技术特征：
技术总结
本发明所提供的阵列样品激光加热系统包括：输出激光以提供加热能量的激光光源单元，其具备并列或阵列排布的多个激光器；设于所述激光光源单元下游以改变激光光斑尺寸的激光束斑调节单元；用于放置阵列样品的样品台；用于对待加热阵列样品的激光加热温度测温并反馈加热效果的温度测量单元；用于记录实验结果的图像记录单元；与所述激光光源单元、温度测量单元、和图像记录单元等相连接的总控单元。本发明能够实现多光束并行、束斑可调的激光加热，用于对材料基因工程所需的材料阵列样品的快速定向加热。
技术研发人员：刘茜;余野建定;汪超越;李勤;徐小科;周真真
受保护的技术使用者：中国科学院上海硅酸盐研究所
技术研发日：2018.11.13
技术公布日：2019.02.19