电子乐器的键盘装置的制作方法

专利名称：电子乐器的键盘装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置具有与键按压操作同 步枢转的质量体。
背景技术：
常规地，电子乐器的键盘装置设计为使质量体与键按压操作同步地枢 转，以提供给演奏者与声学钢琴的键盘机构所提供的键触感相似的键触感， 更具体地，提供给演奏者与声学钢琴的键盘机构所提供的质量感和止动感相 似的质量感和止动感。
特开平9-198037号公报公开的键盘装置具有设置在壳体的后部上的上 表面板，该上表面板容置相应的键主体的后端(键支点部)。在该上表面板 的底面固定有一止动件(上限止动件)。锤(质量体)的弯曲部(质量集中 部、自由端)在键主体的后端的后面延伸一定距离。在执行键按压操作时， 弯曲部与上限止动件碰撞。根据这种结构，键盘装置的深度(depth)必须较
大。而且，自由端的行程长度随着从锤的支点部至自由端的距离的增加而增 加。因此，除非质量体枢转的角度减小，否则键盘装置的高度必须较高。
在特开平4-142595号公报和特公平2-019468号公报中公开了一种键盘 装置，其中上述质量体设置在键的下方。在这些情况下，键盘装置的深度与 没有质量体的键盘装置的深度相同。
在特开平4_142595号公报公开的键盘装置中，音锤臂(质量体)设置在 位于轴(键支点)前方的键盘架(框架)的底面上。然而，键盘装置的高度 是将键的侧壁、键的行程长度、键与键盘架之间的间隙、键盘架的厚度、止 动件(上限止动件)的厚度、音锤臂的行程长度、音锤臂的高度、缓冲件(下 限止动件)的厚度等相加而得到的。因此，由于设置了音锤臂，导致这样的 问题键盘装置的形状变得更高，从而电子乐器的体积变大。
在特公平2-019468号公报公开的键盘装置中，各个臂(质量体)的轴(枢
转支点部)装配到设置在相应的键的左侧壁和右侧壁上的凹陷部中，并且臂 的缓冲件(上限止动件)设置在位于相应的键的内部的顶面上。当按压键时， 臂进入到夹在键的右侧壁和左侧壁之间的内部。因此，由于利用了位于各个 键的右侧壁和左侧壁内部的未使用的空间，从而可以降低键盘装置的高度。 然而，由于缓冲件位于相应的键的内部，因此产生了这样的问题臂与缓冲 件的碰撞引起的振动通过键由演奏者的手指感知。另外，由于必须为单个键 设置缓冲件，从而产生这样的问题与所有键共用一个缓冲件的情况相比， 常规装置降低了装配效率，从而需要更高的装配成本。

发明内容
为了解决上述问题提出本发明，并且本发明的目的在于提供一种电子乐 器的键盘装置，该键盘装置具有与键按压操作同步枢转的质量体，该键盘装 置能在不增加装置深度的情况下使高度降低，且能为演奏者提供舒适的止动感。
本发明的特征在于提供一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括多 个键；多个质量体，其以与所述键一一对应的方式位于所述键的下方，且各 质量体均与相对应的键的键按压操作同步地枢转；框架，其上平行地设置所 述多个键和所述多个质量体；上限止动件，其位于所述多个键的下方以固定 至所述框架侧，由此各质量体与所述上限止动件通过碰撞来限制各质量体的 枢转范围的上限；下限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架 侧，由此各质量体与所述下限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的 下限；以及多个固定部，其以与所述多个键一一对应的方式设置在所述框架 上，各固定部的至少上部位于各固定部相应的键的右侧壁和左侧壁内，各固 定部具有底面，所述上限止动件固定至所述底面。
根据本发明的特征，多个质量体、上限止动件和下限止动件位于多个键
的下方，从而不需要增加该装置的深度。另外，固定部没有设置在键主体侧
而是设置在框架侧，从而提供给演奏者舒适的止动感。为了设置固定部，有
效地利用了每个键的右侧壁和左侧壁之间的未使用的内空间。由此，每个固 定部与其相应的键的右侧壁和左侧壁的叠置有助于降低键盘装置的高度。而
且，即使在每个固定部的底面设置在每个键的右侧壁和左侧壁内的情况下，
与常规的固定部设置在框架侧的情况相比，相应的固定部的位置升高。由此， 与常规技术相比，根据本特征的键盘装置的高度可以降低。
常规地，装配有该键盘装置的电子乐器的外部形状可以变薄。在电子乐 器设计成与常规电子乐器的高度相同的情况下，根据本发明的电子乐器可以 扩大位于该键盘装置的键后部的上部上的空间，以用于装备电子乐器的功能 部件，例如设置在操作面板上的开关和指示器。
本发明的另一特征在于，在上述构造中，上述多个固定部中的每一个具 有位于每个固定部的上表面侧的竖直肋。根据该特征，由于竖直肋提高了固 定部的刚度，因此质量体与上限止动件的碰撞使固定部变形很小，从而提高 了传送至演奏者的手指的止动感。
本发明的再一特征在于，在上述构造中，即使在按压相应键的情况下， 每个固定部的底面位于相应的键的右侧壁和左侧壁的下端面的下方。上限止 动件形成为带状，其纵向方向与设置多个键的方向一致，并且该上限止动件 在至少两个相邻的键上连续地延伸，以固定至为所述至少两个相邻的键设置 的相应固定部的底面。因此，上限止动件固定至与键盘的所有键(包括在一 个八度音阶至多个八度音阶内的多个键等)相对应的至少两个相邻键的相应 固定部的底面。由此，与设置用于每个固定部的限动构件以独立地进行固定 的情况相比，本发明的特征提高了该键盘装置的装配效率。
本发明的再一特征在于提供一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包 括多个键；多个质量体，其以与所述键一一对应的方式位于所述键的下方， 各质量体与相对应的键的键按压操作同步地枢转；框架，其上平行地设置所 述多个键和所述多个质量体；上限止动件，其位于所述多个键的下方以固定 至所述框架侧，由此各质量体与所述上限止动件通过碰撞来限制各质量体的 枢转范围的上限；下限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架 侧，由此各质量体与所述下限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的 下限。各质量体均具有第一接触部，在已按压与各质量体相对应的键的状 态下，所述第一接触部与所述上限止动件相接触；第二接触部，在已释放所 述相对应的键的状态下，所述第二接触部与所述下限止动件相接触。所述第 一接触部设置为靠近各质量体的自由端，并且所述第二接触部设置为比所述 第一接触部更加靠近各质量体的枢转支点侧。在已释放与各质量体相对应的
键的状态下，所述第二接触部位于比所述第一接触部的最下端更高的位置。
同样地，根据上述特征，多个质量体、上限止动件和下限止动件位于多 个键的下方，从而不需要增加该键盘装置的深度。另外，在已按压相对应的 键的状态下，与位于框架侧的上限止动件相接触的第一接触部位于自由端附 近("附近"可以包括也可以不包括自由端)，从而将舒适的止动感传送至 演奏者。由于每个质量体与下限止动件的碰撞仅由重力产生，与键按压力无 关，因而由该碰撞引起的冲击小。因此，尽管与下限止动件相接触的第二接 触部设置在质量体的枢转支点侧，质量体与下限止动件碰撞时质量体的变形 也不会产生问题。由于在已释放键的状态下第二接触部位于比第一接触部的 最下端更高的位置，因此该键盘装置的高度不会由于下限止动件的厚度而增 加。
因此，装配有该键盘装置的电子乐器的外部形状可以变薄。在电子乐器 设计成与常规电子乐器的高度相同的情况下，根据本发明的电子乐器可以扩 大位于该键盘装置的键后部的上部上的空间，以用于装备电子乐器的功能部 件，例如设置在操作面板上的开关和指示器。
本发明的再一特征在于，在上述构造中，每个质量体设计成，在己按压 相对应的键的状态下，每个质量体的上部位于与每个质量体相对应的键的右 侧壁和左侧壁内。根据该特征，有效地利用了位于每个键主体的右侧壁和左 侧壁的内部的自由空间，以根据每个质量体与每个键的右侧壁和左侧壁相叠 置的情况增加每个质量体的质量，使得每个质量体的惯性力矩增加。
本发明的再一特征在于，在上述构造中，每个质量体具有向下开口的凹 陷部，由此凹陷部的顶面用作第二接触部，以在已释放相对应的键的状态下 与下限止动件相接触。根据该特征，可以有效地利用位于该凹陷部的前部和 后部的质量，以增加惯性力矩。只要每个质量体构造成通过连接部将枢转支 点部连接至质量集中部，上述凹陷部就能设置于质量集中部上。


图1A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置是 本发明的第一实施例；
图1B是图1A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压
的状态；
图1C是示出当沿着箭头C-C观察时，图IB所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图2A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置为 本发明的第二实施例；
图2B是图2A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压 的状态；
图2C是示出当沿着箭头C-C观察时，图2B所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图2D是示出当沿着箭头D-D观察时，图2B所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图3A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置为 本发明的第三实施例；
图3B是图3A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压
的状态；
图3C是示出当沿着箭头C-C观察时，图3B所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图4A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置为 本发明的第四实施例；
图4B是图4A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压 的状态；
图4C是示出当沿着箭头C-C观察时，图4B所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图5A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置为 本发明的第五实施例；
图5B是图5A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压 的状态；
图5C是示出当沿着箭头C-C观察时，图5B所示的白键主体和黑键主 体的竖向剖视图6A是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘装置为
本发明的第六实施例；
图6B是图6A所示的键盘装置的右侧视图，该键盘装置处于白键被按压
的状态。
具体实施例方式
a.第一实施例
图1A和图1B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置是本发明的第一实施例。图1A示出了未按压键的状态(键释放状态)。 图1B示出了按压白键主体1的状态。图1C是示意性地示出当沿着箭头C-C 观察时，图1B所示的白键主体1和键架3的竖向剖视图。
该键盘装置具有白键主体l、黑键主体2、键架3、键架底板4和质量体 8。键架3沿着设置多个键的方向延伸。键架3例如由金属片或合成树脂制 成。键架3的各个部分(具有字母下标)模制成一体。在键架3的上安装部 3a上平行地设置多个白键主体l和多个黑键主体2。在示出的实例中，上安 装部3a是水平的且具有阶梯部3b。该阶梯部3b设置在沿键的纵向方向(深 度方向)的前部。阶梯部3b具有多个形状类似狭缝的穿孔15。多个穿孔15 与多个键相对应。
键架3具有设置在阶梯部3b前面的基部3c。设置基部3c用于将键架3 安装在键架底板4上。在基部3c的前面设置竖直壁3d。在竖直壁3d上设置 多个键引导件5。各个键引导件5插入相应的白键主体1的顶端la的下部。 为黑键主体2设置的多个键引导件6在上安装部3a上竖立。白键主体的顶 端la的下部、键引导件5、竖直壁3d和键架底板4的前面覆盖有口棒部(mouth stick) 9。
上安装部3a具有阶梯部3e。该阶梯部3e设置在沿着键的纵向方向的后 部。键架3具有位于阶梯部3e后面的基部3f。设置基部3f用于将键架3安 装在键架底板4上。在上安装部3a的后端附近的顶面上设置多个支撑部3g， 以对应于多个白键主体1和多个黑键主体2。各个支撑部3g以自由摆动的方 式支撑相应的键。每个支撑部3g具有直立部3&和前伸部3g4。直立部3gl 从上安装部3a向上突出。在上安装部3a的后部、支撑部3g的前面设置多个 形状类似为狭缝的穿孔16，以对应于相应的键。
如图1C所示，每个支撑部3g具有设置在右侧面和左侧面的上部上的轴 部3g2和3g3。轴部3g2和3g3沿键设置的方向悬突(overhang)。轴部3g2 和3g3装配到设置在白键主体1的后端的右侧壁和左侧壁上的键支点部lb (穿孔)中。以类似的方式构造未示出并对应于黑键主体2的支撑部3g。更 具体地，轴部3g2和3g3装配到设置在黑键主体2的后端的右侧壁和左侧壁 上的键支点部2b (穿孔)中。
图1A所示的直立部3gl的上部水平地向前悬突，以形成具有扁平形状 的前伸部(固定部)3g4。该前伸部3g4的底面(在示出的实例中为水平面) 固定有上限止动件(上限止动构件)11。在白键主体1和黑键主体2的右侧 壁和左侧壁内具有位于键内部的空间，该空间是向下开口的。为每个白键主 体1和黑键主体2设置的前伸部3g4和上限止动件11位于白键主体1或黑键 主体2的右侧壁和左侧壁内。更具体地，将前伸部3g4和上限止动件11设置 为与白键主体1或黑键主体2的右侧壁和左侧壁叠置，且不干扰白键主体1 或黑键主体2的右侧壁和左侧壁。
在键架3的上安装部3a的上表面上设置多个键开关14。与多个键开关 相对地，在每个白键主体1和黑键主体2的右侧壁和左侧壁内部的空间内设 置突部(致动器)。更具体地，突部从每个键的顶面的底面向下突出。而在 图1C中，并没有示出该突部。在上安装部3a的底面上、上安装部3a的前 端附近直立一质量体支撑部3h。示出的质量体支撑部3h设置用于白键主体 1。从白键主体的顶端la附近的右侧壁和左侧壁的下端向下延伸一力传送部 lc。该力传送部lc的顶端具有底板。该底板的上部沿键的纵向方向穿孔。在 底板的上表面和底面固定有一弹性件7。
黑键主体2的力传送部未示出，但其从黑键主体的顶端2a向下延伸。 黑键主体2的力传送部的下端朝前。黑键主体2的力传送部的位置沿键设置 方向与力传送部lc的位置叠置。同样地，以类似的方式为每个黑键主体2 设置由质量体支撑部可枢转地支撑的类似的质量体。设置用于黑键主体2的 每个质量体通过弹性件与相对应的黑键主体2的力传送部的底板相接合。各 个白键主体1和黑键主体2由于它们相对应的质量体8的自身重量而回复到 它们各自的初始位置。但是，也可以在白键主体1和键架3之间以及黑键主 体2和键架3之间分别设置回复弹簧，以用于使白键主体1和黑键主体2回
复到它们各自的键释放位置。
多个质量体8、下限止动件10和上限止动件11位于多个白键主体1和
多个黑键主体2 (键盘表面)的下方(包括位于各个键内部的空间)。各个 质量体8对应于相应的白键主体1和黑键主体2。每个质量体8与其相对应 的键主体的键按压操作同步地枢转。示出的质量体8设置用于白键主体1。 质量体8具有枢转支点部8c，由质量体支撑部3h支撑；主驱动部8a和副 驱动部8b，它们分叉开(bifurcated)并安装在枢转支点部8c的前面，以通 过弹性件7与键的力传送部lc相接合；以及质量集中部8e，其位于枢转支 点部8c的后面并用作自由端，且连接部8d夹在枢转支点部8c和质量集中部 8e之间。
连接部8d的后端连接至质量集中部8e前端的下部。质量集中部8e沿键 设置方向的宽度小于每个键的左侧壁和右侧壁之间的内宽度。所示出的点P 是距离枢转支点部8c最远的点。在本说明书中，该点被称为自由端。连接 部8d和质量集中部8e在枢转时产生较大的惯性力矩。质量体8穿过驱动部 8a、 8b和枢转支点部8c之间的穿孔15。在示出的实例中，质量集中部8e 的下端面8eJ呆持水平。下端面8e,用作与下限止动件10 (下限止动构件) 接触的接触部。下限止动件10固定至键架底板4的上表面。在示出的实例 中，质量集中部8e的上端面8e2为倾斜表面，其后部低于前部。然而，如图 1B所示，上端面8e2在键被按压时变为水平。
在键被释放的图1A示出的键释放状态下，如果按压键主体(在示出的 实例中为白键主体l)，则与该键相对应的质量体8尽管受重力的作用仍逆 时针枢转。质量集中部8e的上端面8e2穿过穿孔16。在此过程中，根据质量 体8的惯性力矩而产生的反作用传送到白键主体1，从而将质量感传送到演 奏者的手指。如图1B所示，质量体的连接部8d变为水平，以使质量集中部 8e的上端面8e2与上限止动件(上限止动构件)11碰撞，从而限制质量体8 的枢转上限。由于对质量体8的枢转的限制还涉及对质量体8进行缓冲，因 此演奏者将通过键利用其手指感知到止动感。如图1B所示，质量集中部8e 的自由端P移动的距离被称为"行程长度"。
上述前伸部3g4不是设置在白键主体1和黑键主体2侧，而是设置在键 架3侧。因此，由质量集中部的上端面8e2与上限止动件11的碰撞产生的冲
击不会通过键传送到演奏者的手指。前伸部3g4的厚度可以大于键架的上安
装部3a的厚度。另夕卜，直立部3gi的刚度可以很高。而且，直立部3g,邻近 阶梯部3e设置。由此，这种结构易于防止固定有上限止动件11的前伸部3g4 变型(扭曲)。
在示出的实例中，在键架3的上安装部3a的底面上设置辅助止动件12， 以与穿孔16的前端邻近。如果键按压操作使质量体8暂时超出质量体8的 枢转上限(完全被按压的停顿状态)，则辅助止动件12可防止连接部8d与 键架的上安装部3a碰撞。然而，在连接部8d不可能与键架3的上安装部3a 碰撞的情况下，不需要设置辅助止动件12。
如果演奏者释放键，则质量体8由于其自身重量而沿相反的方向枢转， 以返回到图1A所示的位置。由此，质量集中部8e的下端面8e,与下限止动 件IO碰撞，从而限定了质量体8的初始位置(键释放状态)。由于集中了 质量体8的质量的质量集中部8e的下端面8e,具有与下限止动件10相接触 的接触部(第二接触部)，由此可以降低键释放时例如回弹和振动之类的止 动感。
另一方面，当白键主体1或黑键主体2被按压时，设置在键架的上安装 部3a的前部上表面上的下限止动件13限制被按压的白键主体1或黑键主体 2的右侧壁和左侧壁的下端的下限。通过沿着所设置的键的方向以带状设置 上述下限止动件10、辅助止动件12和下限止动件13，下限止动件10、辅助 止动件12和下限止动件13可以由所有键或由包括在一个八度音阶或多个八 度音阶中的多个键共用。
在上述特开平4-142595号公报中公开的常规质量体在相应的键被按压 时与固定至键架的底面的上限止动件相接触。在第一实施例中，不同于常规 结构，上限止动件11设置在前伸部3g4的底面上，且位于比上安装部3a的 底面更高的位置处。由此，上限止动件11的位置如图1B所示向上移动了距 离h。与常规结构相比，上限止动件ll的位置移动还涉及质量体8和下限止 动件10的向上移动，从而产生如图1A至图1C所示的布置。更具体地，上 安装部3a的高度与常规技术相比降低了距离h。因而，与常规技术相比，上 安装部3a的高度降低有助于键盘装置的整体高度H的降低。
只要前伸部3g4的底面的位置比键架的上安装部3a的底面高，就可以实
现上述键盘装置的整体高度的降低。然而在第一实施例中，为了使上限止动
件11的位置尽可能比键架3的上安装部3a的底面高，将前伸部3g4设置在 相应的白键主体1和黑键主体2的右侧壁和左侧壁(沿键盘高度方向的空间) 内。在这种情况下，在前伸部3g4的底面与键架的上安装部3a之间留出足够 的间隙。第一实施例的这种结构提供了这样的优点有助于将上限止动件ll
设置在前伸部3g4的底面上，且将上限止动件ll固定至前伸部3g4的底面。
只要至少相应的前伸部(固定部)3g4的上部设置在相应的白键主体1 和黑键主体2的左侧壁和右侧壁内，就能够有效地利用每个键的左侧壁和右
侧壁之间的未用内部空间来容置前伸部3g4。由此，前伸部3g4与键的右侧壁
和左侧壁的叠置有助于降低键盘装置的高度。
在上述说明中，多个键开关14设置在键架3的上安装部3a的上表面上。 如上述特开平9-198037号公报中所述，用于取代上述结构，可以在每个质量 体8的下端面上设置凸部(致动器)，例如在主驱动部8a和枢转支点部8c 之间的下端面上设置凸部。并且，在该凸部的下方设置电路板，键开关14 设置在该电路板上。
上述支撑部3g不仅支撑白键主体1和黑键主体2，还支撑前伸部3g4， 该前伸部3g4用作固定上限止动件11的固定部。取代上述结构，可以独立地 设置用于支撑白键主体1和黑键主体2的支撑部和用于支撑上限止动件11 的固定部的支撑部。在使用这种独立的支撑部的情况下，白键主体l和黑键 主体2的支撑件可以使用不是由示出的键支点部(穿孔)和轴形成的不同的 构件来取代。
在键架3由合成树脂制成的情况下，设置用于相应的键的多个支撑部3g 可以一体地形成为键架3的一部分。然而，支撑部3g也可以与键架3独立 地形成，由此支撑部3g在装配时设置在键架3上。上限止动件11可以通过 双色射出成型(two-colormolding)与支撑部3g—体形成。或者，上限止动
件11可以分别接合至前伸部3g4的底面。
考虑到冲击吸收性、减噪性、以及白键主体1和黑键主体2的止动位置 的重复性和质量体8的止动位置的重复性，包括上述上限止动件11的止动 件需要具有回复力。更具体地，止动件采用例如毡制品或聚氨酯弹性体之类 的限动构件。在质量体8中，从主驱动部8a和副驱动部8b至枢转支点部8c
的这些构件由合成树脂等一体地形成，以用作质量体8的基部。在金属连接 部8d插入到模具中的状态下，该基部例如通过射出成型一体地形成。质量 集中部8e由金属制成，例如与连接部8d —体成型。 b.第二实施例
图2A和图2B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置为本发明的第二实施例。图2A示出了未按压键时的键释放状态。图2B 示出了按压白键主体1的状态。图2C是示意性地示出当沿着图2B中的箭头 C-C观察时，白键主体l、键架21和上限止动件23的竖向剖视图。图2D是 示意性地示出当沿着图2B中的箭头D-D观察时，白键主体1和键架21的 竖向剖视图。在这些图中，与图1A至图1C中示出的部件类似的部件采用相 同的附图标记表示，并省略了详细的说明。
键架21的大体结构与图1A至图1C中示出的键架3的大体结构相似。 键架21具有上安装部21a、阶梯部21b、基部21c、竖直部21d、阶梯部21e 和基部21f。
在上安装部21a的后端附近竖立多个支撑部21g。多个支撑部21g以自 由摆动的方式支撑它们相对应的白键主体1和黑键主体2。如图2D所示， 每个支撑部21g的直立部21gl从上安装部21a的上表面凸出。从直立部21gl 的右侧面和左侧面的上部沿键设置方向凸出轴部21g2和21g3。轴部21g2和 21g3装配到设置在白键质量体1和黑键质量体2的后端的右侧壁和左侧壁上 的键支点(穿孔)lb或键支点(穿孔)2b中。各个支撑部21g的上部设置 在相应的白键主体1的右竖直侧壁和左竖直侧壁之间。支撑部21g与键架21 一体成形。或者，支撑部21g可以与键架21独立地形成。
质量体22设置在多个白键主体1和多个黑键主体2 (键盘表面)的下方 (包括各个键内部的空间)，以对应于相应的白键主体l和相应的黑键主体 2。质量体22的大体结构几乎与图1A和图1B所示的质量体8的大体结构相 同。每个质量体22由质量体支撑部21h支撑，以通过相对应的键的力传送 部lc枢转。每个质量体22具有主驱动部22a、副驱动部22b、枢转支点部 22c、连接部22d和用作自由端的质量集中部22e。连接部22d的后端连接至 质量集中部22e的前端上部。在键架21的阶梯部21b上设置多个形状类似 狭缝的穿孔25，以分别对应于多个键。各个质量体22穿过相应的穿孔25。
在上安装部21a的底面上设置上限止动件23，该上限止动件23固定至支撑 部21g前面的底面。上限止动件23形成为类似带状，其纵向方向与多个键 的设置方向一致。上限止动件23由包括在键盘中的所有键或包括在一个八 度音阶或多个八度音阶中的多个键共用。
在图2A示出的初始状态中，质量集中部22e的下端面22A与下限止动 件(下限止动构件)IO相接触。当按压键时，与该键相对应的质量体22尽 管受到重力的作用仍逆时针枢转。如图2B所示，质量体22的连接部22d变 为水平，由此质量集中部22e的上端面22e2与上限止动件(上限止动构件) 23相碰撞。自由端P移动的一段距离被称为"行程长度"。黑键主体2也具 有力传送部，还可以设置由质量体支撑部可枢转地支撑的类似的质量体。因 此，黑键主体2的质量体通过相对应的黑键的力传送部而枢转。
当质量集中部22e与上限止动件23相碰撞时，演奏者将通过键利用其 手指感知到止动感。然而，如果位于上安装部21a上并具有固定上限止动件 23的底面的上限止动件固定部(固定部)24发生变形(扭曲)，则会减弱 止动感。特别地，在键架21由合成树脂制成的情况下，上限止动件固定部 24易于变形。因此，通过在上安装部21a上的上限止动件固定部24的上表 面上形成竖直肋21aa、 21ab，可以加强上限止动件固定部24并提高刚度。
示出的竖直肋21aa为薄板，其形成在与白键主体1和黑键主体2的右侧 壁和左侧壁的中点(沿键设置方向的中点)相对应的位置，并沿键的纵向方 向延伸。竖直肋21ab为从竖直肋21aa的中点沿键设置方向横向地延伸的薄 板。竖直肋21aa和竖直肋21ab形成形状类似十字架的竖直肋。也可以仅设 置其中一个肋。具体地，可以仅设置竖直肋21aa，其提高容易变形(扭曲) 的键沿纵向方向的刚度。上述上限止动件固定部24的结构为竖直肋21aa 和21ab添加到上安装部21a。因此，设置上限止动件固定部24以对应于相 应的键(相应的质量体)。更具体地，各个上限止动件固定部24的上部， 换句话说，各个竖直肋21aa、 21ab的上部位于相应的白键主体1和相应的黑 键主体2的右侧壁和左侧壁内。
在竖直肋21aa和21ab位于上安装部21a上的任何给定位置的情况下， 从上安装部21a至白键主体1和黑键主体2的右侧壁和左侧壁的下端的距离 必须是足够的，以防止竖直肋21aa、 21ab干扰白键主体l和黑键主体2的右
侧壁和左侧壁。然而在第二实施例中，通过充分利用位于白键主体l或黑键
主体2的右侧壁和左侧壁内的自由空间来设置竖直肋21aa、 21ab。因此，竖 直肋21aa、 21ab与白键主体1或黑键主体2的右侧壁和左侧壁叠置(距离h) 有助于降低从上安装部21a到右侧壁和左侧壁的下端的距离。由此，与竖直 肋21aa、 21ab简单地设置在任何给定位置的状况相比，可以降低键盘装置的 整体高度H。在示出的实例中，尽管上限止动件23以与常规技术类似的方 式固定至上安装部21a的底面，但上安装部21a的高度设计成比图1A至图 1C所示的第一实施例的上安装部3a的高度降低。因此，本实施例的行程长 度小于第一实施例的行程长度。 c.第三实施例
图3A和图3B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置为本发明的第三实施例。图3A示出了键未被按压的键释放状态。图3B 示出了白键主体1被按压的状态。图3C是示意性地示出了当沿着图3B中的 箭头C-C观察时，白键主体1和键架31的竖向剖视图。在这些图中，与图 1A至图1C中所示的部件类似的部件采用相同的附图标记表示，并省略了详 细的说明。
键架31的大体结构与图1A至图1C中示出的键架3的大体结构相似。 然而，包括在键架31中的上安装部31a分为前部和后部。前上安装部31^ 连接至后上安装部31a3，后上安装部31a3略低于前上安装部31ai，阶梯部 31a2夹置在它们之间。键架31具有阶梯部31b、基部31c、竖直壁31d、阶 梯部31e和基部31f。在阶梯部31b上，平行地设置多个形状类似狭缝的穿 孔35，以对应于多个键。
在后上安装部31a3的后端附近竖立多个支撑部31g，以对应于多个白键 主体1和黑键主体2。在示出的实例中，在键架31的前上安装部31ai的后 部设置多个形状类似狭缝的穿孔36，以对应于相应的键。每个穿孔36从后 面将要描述的辅助止动件34的后端延伸至设置在后上安装部31*上的支撑 部31g的前面。每个直立部31gl具有设置在设有轴部31g2、 31g3的上部和前 伸部31g4之间的竖直肋31g5。该竖直肋31gs为纵向截面的形状如同三角形 的薄板，并形成在直立部31g,与前伸部31g4的中点处，以对应于白键主体l 和黑键主体2的右侧壁和左侧壁的沿键设置方向的中点。所示出的轴部31g2、
31g3的高度与图1A至图1C所示的轴部3g2、 3g3的高度相同。
由于竖直肋31g5加强了前伸部31g4(固定部)，从而提高了前伸部31g4 的刚度以防止前伸部31g4变形(扭曲)。由此，提高了由固定至前伸部31g4
的底面的上限止动件33产生的止动感。在示出的实例中，前伸部31g4的上 部位于白键主体l的右侧壁和左侧壁内。然而，支撑部31g形成为使前伸部 31g4的底面位于白键主体1和黑键主体2的右侧壁和左侧壁的下端的下方。
为了将上限止动件33设置在前伸部3lg4的底面上并将上限止动件33固 定至前伸部31g4的底面，必须在前伸部31g4的底面与键架31的上安装部之 间留有充分的间隙，该间隙大于上限止动件33的厚度。因此，如图所示， 上安装部31a分为前部和后部，由此后上安装部31a3的高度低于前上安装部 31&的高度。在如图1A至图1C所示的第一实施例中，上安装部3a也可以 分为前部和后部，以使后安装部的高度低于前安装部的高度。
第三实施例的质量体的行程长度和键盘装置的整体高度H设计为与图 1A至图1C所示的第一实施例相同。然而，由于支撑部31g具有竖直肋31g5， 因此前伸部(固定部)31g4的底面的位置不能升高至与图1A至图1C所示的 前伸部(固定部)3g4的底面的位置一样高。因此，通过降低质量集中部32e 的上端面的后部(后上端面32e3)，来降低与上限止动件33相接触的表面 的位置。
而且，第三实施例设计为使固定有上限止动件33的前伸部(固定部) 31g4的底面位于白键主体1和黑键主体2的右侧壁和左侧壁的下端的下方。 因此，上限止动件33的形状可以为带状，以由该键盘中的所有键或包括在 一个八度音阶或多个八度音阶中的多个键共用。在这种情况下，上限止动件 33通过粘接等方式固定至沿着键平行设置的多个支撑部31g的相应前伸部 (固定部)31g4的底面，由此，上限止动件33在多个前伸部(固定部)31g4 上延伸。
在多个白键主体1和多个黑键主体2 (键盘表面)的下方(包括相应的 键内部的空间)平行地设置多个质量体32，从而各个质量体对应于相应的白 键主体1和相应的黑键主体2。每个质量体32由质量体支撑部31h支撑，以 通过相对应的键的力传送部lc而枢转。每个质量体32具有主驱动部32a、 副驱动部32b、枢转支点部32c、连接部32d和用作自由端的质量集中部32e。
连接部32d的后端连接至质量集中部32e的前端的下部。质量集中部32e具 有下端面32ei。质量体32的大体结构与图1A至图IB中示出的质量体8的 大体结构相似。然而质量集中部32e的上端面的后部凹陷以具有阶梯部，由 此该上端面分为前上端面32e2和后上端面32e3。
当按压白键主体1时，与该键相对应的质量体32尽管受到重力的作用 仍逆时针枢转。如图3B所示，质量集中部32e的前上端面32&与后上端面 32e3穿过穿孔36，由此连接部32d、前上端面32^与后上端面32^变为水平， 以使质量集中部32e的后上端面32e3与上限止动件(限动构件)33相碰撞。 由此，限制了质量体32的枢转上限。另外，由于质量体32得到缓冲，因而 演奏者将通过键利用其手指感知到止动感。在示出的实例中，前上端面32e2 进入夹置在白键主体l的右侧壁和左侧壁之间的内部。质量集中部32e的自 由端P移动了如图3中表示为"行程长度"的距离。
设置在键架31a的前上安装部31ai的底面上的辅助止动件34与图1A和 图1B所示的辅助止动件12相似。类似地，每个黑键主体2具有由质量体支 撑部可枢转地支撑的类似的质量体，由此，该质量体通过相对应的黑键的力 传送部枢转，以使具有类似形状的质量集中部与上限止动件33碰撞。
在常规技术中，上限止动件33位于键架(等同于前上安装部31a,)的 底面上，以固定至该底面。因此，在第三实施例中，用于固定上限止动件33 的构件从键架31的底面到前伸部31g4的底面升高了一段距离h，由此降低 了前上安装部31ai和后上安装部31a2的位置，因而降低了键盘装置的整体高 度H。
即使前上端面32e2的高度降低至使质量集中部32e的前上端面32e2与 示出的后上端面32e3具有相同的高度，键盘装置的整体高度H会降低距离h。 然而，质量集中部32e设计成使前上端面32e2高于后上端面(第一接触部) 32e3，导致质量集中部32e的质量增大以增加质量体32的惯性力矩。更具体 地，第三实施例的质量集中部32e设计为，使前上端面32e2足够高(沿竖直 方向较长)以进入夹置在白键主体l的右侧壁和左侧壁之间的内部。因此， 有效地利用了位于该键的右侧壁和左侧壁内的自由空间，从而增加了质量体 32的惯性力矩。 d.第四实施例
图4A和图4B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置为本发明的第四实施例。图4A示出了未按压键时的键释放状态。图4B 示出了按压白键主体1的状态。图4C是示意性地示出了当沿着图4B中的箭 头C-C观察时，白键主体1和键架41的竖向剖视图。在这些图中，与图1A 至图1C中示出的部件类似的部件采用相同的附图标记表示，并省略了详细 的说明。
键架41的大体结构与图1A至图1C中示出的键架3的大体结构相似。 键架41具有上安装部41a、阶梯部41b、基部41c、竖直部41d、阶梯部41e 和基部41f。在上安装部41a的后端附近的上表面上设置多个支撑部41g，多 个支撑部41g平行地向上凸出，以对应于多个白键主体1和黑键主体2。多 个支撑部41g以自由摆动的方式支撑它们相对应的白键主体1和黑键主体2。 在上安装部41a的后部，换言之，在支撑部41g的前方设置形状多个类似狭 缝的穿孔42，以对应于相应的键。如图4C所示，支撑部41g具有直立部41gl 和竖直肋41g4。沿键设置方向位于键的中点处的竖直肋41g4为从直立部41gl
的前表面向前延伸特定距离的薄板。
竖直肋41g4设置在键架41的上安装部41a上。更具体地，竖直肋41g4 位于固定有后面描述的上限止动件(上限止动构件)43的一部分的上表面上。 因此，增强了该部分的刚度。另外，直立部41g,和竖直肋41g4位于阶梯部 41e附近。因此，当后面描述的质量体44的质量集中部44e与上限止动件43 碰撞时，固定有上限止动件43的部分变形(扭曲)较少，从而提高了由演 奏者通过其手指感知的止动感。
在白键主体1或黑键主体2的右侧壁和左侧壁内，在键的内部具有空间， 该空间开口向下。上述直立部41gl的上部和竖直肋41g4设置成使白键主体1 或黑键主体2的右侧壁和左侧壁相叠置，且不会干扰白键主体1或黑键主体 2的右侧壁和左侧壁。因此，由于竖直肋41g4与白键主体l或黑键主体2的 右侧壁和左侧壁相叠置，从而竖直肋41g4的存在不会导致图4B所示的键盘 装置的整体高度H增加。
在直立部41g!的右侧面和左侧面的上部上设置轴部41g2、 41g3。该轴部 41g2、 41g3沿键设置方向悬置。该轴部41g2、 41g3装配到设置在白键主体1 的后端的右侧壁和左侧壁的键支点部lb (穿孔)中。以相似的方式构造设置
用于黑键主体2的未示出的支撑部41g。更具体地，该轴部41g2、 41&装配 到设置在黑键主体2的后端的右侧壁和左侧壁的键支点部2b (穿孔)中。每 个白键主体1或黑键主体2以自由摆动的方式沿围绕键支点部lb、 2b按压 和释放键的方向被支撑。
多个质量体44、下限止动件45和上限止动件43设置在多个白键主体1 和多个黑键主体2 (键盘表面)的下方(包括位于各个键内部的空间)。质 量体44的大体结构几乎与图1A和图1B所示的质量体8的大体结构相同。 质量体44具有枢转支点部44c，由质量体支撑部41h支撑；主驱动部44a 和副驱动部44b，它们分叉开并安装在枢转支点部44c的前方，以通过弹性 件7与相对应的键的力传送部lc相接合；用作自由端的质量集中部44e，其 位于枢转支点44c的后面并具有连接部44d，该连接部44f夹置在枢转支点 部44c和质量集中部44e之间。
连接部44d的后端连接至质量集中部44e的前端的下部。质量集中部44e
沿所设置的键的方向的宽度小于每个键的右侧壁和左侧壁之间的内宽度。在 键架41的阶梯部41b上设置多个形状类似狭缝的穿孔46，以对应于多个键。 质量体44穿过驱动部44a、 44b和枢转支点部44c之间的穿孔46。
质量集中部44e具有前下端面44ei和后下端面44e2。在图4A示出的键 被释放的键释放状态下，前下端面44ei位于比后下端面44e2更高的位置。后 下端面44e2设置为靠近键架底板4，但不与键架底板4相接触。在示出的实 例中，前下端面44q和后下端面44e2均保持水平。前下端面44^用作与下 限止动件45 (下限止动构件)接触的接触部(第二接触部)。下限止动件 45固定至键架底板4的上表面。
在质量集中部44e上具有位于前下端面44ei上方的前上端面44e3，而在 后下端面44e2上方具有后上端面44e4。在图4B示出的键被按压的状态下， 后上端面44e4用作与后述的上限止动件43相接触的接触部(第一接触部)。 在示出的实例中，前上端面44e3和后上端面44e4均平行于键架41的上安装 部41a以保持水平。在该实施例中，前下端面44q (第二接触部)位于比后 上端面4化4 (第一接触部)的最下端(等同于示出实例中的自由端P)更高 的位置。
在图4A示出的键被释放的键释放状态下，如果按压键主体(在示出的
实例中为白键主体l)，则与该键相对应的质量体44尽管受到重力的作用仍 逆时针枢转。质量集中部44e的前上端面44e3穿过穿孔42并进入到夹置在 白键主体1的右侧壁和左侧壁之间的内部，且不会干扰白键主体1的右侧壁 和左侧壁。在质量集中部移动的过程中，根据质量体44的惯性力矩的反作 用传送到白键主体1，从而使质量感传送到演奏者的手指。如图4B所示， 质量体44的连接部44d变为水平，以使质量集中部44e的后上端面(第一 接触部)4化4与上限止动件(上限止动构件)43相碰撞，从而限制质量体 44的枢转上限。由于对质量体44枢转的限制还涉及对质量体44的缓冲，因 而演奏者将通过键利用其手指感知到止动感。自由端P移动在图4B中表示 为"行程长度"的--段距离。由于上限止动件43固定至键架41的底面，因 而质量集中部44e的后上端面44e4与上限止动件43碰撞产生的冲击不会通 过键传送到演奏者的手指。
通常，已知的是，枢转构件的、从接触部到枢转支点部的部分不易于变 形，而从接触部到自由端的部分易于变形。因此，在图4B示出的键被按压 的状态下，与上限止动件43相接触的后上端面(第一接触部)44q位于自 由端P附近(该"附近"可以包括自由端P也可以不包括自由端P)，从而 可将舒适的止动感传送到演奏者的手指。另外，自由端P侧的构件可能变形， 从而后上端面44e4与除了上限止动件43之外的不期望的部分例如键架41的 上安装部41a和白键主体1相碰撞的可能性降低。
在示出的实例中，在键架41的上安装部41a的底面上设置辅助止动件 47，以邻近穿孔42的前端。如果键被按压使质量体44暂时超出(过行程 (over-stroke))质量体44的枢转上限位置(完全被按压的停顿位置)，则 辅助止动件47防止连接部44d与键架41的上安装部41a相碰撞。然而，在 不可能发生上述碰撞的情况下，不需要设置该辅助止动件47。
如果演奏者释放键，则质量体44由于其自身重力而沿相反的方向枢转， 以返回至图4A所示的位置。由此，质量集中部44e的前下端面44e,与下限 止动件45碰撞，从而限定了质量体44的初始位置(键释放状态)。由于质 量集中部44e与下限止动件45的碰撞仅由重力产生而与任何键按压力无关， 故由该碰撞产生的冲击较小。因此，尽管与下限止动件45相接触的前下端 面(第二接触部)44e!与枢转支点部44c的距离比后上端面(第一接触部)44e4与枢转支点44c的距离短，质量体44的变形不会产生任何问题。因为集 中了质量体44的质量的质量集中部44e的下端面44ei具有与下限止动件45 相接触的接触部(第二接触部)，由此可以降低在释放键时例如回弹和振动 之类的止动感的减弱。
另一方面，当按压白键主体1或黑键主体2时，设置在键架41的上安 装部41a的前部上表面上的下限止动件13限制了被按压的键的右侧壁和左 侧壁的下端的下限。由于与下限止动件45、辅助止动件47和下限止动件13 类似的，通过沿所设置的键设置类似带状的上限止动件43，上述上限止动件 43固定至键架41的上安装部41a，因此上限止动件43可以由至少两个相对 应的键的多个质量体44共用。更具体地，上限止动件43可以由所有键的多 个质量体44或包括在一个八度音阶或多个八度音阶中的多个键的多个质量 体44共用。与上限止动件43设置用于每个质量体44以被独立地固定的情 况相比，上限止动件43由多个质量体共用的第四实施例提高了装配键盘装 置的效率。
在该实施例中，在图4A示出的键被释放的键释放状态下，前下端面44ei (第二接触部)位于比后上端面(第一接触部)44e4的最下端更高的位置。 由此，质量体集中部44e沿高度方向与下限止动件45部分叠置。然而，在 特开平4-142595号公报中公开的常规质量体中，平坦的下端面与下限止动件 相接触。由此，下端面(第二接触部)根据下限止动件的厚度而位于较高的 位置，从而该键盘装置的整体高度升高。然而，在该实施例中，由于质量集 中部44e与下限止动件45相叠置，因此键架41的上安装部41a的高度低于 常规技术中的高度，从而该键盘装置的整体高度H降低。
而且，在图4B示出的键被按压的状态下，前上端面44e3位于比后上端 面(第一接触部)44e4更高的位置。该结构有助于增加质量集中部44e的质 量。该质量集中部44e设计成当键被按压时使质量集中部44e的上部(前上 端面44e》位于键的左侧壁和右侧壁内的未用空间内。更具体地，该质量体 44与键沿高度方向叠置，且不会干扰键的右侧壁和左侧壁，从而该键盘装置 的整体高度H没有改变。该质量集中部44e可以设计成使前上端面44e3在键 被完全按压的状态下仅与上限止动件43叠置。或者，质量集中部44e可以 设计成使前上端面44e3在键被完全按压的状态下位于上安装部41a的上表面
与键的右侧面和左侧面的下端之间。 e.第五实施例
图5A和图5B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置为本发明的第五实施例。图5A示出了键未被按压的键释放状态。图5B 示出了白键主体1被完全按压的状态。图5C是示意性地示出了当沿着图5B 中的箭头C-C观察时，白键主体1、键架51和上限止动件53的竖向剖视图。 在这些图中，与图4A至图4C中所示的部件类似的部件采用相同的附图标记 表示，并省略了详细的说明。与图4A至图4C示出的实施例相比，第五实施 例设计成，在连接部的底面上设置与下限止动件相接触的部件，同时通过升 高键架的上安装部的后部而升高上限止动件的位置。
键架51的大体结构与图4A和图4B中示出的键架41的大体结构相似。 然而，包括在键架51中的上安装部51a分为前部和后部。前上安装部51w 连接至后上安装部51a3，后上安装部51a3略高于前上安装部51ap且二者之 间夹置一过渡部51a2。键架51具有阶梯部51b、基部51c、竖直壁51d、阶 梯部51e和基部51f。在阶梯部51b上设置多个形状类似狭缝的穿孔54，以 对应于多个键。在后上安装部51a3的后端附近平行地设置多个支撑部51g， 以对应于多个白键主体1和黑键主体2。每个支撑部51g具有直立部51gl和 竖直肋51g4。在后上安装部51a3的后部上、支撑部51g的前面设置多个形状 类似狭缝的穿孔55，以对应于相应的键。
如图5C所示，在直立部51gl的右侧面和左侧面的上部设置轴部51g2和 51g3。示出的轴部51g2和51&的高度与图4C所示的轴部41g2和41g3的高 度相同。支撑部51g的上部位于白键主体1或黑键主体2的右侧壁和左侧壁 内。质量体52设置在多个白键主体1和多个黑键主体2 (键盘表面)的下方 (包括位于相应的键内部的空间)，以分别对应于各个键。质量体52的大 体结构几乎与图4A至图4C所示的质量体44的大体结构相同。质量体52 由质量体支撑部51h支撑，以通过相应键的力传送部lc枢转。
质量体52具有主驱动部52a、副驱动部52b和枢转支点部52c。连接部 52d具有这样的结构，前连接部52di连接至后连接部52d2。当如图5A所示 键被释放时，后连接部52d2与下限止动件53相接触。在示出的实例中，当 接触时后连接部52d2的下端面(第二接触部)变为水平，以平行于键架底板 4。后连接部52d2的后端连接至质量集中部52e的前端的下部。
质量集中部52e具有前下端面52e,和后下端面52e2。在示出的实例中， 在图5A示出的键释放状态下，在后部降低时作为倾斜面的前下端面52ei连 接至水平的后下端面52e2。在该键释放状态下，后连接部52d2的下端面(第 二接触部)位于比后述的后上端面52e4 (第一接触部)的最下端更高的位置。 后下端面52e2靠近键架底板4，但不会接触到键架底板4。后连接部(第二 接触部)52d2用作与下限止动件53相接触的接触部。下限止动件53固定至 键架底板4的上表面。
质量集中部52e具有位于前下端面52e,上方的前上端面52e3。质量集中 部52e还具有位于后下端面52e2上方的后上端面(第一接触部)52e4。在示 出的实例中，前上端面52e3和后上端面52e4均平行于键架51的后上安装部 51a3，以在图5B示出的键被按压的状态下保持水平。后上端面52q用作与 上限止动件43相接触的接触部(第一接触部)。
在图5A示出的键释放状态下，如果白键主体l被按压，则设置用于该 键的质量体52尽管受到重力的作用仍逆时针枢转。由于该实施例设计成使 后上端面52e4降低，从而当如图5B所示键被完全按压时，前上端面52e3的 位置高于上限止动件43。在示出的实例中，质量体52枢转，由此前上端面 52eg穿过穿孔55，并且前连接部52山变为水平，且前上端面52^进入夹置 在白键主体1的右侧壁和左侧壁之间的内部，并且后上端面52e4与上限止动 件(限动构件)43碰撞。自由端P移动在图5B中表示为"行程长度"的一 段距离。每个黑键主体2也可以具有类似的质量体，该质量体通过相对应的 键的力传送部枢转，以与上限止动件43碰撞。
在示出的实例中，该键盘装置的整体高度H与图4A至图4C示出的实 施例的整体高度H相同。然而，由于后上安装部51a3高于前上安装部51ai (距离h)，从而上限止动件43的位置向上移动了距离h。因此，可以使在 图5A示出的键释放状态下后上端面52e4的高度高于图4A至图4C示出的后 上端面4化4的高度。因此，可以增加后下端面52e2和后上端面52q之间的 (沿高度方向)竖直厚度，从而使这些部件的强度增加。或者，在后下端面 52e2和后上端面52e4之间的竖直厚度制成如图4A至图4C所示那样薄的情 况下，该键盘装置的整体高度H可以小于图1所示的实施例的整体高度。 f.第六实施例
图6A和图6B是示意性地示出电子乐器的键盘装置的右侧视图，该键盘 装置为本发明的第六实施例。图6A示出了键未被按压的键释放状态。图6B 示出了白键主体1被按压的状态。由于白键主体1和键架61的竖向剖视图 与图5C所示的白键主体1和键架51的竖向剖视图相同，因此省略了白键主 体1和键架61的竖向剖视图。在这些图中，与图4A至图4C中所示的部件 类似的部件采用相同的附图标记表示，并省略了详细的说明。
该实施例设计成，质量集中部62具有与下限止动件64相接触的部分。 键架61的大体结构与图4A至图4C示出的键架41、以及图5A至图5C中 示出的键架51的大体结构相似。前上安装部61&连接至后上安装部61a3， 后上安装部61a3由于阶梯部61a2的存在而高于前上安装部61*。该阶梯部设 计成与后述的质量体的连接部62d和质量集中部62e之间的连接形状相对 应。
键架61具有阶梯部61b、基部61c、竖直壁61d、阶梯部61e和基部61f。 在键架61的阶梯部61b上设置多个形状类似狭缝的穿孔65，以对应于多个 键。在后上安装部61a3的后端附近平行地设置多个支撑部61g，以对应于多 个键。每个支撑部61g具有直立部61g!和竖直肋61g4。在键架61的后上安 装部61a3上设置多个形状类似狭缝的穿孔66，以对应于相应的键。
质量体62设置在多个白键主体1和多个黑键主体2 (键盘表面)的下方 (包括各个键内部的空间)，以对应于相应的白键主体l和相应的黑键主体 2。质量体62的大体结构几乎与图4A至图4C中所示的质量体44以及图5A 至图5C中所示的质量体52的大体结构相同。每个质量体62由质量体支撑 部61h支撑，以通过相对应的键的力传送部lc而枢转。每个质量体62具有 主驱动部62a、副驱动部62b、枢转支点部62c、连接部62d和质量集中部 62e。连接部62d的后端垂直地连接至质量集中部62e的前端的下部。质量集 中部62e具有设置在前下端面62e,和后下端面62e3之间的凹陷部63。该凹 陷部63向下开口。在示出的实例中，前下端面62e,和后下端面62e3远离键 架底板4相同的距离，且处于水平位置。在键释放状态下，下限止动件64 的上部位于凹陷部63内，以与凹陷部63的顶面(第二接触部)62e2相接触。 由于当沿高度方向观察时凹陷部63与质量体62 (质量集中部62e)叠置，
从而不会增加键盘装置的整体高度H。
与图4A至图4C示出的质量集中部44e类似，由于集中了质量体62的 质量的质量集中部62e具有与下限止动件64相接触的接触部(第二接触部， 即凹陷部63的顶面62e2)，由此可以降低在释放键时例如回弹和振动之类 的止动感的减弱。然而在图4A至图4C示出的质量集中部44e的情况下，下 限止动件45的左侧(沿键的纵向方向的前方)具有间隙，该间隙位于下端 面44^和键架底板4之间。在质量集中部62e的情况下，第一下端面62ei 设置为靠近键架的底板4以填充该间隙。由此，可以增加质量集中部62e的 质量，并增加质量体62的惯性力矩。
质量集中部62e具有前上端面62e4，该前上端面62e4位于从前下端面 62e,通过顶面62e2 (第二接触部)延伸至后下端面62e4的前部的这一部分的 上方。该质量集中部62e还具有位于后下端面62e3的后部上方的后上端面 62e5。在该实施例中，在图6A示出的键释放状态下，顶面(第二接触部) 62e2位于比后上端面(第一接触部)62e5的最下端更高的位置。在示出的实 例中，在图6B所示的键被按压的状态下，前上端面62e4和后上端面62es变 为水平以平行于键架的后上安装部61a3。后上端面62es用作与上限止动件 61接触的接触部(第一接触部)。
在图6A示出的键释放状态下，当白键主体l被按压时，与该键相对应 的质量体62尽管受到重力的作用仍逆时针枢转。在示出的实例中，质量体 62枢转，由此前上端面62e4穿过穿孔66并且连接部62d变为水平，且前上 端面62e4进入到夹置在白键主体1的右侧壁和左侧壁之间的空间内部，而且 后上端面62es与上限止动件(限动构件)43相碰撞。自由端P移动在图6B 中表示为"行程长度"的一段距离。每个黑键主体2也具有类似的质量体， 黑键主体2的质量体通过相对应的键的力传送部而枢转，以与上限止动件43 相碰撞。
在示出的实例中，前上安装部61ai的高度和该键盘装置的整体高度H与 图4A至图4C所示的实施例相同。然而，与图5A至图5C所示的实施例类 似，上限止动件43的位置向上移动了一段距离h。由此，可以增加后下端面 62e3与后上端面62es之间的(沿高度方向)竖直厚度。或者，在后下端面62e3 和后上端面62&之间的竖直厚度如图4A至图4C所示那样薄的情况下，该
键盘装置的整体高度H可以小于图4A至图4C所示的实施例的整体高度。 g.其它变型实例
在上述各个实施例中，多个质量体8、 22、 32、 44、 52、 62，下限止动 件10、 45、 53、 64和上限止动件11、 23、 33、 43位于多个白键主体1和多 个黑键主体2 (键盘表面)的下方(包括各个键内部的空间)。更具体地， 设置在白键主体1和黑键主体2的下方表示:当沿该键盘装置的高度方向观 察时，多个质量体、下限止动件和上限止动件各自的设置位置高度低于多个 白键主体1和多个黑键主体2 (键盘表面)的高度。在各个实施例中，多个 质量体、多个下限止动件和多个上限止动件沿相应的键的纵向方向完全装配 在从相应的白键主体1的顶端la至相应的白键主体1和相应的黑键主体2 的后端范围内的部分中。然而，多个质量体、多个下限止动件和多个上限止 动件中的至少任一种可以延伸出该部分。例如，至少其中一种可以从相应的 白键主体1和相应的黑键主体2的后端向后凸出。只要该凸出较小，就不会 对装配有除了该键盘装置的其它部件的电子乐器的深度产生大的影响。
在上述各个实施例中，质量体8、 22、 32、 44、 52、 62设计成具有位于 它们的自由端侧的质量集中部8e、 22e、 32e、 44e、 52e、 62e。然而，只要 各个质量体与相应的键的键按压操作同步地枢转，各个实施例可以变型为质 量不一定被集中的结构。
在上述各个实施例中，质量体支撑部3h、 21h、 31h、 41h、 51h、 61h竖 立在相应的键架3、 21、 31、 41、 51的上安装部3a、 21a、 31ai (前上安装 部)、41a、 51ai (前上安装部)、61a!(前上安装部)的底面上。然而，各 个质量体支撑部可以竖立在键架底板4的上表面上。或者，键架3、 21、 31、 41、 51、 61可以具有前下安装部，以使质量体支撑部竖立在前下安装部的上 表面上。在这些情况下，这些键架设计成，在质量体8、 22、 32、 44、 52、 62枢转的过程中，键架3、 21、 31、 41、 51、 61的任何部分不位于质量体8、 22、 32、 44、 52、 62的驱动侧穿过的区域(等同于穿孔15、 25、 35、 46、 54、 65的区域)上，也不位于质量集中部8e、 22e、 32e、 44e、 52e、 62e穿 过的区域(等同于穿孔16、 36、 42、 55、 66的区域)上。
权利要求
1. 一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括多个键；多个质量体，其以与所述键一一对应的方式位于所述键的下方，且各质量体均与相对应的键的键按压操作同步地枢转；框架，其上平行地设置所述多个键和所述多个质量体；上限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架侧，由此各质量体与所述上限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的上限；下限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架侧，由此各质量体与所述下限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的下限；以及多个固定部，其以与所述多个键一一对应的方式设置在所述框架上，各固定部的至少上部位于各固定部相对应的键的右侧壁和左侧壁内，各固定部具有底面，所述上限止动件固定至所述底面。
2. 根据权利要求l所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述多个固定部从所述框架的上表面向上突出； 所述框架具有多个穿孔，所述多个质量体穿过所述多个穿孔；并且在已释放与各质量体相对应的键的状态下，各质量体位于所述框架的下 方；而当按压与各质量体相对应的键时，各质量体向上移动以通过与各质量 体相对应的穿孔而位于所述框架的上方。
3. 根据权利要求2所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述多个固定部中的每一个均由直立部和前伸部形成，所述直立部从所述框架的上表面向上竖立，所述前伸部从所述直立部的上部向前伸出；并且 所述上限止动件固定至各固定部的前伸部的底面。
4. 根据权利要求3所述的电子乐器的键盘装置，其中 即使在已按压与所述前伸部相对应的键的状态下，所述前伸部的底面位于相对应的键的右侧壁和左侧壁的下端面的下方。
5. 根据权利要求4所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述上限止动件形成为带状，其纵向方向与设置所述多个键的方向一致，并且所述上限止动件在至少两个相邻的键上连续地延伸，以固定至为所 述至少两个相邻的键设置的相应前伸部的底面。
6. 根据权利要求3-5中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中在所述前伸部的上表面上设置竖直肋。
7. 根据权利要求2-5中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中所述框架具有阶梯部，所述阶梯部沿着设置所述多个键的方向延伸并位 于所述框架的前部和后部之间的中部，由此所述后部的高度低于所述前部的高度；并且所述多个固定部设置在所述后部的上表面上。
8. 根据权利要求2-5中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中 各质量体均具有位于各质量体的后端的质量集中部；并且 所述质量集中部具有位于所述质量集中部的上表面上的阶梯部，由此在执行相对应的键的键按压操作时与所述上限止动件相接触的部分的竖直厚 度小于所述质量集中部的其它部分的竖直厚度。
9. 根据权利要求2-5中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述多个固定部分别可枢转地支撑所述多个键。
10. 根据权利要求l所述的电子乐器的键盘装置，其中所述多个固定部中的每一个均具有位于各固定部的上表面侧的竖直肋。
11. 根据权利要求1或10所述的电子乐器的键盘装置，其中即使在己按压与所述固定部相对应的键的状态下，各固定部的底面位于 相对应的键的右侧壁和左侧壁的下端面的下方。
12. 根据权利要求ll所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述上限止动件形成为带状，其纵向方向与设置所述多个键的方向一致，并且所述上限止动件在至少两个相邻的键上连续地延伸，以固定至为所 述至少两个相邻的键设置的相应固定部的底面。
13. 根据权利要求1或10所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述多个固定部是所述框架的一部分； 所述上限止动件固定至相应固定部的底面；并且即使在已按压与各质量体相对应的键的状态下，各质量体位于所述框架 的下方。
14. 一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括 多个键；多个质量体，其以与所述键一一对应的方式位于所述键的下方，各质量体均与相对应的键的键按压操作同步地枢转；框架，其上平行地设置所述多个键和所述多个质量体；上限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架侧，由此各质量体与所述上限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的上限；下限止动件，其位于所述多个键的下方以固定至所述框架侧，由此各质量体与所述下限止动件通过碰撞来限制各质量体的枢转范围的下限；各质量体均具有第一接触部，在己按压与各质量体相对应的键的状态下，所述第一接触部与所述上限止动件相接触；第二接触部，在已释放所述相对应的键的状态下，所述第二接触部与所述下限止动件相接触；并且所述第一接触部设置为靠近各质量体的自由端，并且所述第二接触部设置为比所述第一接触部更加靠近各质量体的枢转支点侧，在已释放与各质量体相对应的键的状态下，所述第二接触部位于比所述第一接触部的最下端更高的位置。
15. 根据权利要求14所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述多个键分别由设置在所述框架的上表面上的多个支撑部可枢转地支撑；所述上限止动件固定至所述框架的底面；所述框架具有多个穿孔，所述多个质量体穿过所述多个穿孔；并且 在已释放与各质量体相对应的键的状态下，各质量体位于所述框架的下方；而当按压与各质量体相对应的键时，各质量体向上移动以通过与各质量体相对应的穿孔而位于所述框架的上方。
16. 根据权利要求15所述的电子乐器的键盘装置，其中 所述上限止动件形成为带状，其纵向方向与设置所述多个键的方向一致，并且所述上限止动件在至少两个相邻的键上连续地延伸，以固定至为所 述至少两个相邻的键设置的相应固定部的底面。
17. 根据权利要求15或16所述的电子乐器的键盘装置，其中 各质量体均设计成在已按压与各质量体相对应的键的状态下，各质量 体的上部位于与各质量体相对应的键的右侧壁和左侧壁内。
18. 根据权利要求14-16中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中在所述框架的上表面上设置多个竖直肋，所述多个竖直肋分别位于与所 述多个质量体接触的多个位置。
19. 根据权利要求15或16所述的电子乐器的键盘装置，其中在所述框架的上表面上设置多个竖直肋，所述多个竖直肋分别位于与所述多个质量体接触的多个位置；并且 各竖直肋与各支撑部一体地形成。
20. 根据权利要求14-16中任一项所述的电子乐器的键盘装置，其中 各质量体均具有向下开口的凹陷部，由此所述凹陷部的顶面用作所述第二接触部，以在已释放相对应的键的状态下与所述下限止动件相接触。
全文摘要
一种电子乐器的键盘装置，其中键(1、2)由框架(3)以自由摆动的方式支撑。质量体(8)、下限止动件(10)和上限止动件(11)位于键(1、2)的下方。质量体(8)由框架(3)以自由摆动的方式支撑并与键按压操作同步地枢转。下限止动件(10)限制质量体(8)的枢转范围的下限。上限止动件(10)限制质量体(8)的枢转范围的上限。用于固定上限止动件(11)的固定部(直立部)(3g₁)以与键(1、2)一一对应的方式设置在框架(3)上。上限止动件(11)固定至固定部(3g)的底面。每个固定部(3g)的上部位于每个键(1、2)的右侧壁和左侧壁内。
文档编号G10H1/34GK101393733SQ200810165648
公开日2009年3月25日 申请日期2008年9月19日 优先权日2007年9月21日
发明者大须贺一郎 申请人:雅马哈株式会社