金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置的制作方法

文档序号:3364225阅读:341来源:国知局
专利名称:金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置的制作方法
技术领域
本发明涉及贴膜的生产方法及装置,具体涉及一种金属质感的无胶拉丝贴膜的生 产方法及装置。
背景技术
在笔记本电脑、手机、空调的外壳上,经常使用的是喷漆、电镀装饰层、铝箔、铜箔 等复合膜材料,使其具有华丽颜色和金属质感的装饰效果。但由于环保问题及金属材料的 价格问题,使复合膜材料逐步失去市场,将被环保的质优价廉的环保材料取代。

发明内容
本发明的目的在于提供一种金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置,该方 法及装置在基材上溅射镀金属层,通过反应气体的种类产生不同的颜色,如金黄色、玫瑰金 色、紫青蓝、银白色、深灰色、黑色等,形成金属质感。本发明的生产方法是首先,在基材上拉丝或者印刷图案;其次,被拉丝的基材在 放料室,真空状态下单面经离子源表面处理;最后,进入溅射室,按具体要求使用溅射靶及 反应气体在基材上直接溅射金属层。其中,基材为PC或PET膜,厚度0. 05-0. 5mm,宽度500 2200mm。其中,离子源为高频离子源、弧放电离子源、PIG离子源、双离子体离子源、双彭离 子源、转荷型负离子源、溅射型负离子源的其中之一,功率2 10KW,电流1 10A,电压 220 2000V,气氛氩气或其它惰性气体,流量100 500sccm,氩气压力0. 1 lmpa,真 空压强1 9*1(Γ2 1 9*l(T3Pa,速度0. 5 5m/min。其中,深冷捕集的功率5 50kw,温度-100 _150°C,捕集器面积1 5平方 米。其中,溅射靶为Ti靶或石墨靶,溅射真空压强1 9*10_2 1 9*10_3Pa,氩气 流量100 500sccm,氮气流量100 500sccm,氧气流量100 500sccm。其中,反应气体为氧气和氮气。本发明的生产装置是在由隔板间隔的放料室和溅射室内安装生产装置,生产装 置包括输送架、离子源、深冷捕集器、气体反应器和溅射靶,在放料室和溅射室内排布连贯 的输送架,输送架的首尾端都位于放料室,在输送架的首端安装放料辊,在输送架的尾端安 装收料辊,在放料室内位于输送架的两侧呈平面矩形安装离子源,在溅射室内位于输送架 的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶,溅射室内位于溅射靶之前安装气体反应器,放料室、溅 射室内各放置一个深冷捕集器。其中,在输送架的接近首尾端上分别安装张力器,通过张力器自动收放卷材。工作时,被拉丝的基材由放料辊放出,被输送架输送先经过放料室的离子源,再经 过溅射室的气体反应器、溅射靶,最后由放料室的收料辊将成品贴膜收集起来;其中,被拉 丝的基材在经过离子源时,基材被清洁表面、消除水汽、改善表面张力;其中,预处理后的基材在溅射室内经溅射靶,通过反应气体,直接溅射金属离子在基材上形成金属层。本发明具有以下优点1、在基材上预先拉丝或者印刷图案,省去了在金属表面拉 丝的繁杂工艺;2、在真空状态下直接溅射金属层,取代了喷漆、电镀等不环保生产作业流 程,取代了价格昂贵金属箔,取代了层粘法生产的胶粘层,保证了产品的环保性;3、溅镀法 是环保清洁生产方法,无废水、废气、废渣等产生;4、连续化生产线,可以大规模生产,降低 生产成本。


图1为本发明的生产装置的流程示意中1隔板,2放料室,3溅射室,4输送架,5离子源,6、7深冷捕集器,8气体反应 器,9溅射靶,10放料辊,11收料辊,12、13真空泵,14、15张力器。
具体实施例方式如图1所示,在由隔板1间隔的放料室2和溅射室3内安装生产装置,生产装置包 括输送架4、离子源5、深冷捕集器6、7、气体反应器8和溅射靶9,在放料室2和溅射室3内 排布连贯的输送架4,输送架4的首尾端都位于放料室2,在输送架4的首端安装放料辊10, 在输送架4的尾端安装收料辊11,在放料室2内位于输送架4的两侧呈平面矩形安装离子 源5,在溅射室3内位于输送架4的两侧呈平面矩形安装一组溅射靶9,溅射室3内溅射靶9 之前安装气体反应器8,放料室理、溅射室3内各放置一个深冷捕集器6、7和真空泵12、13。其中,在输送架4的接近首尾端上分别安装张力器14、15。实施例1 依以下步骤生产无胶拉丝贴膜首先,在基材上拉丝或者印刷图案;其次,被拉丝 的基材在放料室,真空状态下单面经离子源表面处理;最后,进入溅射室,按具体要求使用 溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层;其中,基材为PC膜,厚度0. 05mm,宽度500mm ; 其中,离子源为高频离子源,功率2KW,电流1A,电压220V,氩气流量lOOsccm,氩气压力 0. Impa ;真空压强l*10_2Pa,速度0. 5m/min ;其中,深冷捕集的功率5kw,温度-100°C,捕集 器面积1平方米;其中,溅射靶为Ti靶,溅射真空压强l*10_2Pa,氩气流量lOOsccm,氮气流 量 lOOsccm,氧气流量 lOOsccm。实施例2 依以下步骤生产无胶拉丝贴膜首先,在基材上拉丝或者印刷图案;其次,被拉 丝的基材在放料室,真空状态下单面经离子源表面处理;最后,进入溅射室,按具体要求 使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层;其中,基材为PET膜,厚度0. 275mm, 宽度1350mm;其中,离子源为弧放电离子源,功率6KW,电流5. 5A,电压1110V,惰性气体 流量300sccm,压力0. 55mpa ;真空压强9*10_2Pa,速度2. 75m/min ;其中,深冷捕集的功率 27. 5kw,温度-125°C,捕集器面积3平方米;其中,溅射靶为石墨靶,溅射真空压强9*10_2Pa, 氩气流量300sccm,氮气流量300sccm,氧气流量300sccm。实施例3 依以下步骤生产无胶拉丝贴膜首先,在基材上拉丝或者印刷图案;其次,被拉丝 的基材在放料室,真空状态下单面经离子源表面处理;最后,进入溅射室,按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接濺射金属层;其中,基材为膜,厚度0. 5mm,宽度2200_ ;其 中,离子源为滅射型负离子源,功率10KW,电流10A,电压2000V,氩气流量500sCCm,氩气压 力Impa ;真空压强9*10_3Pa,速度5m/min ;其中,深冷捕集的功率50kw,温度_150°C,捕集 器面积5平方米;其中,溅射靶为Ti靶,溅射真空压强9*10_3Pa,氩气流量500sCCm,氮气流 量 500sccm,氧气流量 500sccmo
权利要求
金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法,其特征在于该生产方法包括以下步骤首先,在基材上拉丝或者印刷图案;其次,被拉丝的基材在放料室,真空状态下单面经离子源表面处理;最后,进入溅射室,按具体要求使用溅射靶及反应气体在基材上直接溅射金属层;其中,基材为PC或PET膜,厚度0.05 0.5mm,宽度500~2200mm;其中,离子源为高频离子源、弧放电离子源、PIG离子源、双离子体离子源、双彭离子源、转荷型负离子源、溅射型负离子源的其中之一,功率2~10KW,电流1~10A,电压220~2000V,气氛氩气或其它惰性气体,流量100~500sccm,氩气压力0.1~1mpa,真空压强1~9*10 2~1~9*10 3Pa,速度0.5~5m/min;其中,深冷捕集的功率5~50kw,温度 100~ 150℃,捕集器面积1~5平方米;其中,溅射靶为Ti靶或石墨靶,溅射真空压强1~9*10 2~1~9*10 3Pa,氩气流量100~500sccm,氮气流量100~500sccm,氧气流量100~500sccm;其中,反应气体为氧气和氮气。
2.根据权利要求1所述的金属质感的无胶拉丝贴膜的生产装置,其特征在于在由隔 板(1)间隔的放料室(2)和溅射室(3)内安装生产装置,生产装置包括输送架(4)、离子源 (5)、深冷捕集器(6、7)、气体反应器(8)和溅射靶(9),在放料室(2)和溅射室(3)内排布 连贯的输送架(4),输送架(4)的首尾端都位于放料室(2),在输送架(4)的首端安装放料 辊(10),在输送架(4)的尾端安装收料辊(11),在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧呈 平面矩形安装离子源(5),在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧呈平面矩形安装一组溅射 靶(9),溅射室(3)内溅射靶(9)之前安装气体反应器(8),放料室理、溅射室(3)内各放置 一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。
3.根据权利要求2所述的金属质感的无胶拉丝贴膜的生产装置,其特征在于其中,在 输送架(4)的接近首尾端上分别安装涨力器(14、15)。
全文摘要
本发明公开了金属质感的无胶拉丝贴膜的生产方法及装置,首先在基材上拉丝或者印刷图案;其次被拉丝的基材在放料室;最后进入溅射室;在由隔板(1)间隔的放料室(2)和溅射室(3)内安装生产装置,在放料室(2)和溅射室(3)内排布连贯的输送架(4),在输送架(4)的首尾端分别安装放料辊(10)和收料辊(11),在放料室(2)内位于输送架(4)的两侧安装离子源(5),在溅射室(3)内位于输送架(4)的两侧安装一组溅射靶(9),溅射靶(9)前安装气体反应器(8),放料室、溅射室内各放置一个深冷捕集器(6、7)和真空泵(12、13)。该方法及装置在基材上溅射镀金属层,通过反应气体的类型产生不同的颜色,形成金属质感。
文档编号C23C14/20GK101892462SQ201010225938
公开日2010年11月24日 申请日期2010年7月13日 优先权日2010年7月13日
发明者傅青炫, 夏慎领, 陈先锋, 马尔松 申请人:淮安富扬电子材料有限公司
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