1.一种沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：体步骤如下：
(1)沉钒上层液用碳酸钠或氢氧化钠调节pH值至8.5～10.5，加热温度控制在60℃～85℃，向溶液中加入铝盐，铝盐中Al含量与沉钒上层液中Si含量的摩尔比为0.25:1～1.5:1，沉淀反应时间为10min～40min，向溶液中加入硫酸，调节pH值至7.5～9.0，继续在60℃～85℃下沉淀反应5min～25min，过滤，得到除去杂质硅、铝、钒、铁的铬溶液；
(2)将步骤(1)制得的铬溶液加入硫酸调节pH值至0.5～3.5，加入钠盐还原剂，钠盐还原剂加入量为还原剂中S含量与铬溶液中Cr含量的摩尔比为1.5:1～1.8:1，还原反应时间为10min～30min，向溶液中加入碳酸钠或氢氧化钠调节pH值至6.5～8.5进行中和沉淀，过滤、水淋洗，得到低硅含量的氢氧化铬产品。
2.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：所述铝盐为硫酸铝、硫酸铝铵中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：所述钠盐还原剂为焦亚硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：步骤(2)中的还原反应和中和沉淀温度为60℃～85℃。
5.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：步骤(1)沉钒上层液用碳酸钠或氢氧化钠调节pH值后，加热温度控制在65℃～75℃。
6.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：沉钒上层液脱除杂质硅、铝、钒过程中铝盐中Al与沉钒上层液中Si的摩尔比为0.4:1～0.8:1。
7.根据权利要求1所述的沉钒上层液生产低硅氢氧化铬的方法，具特征是：沉钒上层液中含硅0.1g/L～1.0g/L、铬0.4g/L～2.1g/L、钒0.08g/L～0.2g/L、钙0.06g/L～0.15g/L、铁0.03g/L～0.07g/L。