一种光亮薄钨片的轧制方法
【技术领域】
[0001]本发明属于难熔金属材料加工技术领域，具体涉及一种光亮薄钨片的乳制方法。
【背景技术】
[0002]钨具有优良的热稳定性、高温性能和射线吸收能力，被广泛应用于医疗、电光源、电子等行业中。传统的薄钨片乳制方法均需要喷涂石墨乳润滑剂。
[0003]中国专利号200510132733.1公开了“一种薄钨片的乳制方法”、200710179667.2公开了“一种小粗糙度高光亮度薄钨片的乳制方法”和中国专利号200410103517.X公开了“一种高精度钨片制备方法”，以上专利均需要对钨片表面喷涂石墨乳改善表面润滑性并通过氢气喷嘴式加热炉对喷涂有石墨乳的钨片进行烘烤，再进行乳制。然而，由于喷涂的石墨乳经烤干后内部的有机介质充分烧蚀分解，在压力作用下形成较为致密的石墨层，在垂直于乳面的方向上片层状石墨难以移动，造成表面存在微观石墨压坑，影响钨薄片表面粗糙度及表面一致性。
【发明内容】
[0004]本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足，提供一种光亮薄钨片的乳制方法。该方法不需要喷涂乳制润滑剂，避免了由于喷涂石墨乳润滑剂形成的石墨层造成表面存在微观石墨压坑而影响钨薄片表面粗糙度及表面一致性的问题，采用该方法乳制的薄钨片表面呈金属光泽，光亮度好，且生产成本低，效率高。
[0005]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是:一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，包括以下步骤:
[0006]步骤一、将厚度为0.25mm?0.3mm的钨片置于温度为300°C?350°C的高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次乳制；所述乳制的总加工率为44%?50% ；
[0007]步骤二、对步骤一中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗；
[0008]步骤三、将步骤二中经碱洗后的钨片置于温度为300 °C?350 °C的高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次乳制，乳制的道次加工率为1%?3%，得到厚度为0.08mm ?0.10mm 的妈片；
[0009]步骤四、对步骤三中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到表面光亮的薄钨片。
[0010]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤一中乳制的道次加工率为7%?10%。
[0011]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤二中所述去应力退火处理的温度为820 °C?830 °C，保温时间为15min?20min。
[0012]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤二中所述碱洗采用质量浓度为10%?15%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C?100°c，碱洗的时间为20s?40s。
[0013]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤三中多道次乳制的道次数不少于20道次。
[0014]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤四中所述去应力退火处理的温度为820 °C?830 °C，保温时间为15min?20min。
[0015]上述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤四中所述碱洗采用质量浓度为10%?15%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C?100°c，碱洗的时间为20s?40s。
[0016]本发明与现有技术相比具有以下优点:
[0017]1、本发明的乳制方法不需要喷涂乳制润滑剂，避免了由于喷涂石墨乳润滑剂形成的石墨层造成表面存在微观石墨压坑而影响钨薄片表面粗糙度及表面一致性的问题。
[0018]2、本发明采用高温油加热，第一阶段乳制时采用较大的道次加工率乳制，有利于生产效率的提高；第二阶段乳制采用较小的加工率乳制，保证了薄钨片表面质量一致性好并能达到较低的粗糙度。
[0019]2、采用本发明方法乳制的薄钨片表面呈金属光泽，光亮度好，且生产成本低，效率尚ο
[0020]下面通过实施例对本发明技术方案做进一步的详细说明。
【具体实施方式】
[0021]实施例1
[0022]本实施例采用常规工艺乳制的厚度为0.3mm的钨片为原料，乳制制备厚度为0.085mm的光亮薄妈片，具体方法包括以下步骤:
[0023]步骤一、将厚度为0.3mm的钨片置于温度为300°C的高温油中加热，然后对加热至300°C的钨片进行8道次乳制至厚度为0.15mm，乳制的道次加工率依次为10%、10%、9%、8%、8%、7%、7%和 7% ；
[0024]步骤二、对步骤一中乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗；所述去应力退火处理的温度为820°C，保温时间为20min ;所述碱洗采用质量浓度为10%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为100°C，碱洗的时间为20s ；
[0025]步骤三、将步骤二中经碱洗后的钨片置于温度为300°C的高温油中加热，然后对加热至300°C的钨片进行20道次乳制，第1道次至第18道次乳制的道次加工率均为3%，第19道次和第20道次乳制的道次加工率均为1%，得到厚度为0.085mm的钨片；
[0026]步骤四、对步骤三中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到厚度为0.085mm的表面光亮的薄钨片；所述去应力退火处理的温度为820°C，保温时间为20min ;所述碱洗采用质量浓度为10 %的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为100°C，碱洗的时间为20s。
[0027]实施例2
[0028]本实施例采用常规工艺乳制的厚度为0.25mm的钨片为原料，乳制制备厚度为0.08mm的光亮薄妈片，具体方法包括以下步骤:
[0029]步骤一、将厚度为0.25mm的钨片置于温度为350°C的高温油中加热，然后对加热至350°C的钨片进行6道次乳制至厚度为0.14mm，乳制的道次加工率依次为10%、10%、10%、9%、8%和 8% ；
[0030]步骤二、对步骤一中乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗；所述去应力退火处理的温度为830°C，保温时间为15min ;所述碱洗采用质量浓度为15%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C，碱洗的时间为40s ；
[0031]步骤三、将步骤二中经碱洗后的钨片置于温度为350°C的高温油中加热，然后对加热至350°C的钨片进行24道次乳制，第1道次至第13道次乳制的道次加工率均为3%，第14道次至第18道次乳制的道次加工率均为2 %，第18道次至第24道次乳制的道次加工率均为1 %，得到厚度为0.08mm的钨片；
[0032]步骤四、对步骤三中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到厚度为0.08mm的表面光亮的薄钨片；所述去应力退火处理的温度为825°C，保温时间为18min ;所述碱洗采用质量浓度为12 %的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为90°C，碱洗的时间为40s。
[0033]实施例3
[0034]本实施例采用常规工艺乳制的厚度为0.28mm的钨片为原料，乳制制备厚度为
0.10mm的光亮薄妈片，具体方法包括以下步骤:
[0035]步骤一、将厚度为0.28mm的妈片置于温度为320°C的高温油中加热，然后对加热至320°C的钨片进行7道次乳制至厚度为0.15mm，乳制的道次加工率依次为10%、10%、9%、8%、8%、7%和 7% ；
[0036]步骤二、对步骤一中乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗；所述去应力退火处理的温度为825°C，保温时间为18min ;所述碱洗采用质量浓度为12%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为90°C，碱洗的时间为30s ；
[0037]步骤三、将步骤二中经碱洗后的钨片置于温度为320°C的高温油中加热，然后对加热至320°C的钨片进行22道次乳制，第1道次至第4道次乳制的道次加工率均为3%，第5道次至第14道次乳制的道次加工率均为2%，第15道次至第22道次乳制的道次加工率均为1%，得到厚度为0.10mm的钨片；
[0038]步骤四、对步骤三中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到厚度为0.10mm的表面光亮的薄钨片；所述去应力退火处理的温度为830°C，保温时间为15min ;所述碱洗采用质量浓度为15 %的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C，碱洗的时间为30s。
[0039]以上所述，仅是本发明的较佳实施例，并非对本发明做任何限制，凡是根据发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化，均仍属于本发明技术方案的保护范围内。
【主权项】
1.一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，包括以下步骤: 步骤一、将厚度为0.25mm?0.3mm的钨片置于温度为300°C?350°C的高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次乳制；所述乳制的总加工率为44%?50% ； 步骤二、对步骤一中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗； 步骤三、将步骤二中经碱洗后的钨片置于温度为300°C?350°C的高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次乳制，乳制的道次加工率为1%?3%，得到厚度为0.08mm?0.10mm的妈片； 步骤四、对步骤三中经多道次乳制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到表面光亮的薄钨片。2.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤一中乳制的道次加工率为7%?10%。3.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤二中所述去应力退火处理的温度为820 °C?830 °C，保温时间为15min?20min。4.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤二中所述碱洗采用质量浓度为10%?15%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C?100°C，碱洗的时间为 20s ?40s。5.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤三中多道次乳制的道次数不少于20道次。6.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤四中所述去应力退火处理的温度为820 °C?830 °C，保温时间为15min?20min。7.根据权利要求1所述的一种光亮薄钨片的乳制方法，其特征在于，步骤四中所述碱洗采用质量浓度为10%?15%的氢氧化钠溶液，碱洗的温度为80°C?100°C，碱洗的时间为 20s ?40s。
【专利摘要】本发明公开了一种光亮薄钨片的轧制方法，包括：一、将钨片置于高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次轧制；二、对经多道次轧制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火处理，再进行碱洗；三、将经碱洗后的钨片置于高温油中加热，然后对加热后的钨片进行多道次轧制，得到厚度为0.08mm～0.10mm的钨片；四、对经多道次轧制后的钨片进行除油处理，然后进行去应力退火，再进行碱洗，得到表面光亮的薄钨片。本发明的轧制方法不需要喷涂轧制润滑剂，避免了由于喷涂石墨乳润滑剂形成的石墨层造成表面存在微观石墨压坑而影响钨薄片表面粗糙度及表面一致性的问题，轧制的薄钨片表面呈金属光泽，光亮度好，且生产成本低，效率高。
【IPC分类】B21B1/40, B21B45/02
【公开号】CN105414182
【申请号】CN201511016808
【发明人】李长亮, 姬毓, 任吉文, 王喆, 苟宏涛, 董雨青, 向辉, 范文博
【申请人】西安瑞福莱钨钼有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年12月29日