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局部静音声场形成设备和方法以及程序与流程
文档序号:16596208
发布日期:2019-01-14 19:40
阅读:
来源:国知局
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局部静音声场形成设备和方法以及程序与流程
技术特征:
技术总结
本技术涉及能够在深度方向上控制静音区域的局部静音声场形成设备和方法以及程序。所述局部静音声场形成设备包含:第一扬声器阵列,基于第一扬声器驱动信号而输出声音以形成预定声场;以及第二扬声器阵列,布置在与第一扬声器阵列的位置不同的位置处并基于第二扬声器驱动信号而输出声音以形成消除预定声场的声场。本技术可应用到局部静音声场形成设备。
技术研发人员:
前野悠;光藤祐基
受保护的技术使用者:
索尼公司
技术研发日:
2017.05.17
技术公布日:
2019.01.11
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