利用多棱镜扫描技术进行曝光的pcb曝光设备的制造方法

文档序号:10855441阅读:189来源:国知局
利用多棱镜扫描技术进行曝光的pcb曝光设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件倾斜放置于设备基础底座并且垂直于工件传输定位系统,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,所述的被曝光工件为PCB板。本实用新型在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,被曝光工件为PCB板,这样的对称布置在PCB板两侧,被曝光工件与设备基础底座具有倾斜角度,PCB板沿倾斜角度方向运动,对PCB板进行双面曝光,而且可以对多个PCB板进行双面曝光。
【专利说明】
利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备。
【背景技术】
[0002]直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术,在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程,并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机多以单工件台方式进行扫描曝光,先将被曝光工件的A面曝光完成后,再进行翻版,然后对B面进行曝光。在单工件台系统中,用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统,各操作流程均已经达到耗时的上限,很难再缩短某个操作步骤的操作时间,即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质,已很难再提高产能。

【发明内容】

[0003]针对上述现有技术存在的问题,本实用新型提供一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,能够对倾斜放置的PCB板进行双面曝光。
[0004]为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件倾斜放置于设备基础底座并且垂直于工件传输定位系统,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,所述的被曝光工件为PCB板。
[0005]所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置至少两个被曝光工件,每个被曝光工件两侧均对称布置有多棱镜曝光系统。
[0006]本装置还配套数据控制系统。
[0007]被曝光工件与设备基础底座的倾斜角度为1°?89°。
[0008]本实用新型在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,被曝光工件为PCB板,这样的对称布置在PCB板两侧,曝光系统布置于PCB板两侧且固定,被曝光工件与设备基础底座具有倾斜角度,PCB板沿倾斜角度方向运动,对PCB板进行双面曝光,而且可以对多个PCB板进行双面曝光。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的结构示意图。
[0010]图中:1.工件传输定位系统,2.被曝光工件,3.第一多棱镜曝光系统,4.设备底座,5.第二多棱镜曝光系统。
【具体实施方式】
[0011 ]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0012]如图1所示,一种基于多棱镜扫描技术的激光直写双面曝光设备,包括工件传输定位系统1、多棱镜曝光系统、设备基础底座4与设备配套数据控制系统,图1中的多棱镜曝光系统为第一多棱镜曝光系统3和第二多棱镜曝光系统5,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件两侧对称布置有第一多棱镜曝光系统3和第二多棱镜曝光系统5,所述的被曝光工件2为PCB板。
[0013]作为进一步改进,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置可以两个或者更多的被曝光工件,每个被曝光工件两侧均对称布置有多棱镜曝光系统。
[0014]本实用新型在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,被曝光工件为PCB板,这样的对称布置在PCB板两侧,可同时PCB板进行双面曝光,而且可以对多个PCB板进行双面曝光。
【主权项】
1.一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,其特征在于,包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件,被曝光工件倾斜放置于设备基础底座并且垂直于工件传输定位系统,被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统,所述的被曝光工件为PCB板。2.根据权利要求1所述的一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,其特征在于,所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置至少两个被曝光工件,每个被曝光工件两侧均对称布置有多棱镜曝光系统。3.根据权利要求1所述的一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,其特征在于,本装置还配套数据控制系统。4.根据权利要求1所述的一种利用多棱镜扫描技术进行曝光的PCB曝光设备,其特征在于被曝光工件与设备基础底座的倾斜角度为1°?89°。
【文档编号】G03F7/20GK205539924SQ201620060014
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月22日
【发明人】赵华, 张伟, 徐巍, 王翰文, 马汝治
【申请人】江苏影速光电技术有限公司
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