一种自动UV镭射机的制作方法

本实用新型涉及镭射机，具体涉及一种自动UV镭射机。

背景技术：

电感是电路中最常见的元器件之一。电感在生产过程中需要用激光进行剥漆，以使电极裸露出来。因部分电感较小，如果一颗颗剥漆，非常浪费时间和成本。所以，在批量生产过程中通常需要将电感整齐的排列在治具中，以进行批量剥漆。但一般在剥漆之前，需要人工进行整理和确认，然后再送到激光器下进行剥漆，效率低下，电感容易翘起，剥漆质量低。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是提供一种自动UV镭射机，其能够自动的在电感上进行激光剥漆，剥漆速度快，质量高，节省人力。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种自动UV镭射机，包括并排设置的用于输送治具的第一输送单元和第二输送单元，所述第一输送单元在输送方向上依次设置有用于分离治具及整平治具上的电感的整平单元和用于定位治具后将其推离第一输送单元的上料单元，所述第一输送单元和第二输送单元之间设置有同时接收两个治具、排列定位治具以及将治具移至第二输送单元的上下料平台，所述上下料平台的上方设置有能够在电感上剥漆的镭射单元。

作为优选的，所述整平单元包括相对设置在第一输送单元两侧的进工位驱动源和退工位驱动源，所述退工位驱动源和第一输送单元之间设置有整平工位，所述整平工位的上方设置有整平驱动源，所述整平驱动源的自由端设置有整平板。

作为优选的，所述整平单元包括沿第一输送单元输送方向依次设置的第一分离驱动源和第二分离驱动源。

作为优选的，所述上料单元包括上料驱动源和横跨设置在第一输送单元上方的上料定位条，所述上料驱动源的自由端设置有上料升降驱动源，所述上料升降驱动源的自由端设置有上料推板，所述上料定位条的中心线将上料推板分成两部分。

作为优选的，所述上下料平台包括上料支架，其上紧邻第一输送单元并列设置有第一缓冲平台和第二缓冲平台，所述上料定位条的中心延长线位于两个缓冲平台之间，所述第一缓冲平台和第二缓冲平台不相邻的两个侧边在第一输送单元的输送方向上依次设置有横推驱动源和平台定位挡板。

作为优选的，所述第一缓冲平台和第二缓冲平台上均开设有下料槽，所述上料支架上设置有下料驱动源，其自由端设置有两个下料平台，两个所述下料平台分别位于两个下料槽内，所述镭射单元位于下料平台上方。

作为优选的，所述下料平台之间设置有分隔条，其中心线和上料定位条的中心线重合，两个所述下料槽不相邻的侧边处分别设置有定位滚轮。

作为优选的，所述第一输料单元包括第一输送带。

作为优选的，所述第二输送单元包括第二输送带和清洁驱动源，所述清洁驱动源的自由端设置有毛刷，其位于第二输送带的上方。

作为优选的，所述镭射单元包括封闭的防尘罩和激光器，所述激光器设置在防尘罩内，所述防尘罩上开设有除尘孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过设置两个相互独立的输送单元，使剥漆前的整平与定位和剥漆后的清扫与输送互不影响，效率高。

2、本实用新型通过设置整平单元，能够将治具上的电感平压至同一个平面上，避免电感高低不平影响剥漆质量甚至损坏电感。

3、本实用新型通过设置上料单元和上下料平台，能够同时对两治具上下料及剥漆，效率高，成本低。

附图说明

为了更清楚的说明本实用新型实施例技术中的技术方案，下面将对实施例技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还能够根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的俯视示意图；

图2为本实用新型的结构示意图；

图3为上下料平台的结构示意图。

其中：

1-第一输送单元，10-第一输送带；

2-整平单元，20-第一分离驱动源，21-第二分离驱动源，22-进工位驱动源，23-整平驱动源，24-整平板，25-退工位驱动源；

3-上料单元，30-上料驱动源，31-上料升降驱动源，32-上料推板，33-上料定位条；

4-上下料平台，40-上料支架，41-第一缓冲平台，42-第二缓冲平台，43-横推驱动源，44-平台定位挡板，45-下料槽，46-分隔条，47-定位滚轮，48-下料驱动源，49-下料平台；

5-第二输送单元，50-第二输送带，51-清洁驱动源，52-毛刷；

6-镭射单元。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例

参照图1～图3所示，本实用新型公开了一种自动UV镭射机，包括第一输送单元1、整平单元2、上料单元3、上下料平台4、第二输送单元5和镭射单元6。第一输送单元1和第二输送单元5并排设置。整平单元2和上料单元3沿第一输送单元1的输送方向依次设置。上下料平台4设置在第一输送单元1和第二输送单元5之间。镭射单元6设置在上下料平台4上方。

第一输送单元1：

上述第一输送单元1包括用于输送治具的第一输送带10。

整平单元2：

上述整平单元2包括第一分离驱动源20、第二分离驱动源21、进工位驱动源22、整平驱动源23和退工位驱动源25。

上述第一分离驱动源20和第二分离驱动源21沿输送方向依次设置在第一输送带10的上方。其均能够阻挡或放行第一输送带10上的治具，使治具在输送的过程中保持分离状态。第二分离驱动源21同时起到了截停定位的作用。

上述进工位驱动源22和退工位驱动源25相对的设置在第一输送带10的两侧。退工位驱动源25和第一输送带10之间设置有整平工位。进工位驱动源22能够将第二分离驱动源21截停的治具推到整平工位上；退工位驱动源22能够将整平后的治具推回到第一输送带21上。

上述整平驱动源23设置在整平工位的上方。整平驱动源23的自由端设置有整平板24。整平驱动源23能够带动整平板24平压在治具上，以保证治具上的电感均位于同一水平面上。

上料单元3：

上述上料单元3包括上料驱动源30和上料定位条33。上料驱动源30的自由端设置有上料升降驱动源31。上料升降驱动源31的自由端设置有上料推板32。上料定位条33横跨设置在第一输送带10上方。上料推板32位于上料定位条33的上方，且上料定位条33的中心线将上料推板32分成两部分。上料定位条33能够截停和定位第一输送带10上的治具。上料推板32能够将截停的治具推离第一输送带10。

上下料平台4：

上述上下料平台4包括上料支架40。上料支架40位于第一输送带41的一侧。

上述上料支架40上紧邻第一输送带41并列设置有第一缓冲平台41和第二缓冲平台42。上料定位条33的中心延长线位于第一缓冲平台41和第二缓冲平台42之间。第一缓冲平台41和第二缓冲平台42不相邻的两个侧边在第一输送带10的输送方向上依次设置有横推驱动源43和平台定位挡板44。第一缓冲平台41能够接收上料推板32推过来的治具，横推驱动源43能够将第一缓冲平台41上的治具横推到第二缓冲平台42上。平台定位挡板44能够阻挡第二缓冲平台42上的治具，从而实现治具的定位。

上述第一缓冲平台41和第二缓冲平台42上均开设有下料槽45。两个下料槽45之间设置有分隔条46。分隔条46的中心线和上料定位条33的中心线重合。两个下料槽45不相邻的侧边处分别设置有定位滚轮47。上料支架40上设置有下料驱动源48。下料驱动源48的自由端设置有两个下料平台49。两个下料平台49分别位于两个下料槽45内。下料平台49和第一缓冲平台41与第二缓冲平台42位于同一平面内。上料推板32能够同时将第一缓冲平台41和第二缓冲平台42上的治具推到两个下料平台49上。分隔条46和定位滚轮能够导向和定位治具。镭射完成后，下料驱动源48能够驱动下料平台49移动，使其上的治具掉落，完成下料。

第二输送单元5：

上述第二输送单元5包括第二输送带50和清洁驱动源51。第二输送带50能够接收下料平台49掉落的治具，并完成运送。清洁驱动源51的自由端设置有毛刷52。毛刷52位于第二输送带50的上方。清洁驱动源51能够带动毛刷52转运，从而清洁第二输送带50上输送的治具。

镭射单元6：

上述镭射单元6包括封闭的防尘罩和激光器。激光器设置在防尘罩内。防尘罩上可以开设除尘孔，以吸除镭射后的尘埃颗粒。

工作原理：

整平：

第一输送带10输送治具；第一分离驱动源20逐个放行治具；第二分离驱动源21将治具定位，第一输送带10停止；进工位驱动源22将治具推到整平工位上；整平板24下压，将治具上的电感压至同一平面上；退工位驱动源25将治具推回到第一输送带10上；第二分离驱动源22放行治具，同时第一输送带10输送。

上下料：

上料定位条33阻挡并定位治具；上料推板32将治具推到第一缓冲平台41后退回，同时上料定位条33阻挡并定位第二个治具；横推驱动源43将第一缓冲平台41上的治具推至第二缓冲平台42并退回；上料推板32将第二个治具推至第一缓冲平台31；上料推板32继续前进，将第一缓冲平台41和第二缓冲平台42上的治具分别推至两个下料平台上；镭射单元6对治具上的电感进行剥漆；剥漆完成后，下料驱动源48带动下料平台49向着第二输送带50运动；下料平台49上的治具在惯性的作用下滑落到第二输送带50上；继续下一循环。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理能够在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖点相一致的最宽的范围。