Dmd投影激光直写垂直双面曝光装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座（4）和投影光路（5），还包括滑移座（6），基座（4）内部中空，基座（4）底部表面设有供滑移座（6）水平滑动的轨道（3），轨道（3）位于基座（4）的两个侧壁中间位置，滑移座（6）底部开设有与轨道（3）外形相适配的凹槽，滑移座（6）通过底部的凹槽与轨道（3）滑动连接，滑移座（6）内侧面设有纵向夹持部（2），投影光路（5）设置在基座（4）的两个侧壁上，投影光路（5）为DMD投影光路。有益效果是：能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率，投影光路采用DMD投影光路，使得曝光效果更好。
【专利说明】
DMD投影激光直写垂直双面曝光装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种曝光装置，具体涉及一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置。
【背景技术】
[0002]直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
【发明内容】
[0003]针对上述现有技术存在的问题，本实用新型提供一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，提升工作效率，更好的提高了产能。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是:一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座和投影光路，还包括滑移座，基座内部中空，基座底部表面设有供滑移座水平滑动的轨道，轨道位于基座的两个侧壁中间位置，滑移座底部开设有与轨道外形相适配的凹槽，滑移座通过底部的凹槽与轨道滑动连接，滑移座内侧面设有纵向夹持部，投影光路设置在基座的两个侧壁上，投影光路为DMD投影光路。
[0005]进一步的，所述的纵向夹持部滑动连接在滑移座内侧面。
[0006]进一步的，所述的DMD投影光路沿水平方向多排交叉设置在基座的两个侧壁上。
[0007]进一步的，所述的基座的两个侧壁上设置的DMD投影光路对称。
[0008]本实用新型的有益效果是:能够同时曝光被曝光工件的正反两面，使得工作的效率提升一倍，更好的提高了产能，增加了工作的效率，投影光路采用DMD投影光路，使得曝光效果更好。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型的结构示意图；
[0010]图中:1、被曝光工件，2、纵向夹持部，3、轨道，4、基座，5、投影光路，6、滑移座。
【具体实施方式】
[0011 ]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0012] 如图1所示，本DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座4和投影光路5，还包括滑移座6，基座4内部中空，基座4底部表面设有供滑移座6水平滑动的轨道3，轨道3位于基座4的两个侧壁中间位置，滑移座6底部开设有与轨道3外形相适配的凹槽，滑移座6通过底部的凹槽与轨道3滑动连接，滑移座6内侧面设有纵向夹持部2，投影光路5设置在基座4的两个侧壁上，投影光路5为DMD投影光路;为了进一步提高曝光质量，纵向夹持部2滑动连接在滑移座6内侧面，DMD投影光路沿水平方向多排交叉设置在基座4的两个侧壁上，基座4的两个侧壁上设置的DMD投影光路对称。
[0013]工作流程，先把滑移座6抽出来，将被曝光工件I放置在纵向夹持部2上，使得被曝光工件I与基座4垂直，放置好被曝光工件I后，将滑移座6滑到基座4的两个侧壁中间，曝光时，被曝光工件I由纵向夹持部2夹持并随着纵向夹持部2垂直方向移动进行双面曝光。
【主权项】
1.一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，包括基座(4)和投影光路(5)，其特征在于，还包括滑移座(6)，基座(4)内部中空，基座(4)底部表面设有供滑移座(6)水平滑动的轨道(3)，轨道(3)位于基座(4)的两个侧壁中间位置，滑移座(6)底部开设有与轨道(3)外形相适配的凹槽，滑移座(6)通过底部的凹槽与轨道(3)滑动连接，滑移座(6)内侧面设有纵向夹持部(2)，投影光路(5)设置在基座(4)的两个侧壁上，投影光路(5)为DMD投影光路。2.根据权利要求1所述的一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，其特征在于，所述的纵向夹持部(2 )滑动连接在滑移座(6 )内侧面。3.根据权利要求1所述的一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，其特征在于，所述的DMD投影光路沿水平方向多排交叉设置在基座(4)的两个侧壁上。4.根据权利要求3所述的一种DMD投影激光直写垂直双面曝光装置，其特征在于，所述的基座(4)的两个侧壁上设置的DMD投影光路对称。
【文档编号】G03F7/20GK205539923SQ201620059995
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月22日
【发明人】张伟, 赵华, 徐巍, 王翰文, 马汝治
【申请人】江苏影速光电技术有限公司