技术总结
本发明公开了一种防止堵塞的气体抽取装置，以及设置有该气体抽取装置的MOCVD设备。所述的MOCVD设备包含用于放置晶圆的反应腔以及设置在反应腔顶部的进气装置；气体抽取装置设置在反应腔底部，包含：多个抽气孔，沿周向均匀分布开设在气体抽取装置的顶部；多个防护结构，分别对应罩设在每个抽气孔的上方，防止沉积反应物从防护结构顶部落入抽气孔，同时允许工艺气体经过防护结构侧面的通气开口被气体抽气装置抽走。本发明能有效防止沉积反应物堵塞气体抽取装置的抽气孔，使反应腔内气体均匀分布，维持晶圆工艺的一致性，具有高可靠性和稳定性；并能有效延长MOCVD设备的开腔清理周期，提高工作效率，降低使用成本。
技术研发人员：姜勇
受保护的技术使用者：中微半导体设备（上海）有限公司
技术研发日：2015.09.21
技术公布日：2019.03.05