一种显影设备清洗水压稳定装置的制造方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及一种显影设备清洗水压稳定装置。
【背景技术】
[0002]现有技术中，CTP显影设备主要是在特殊铝材板通过激光雕刻，经过特殊药水将图文部分显示出来，空白部分全部使用药水腐蚀掉。然后在使用自来水将特殊药水清洗干净，保持铝板没有杂物，再次进行上胶水保护，经PS版保存进行下一步的烤版工作。
[0003]然而设备的清洗环节尤为重要。现在大多通过手动调节自来水的流速开关，将水压调节到一定的压力后，通过电磁自动开关控制水的使用。在此过程中由于自来水的压力一般为0.5mp，通过手动调节水的流速，但设备在在间断使用的时候，电磁阀在打开瞬间，清洗水出口会突然强喷一下水，强喷水时间大约在0.3sm-0.5sm之间，这样就导致将水喷到特殊显影药水里面，导致显影特殊药水不能正常使用，每次更换显影特殊药水需要较长的时间及较多的费用，影响了后工序的生产进度。
【发明内容】
[0004]针对现有技术的不足之处，本实用新型旨在提供一种显影设备清洗水压稳定装置，确保清洗水路出口的水压稳定在0.1 mp，避免影响显影药水。
[0005]本实用新型采用的技术方案:一种显影设备清洗水压稳定装置，包括储水容器，在储水容器一侧连接进水管，在储水容器另一侧连接用于出水管，出水管连接显影设备，在进水管上设置电磁阀，电磁阀再与控制器连接，在储水容器内上部设置膨胀吸收膜，在膨胀吸收膜上方设置传感检测器，传感检测器与控制器连接。
[0006]采用上述技术方案，当0.5压力的自来水流入储水容器，膨胀吸收膜将储水容器内的水压保持在0.1mp的压力；当膨胀吸收膜扩张到上限时，传感检测器控制进水管上的电磁阀关闭，停止向储水容器供水，而此时储水容器在向显影设备供给清洗水；当膨胀吸收膜收缩到下限时，传感检测器控制进水管上的电磁阀打开，向储水容器供水，这样循环工作保证了水压的稳定性，而.1mp的压力通过传感检测器控制；从而消除了水压从自来水的0.5到
0.1的压力过渡。解决了水往特殊显影药水里喷水的现象。避免影响显影药水。
[0007]本实用新型结构简单，方便可靠，安装简单，可操作性强。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型结构示意图；
[0009]附图中:I储水容器2进水管3出水管4电磁阀5控制器6膨胀吸收膜7感检测器。
【具体实施方式】
[0010]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0011]如图1所示，一种显影设备清洗水压稳定装置，包括储水容器I，在储水容器I一侧连接进水管2，进水管2的水压就是自来水的压力，在储水容器I另一侧连接用于出水管3，出水管3连接显影设备8，即出水管3输送的水用于将特殊铝材板的药水清洗干净，保持铝板没有杂物，才能再次进行上胶水保护。
[0012]在进水管2上设置电磁阀4，当电磁阀4打开的时候，进水管2向储水容器I供水；电磁阀4再与控制器5连接，控制器5控制电磁阀4的打开或者关闭。
[0013]在储水容器I内上部设置膨胀吸收膜6，在膨胀吸收膜6上方设置传感检测器6，传感检测器6用于检测膨胀吸收膜6向上或者向下的位移情况，传感检测器7与控制器5连接。当储水容器I内水在增加时，水位上升，膨胀吸收膜6向上扩展，传感检测器6将检测信号传给控制器5，若膨胀吸收膜6向上移动到上限位置，这时控制器5将电磁阀4关闭，若储水容器I内水流出，膨胀吸收膜6向下移动，当膨胀吸收膜6到下限位置，控制器5将电磁阀4打开，储水容器I内水得到补充。
【主权项】
1.一种显影设备清洗水压稳定装置，包括储水容器(I)，在储水容器(I) 一侧连接进水管(2)，在储水容器(I)另一侧连接用于出水管(3)，出水管(3)连接显影设备(8)，在进水管(2)上设置电磁阀(4)，其特征在于:电磁阀(4)再与控制器(5)连接，在储水容器(I)内上部设置膨胀吸收膜(6)，在膨胀吸收膜(6)上方设置传感检测器(6)，传感检测器(7)与控制器(5)连接。
【专利摘要】本实用新型公开了一种显影设备清洗水压稳定装置，包括储水容器，在储水容器一侧连接进水管，在储水容器另一侧连接用于出水管，出水管连接显影设备，在进水管上设置电磁阀，电磁阀再与控制器连接，在储水容器内上部设置膨胀吸收膜，在膨胀吸收膜上方设置传感检测器，传感检测器与控制器连接。采用上述技术方案，当膨胀吸收膜扩张到上限时，传感检测器控制进水管上的电磁阀关闭，停止向储水容器供水，当膨胀吸收膜收缩到下限时，传感检测器控制进水管上的电磁阀打开，向储水容器供水，这样循环工作保证了水压的稳定性，避免影响显影药水。本实用新型结构简单，方便可靠，可操作性强。
【IPC分类】G03F7/30
【公开号】CN205374985
【申请号】CN201521095068
【发明人】杨文 , 刘毅, 张的华, 李照东, 孔小虎
【申请人】贵州西牛王印务有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月27日