用于机动车前照灯的投影装置的制作方法

文档序号:30496203发布日期:2022-06-22 04:43阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种用于机动车前照灯的投影装置(10),所述投影装置(10)布置为用于将光源(20)的光沿主辐射方向(x)投影到投影装置(10)前方,其中,所述投影装置(10)包括以下:
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至少一个第一微光学器件阵列(100),所述至少一个第一微光学器件阵列(100)具有多个在平面中矩阵式设置的耦合-微光学器件(110),所述耦合-微光学器件(110)分别具有第一焦点(f1),其中,所述第一微光学器件阵列(100)布置为用于将光源(20)的光束耦合到所述投影装置(10)中,其中,所述第一微光学器件阵列(100)的每个耦合-微光学器件(110)布置为用于将平行于主辐射方向(x)入射到所述耦合-微光学器件(110)上的光束束集在相应的第一焦点(f1)中,
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至少一个第二微光学器件阵列(200),所述至少一个第二微光学器件阵列(200)具有多个在平面中矩阵式设置的解耦-微光学器件(210),所述解耦-微光学器件(210)分别具有第二焦点(f2),其中,所述第二微光学器件阵列(200)设置为用于将耦合到所述投影装置(10)中的光束沿所述主辐射方向(x)的方向从投影装置(10)中解耦,其中,每个解耦-微光学器件(210)设置为用于将与所述第二焦点(f2)相交的光束平行于主辐射方向(x)从投影装置中解耦,
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至少一个基底层(300),所述至少一个基底层(300)至少区段性地沿着平面(e)延伸,其中,所述至少一个第一微光学器件阵列(100)设置在所述基底层(300)的第一侧(310)处,并且其中,所述至少一个第二微光学器件阵列(200)设置在所述基底层(300)的第二侧(320)处,其中,所述基底层(300)的所述第二侧(320)与所述基底层(300)的所述第一侧(310)相对置地设置,其特征在于,所述至少一个基底层(300)至少区段性地倾斜于所述主辐射方向(x)地设置,从而所述至少一个基底层(300)具有相对于所述主辐射方向(x)偏离90度的倾斜角度(w),其中,所述第一微光学器件阵列(100)的耦合-微光学器件(110)和所述第二微光学器件阵列(200)的相应的解耦-微光学器件(210)分别形成微光学器件对,其中,第一和第二微光学器件阵列(100、200)这样相互设置在所述基底层(300)上,使得每个微光学器件对的第一和第二焦点(f1、f2)在共同的焦点中重合,所述焦点位于所述至少一个基底层(300)中,从而平行于所述主辐射方向(x)入射到所述微光学器件对的耦合输入微光学器件(110)上的光束从相应的微光学器件对的所述解耦微光学器件(210)中可解耦作为平行于所述主辐射方向(x)的光束,其中,可解耦的光束具有相对于入射光束的平行偏移。2.按照权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述投影装置(10)包括至少一个光源(20),所述至少一个光源(20)布置为用于发射平行于主辐射方向(x)定向的光束。3.按照权利要求1或2所述的投影装置,其特征在于,所述第二微光学器件阵列(200)的解耦-微光学器件(210)构造为椭圆体的一部分。4.按照权利要求1至3之一所述的投影装置,其特征在于,所述第一微光学器件阵列(100)的耦合-微光学器件(110)构造为自由曲面透镜。5.按照权利要求1至4之一所述的投影装置,其特征在于,所述第一微光学器件阵列的耦合-微光学器件(110)分别构造为柱面透镜。6.按照权利要求1至5之一所述的投影装置,其特征在于,所述第二微光学器件阵列
(200)的解耦-微光学器件(210)和/或所述第一微光学器件阵列(100)的耦合-微光学器件(110)非旋转对称地围绕所述主辐射方向(x)构造。7.按照权利要求1至6之一所述的投影装置,其特征在于,在主辐射方向(x)上观察时,所述第一微光学器件阵列(100)的耦合-微光学器件(110)相对于相应的第一焦点(f1)非对称地水平裁剪。8.按照权利要求1至7之一所述的投影装置,其特征在于,所述耦合-微光学器件(110)具有第一光轴(a1),并且所述解耦-微光学器件(210)具有第二光轴(a2),其中,所述第一微光学器件阵列(100)和所述第二微光学器件阵列(200)这样相互设置,使得对于每个微光学器件对,所述第一和所述光轴(a1、a2)位于共同的轴上,所述轴平行于所述主辐射方向(x)延伸。9.一种机动车前照灯,所述机动车前照灯具有至少一个按照权利要求1至8之一所述的投影装置(10)。

技术总结
用于机动车前照灯的投影装置,其中,投影装置包括:-第一微光学器件阵列,其具有多个在平面中矩阵式设置的耦合输入微光学器件,耦合输入微光学器件具有第一焦点,-第二微光学器件阵列,其具有多个在平面中以矩阵方式设置的出射微光学器件,出射微光学器件分别具有第二焦点,-至少一个基底层,第一和第二微光学器件阵列彼此相对地设置在该至少一个基底层上,其中,至少一个基底层至少区段性地倾斜于主辐射方向设置,使得至少一个基底层具有相对于主辐射方向偏离90度的倾斜角度。射方向偏离90度的倾斜角度。射方向偏离90度的倾斜角度。


技术研发人员:A
受保护的技术使用者:ZKW集团有限责任公司
技术研发日:2021.12.17
技术公布日:2022/6/21
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