限公司
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2015年5月4日
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