技术特征：
技术总结
本发明涉及用于通过化学浸镀在基板上沉积钯层的水性镀浴组合物和方法。根据本发明的水性镀浴组合物包含钯离子的源、用于钯离子的还原剂和含氰化物基团的芳香族化合物。根据本发明的水性镀浴组合物在将钯的沉积速率保持在期望的满意值的同时，由于所述含氰化物基团的芳香族化合物而相对于不希望的分解具有改善的稳定性。所述水性镀浴组合物还具有延长的使用寿命。本发明的含氰化物基团的芳香族化合物使得能够在所述浴的使用寿命期间将所述沉积速率调节到满意范围，并使得能够在较低温度下化学沉积钯层。
技术研发人员：安德烈亚斯·韦尔特;克里斯托夫·舒恩特伦克;托马斯·贝克;格哈德·施泰因贝格尔;霍尔格·贝拉;海科·布鲁纳;斯文·吕克布罗德
受保护的技术使用者：埃托特克德国有限公司
技术研发日：2016.11.28
技术公布日：2018.07.17