一种制膜设备的制作方法

文档序号:13021679阅读:119来源:国知局
一种制膜设备的制作方法与工艺

本实用新型涉及加工设备技术领域,尤其涉及一种制膜设备。



背景技术:

一般生产制造出来的石材、人造石、以及瓷砖等建筑用板材,其表面会存在很多较小孔洞或微细纹,使用过程中由于雨水、含有色溶剂的溶液等污染物的浸染,会在其表面形成清除不掉的污迹。而目前行业内的做法,尤其是在瓷砖生产行业,通常会在生产出来的瓷砖表面加一层纳米防污层。其生产过程主要是通过将含有功能材料颗粒的混合液体滴在建筑板材表面并匀化,且经过多次的挤压旋转抛刷后,通过将粒度在5nm~1um的功能材料颗粒填入板材表面凹坑,并蒸发水分,颗粒之间的功能材料发生聚合反应形成结合紧密的分子链,还与板材生成有化学分子键,同时聚合体在一定程度上发生膨胀,和板材表面的凹坑和微孔形成牢固的“锚固效应”,最后在板材表面形成功能材料制成膜,完成整个纳米抛刷加工工序。

而现有的制膜设备,需要实现大面积瓷砖表面抛刷制膜时,会面临以下核心问题:

1、在对大面积的瓷砖进行抛刷时,生产效率过低:因为瓷砖面积过大,则意味着单个磨轮需抛刷的面积相应也需增加(即单个磨轮的摆动幅度需要设置得更大),换言之,在每个磨轮保证输出同等的抛刷作业量的基础上,单个磨轮需要更多的作业时间。即如需在保证制膜均匀以及制膜质量的前提下,瓷砖输送线的送件速度将必须大幅降低,以满足单个磨轮抛刷作业的需要。所以会产生使抛刷作业的效率过低的核心问题。

2、若希望保证对大面积瓷砖的抛刷作业的效率,则需保证瓷砖输送线的送件速度不变或更快,故需要以其他方案增加磨轮抛刷的面积。

为解决上述问题,可单独或组合采用以下方案,但效果均不理想,具体见下:

(1)加快摆动横梁的摆动速度或者增加一条抛刷线:

由于抛刷面积的增大,为保证抛刷作业的效率,则需加快瓷砖输送线的速度,如此则必须同步大幅提高摆动横梁的摆动速度。另外,亦可通过在送件方向上增加一条抛刷线,增加一组磨轮来提高更多的抛刷面积。

此方案的问题在于,由于抛刷面积的增加,使单个磨轮的摆动幅度更大,容易导致抛刷不均匀,即制膜的厚度不匀,导致产品质量低。举例来说,不同的磨轮对瓷砖抛刷的位置可能是重叠或是部分重叠的,如此便会导致抛刷不均匀,由于磨轮摆动的幅度更大,所以此问题更加严重。

即使再增加一条或多条的抛刷线可以理论上增加抛刷面积,但同样也无法避免抛刷位置的重叠和没有充分抛刷的位置的存在。

另外,增加抛刷线还会占用更多的作业场地和更大的作业成本。

(2)增加抛刷磨轮的直径:

原理上来说,增加抛刷磨轮确实也能增加打磨的面积,但由于抛刷磨轮作业平稳性和动力损耗方面的考虑,增加抛刷磨轮直径并不可行。若是在送件方向上增加抛刷磨轮,则和“增加一条抛刷线”带来的问题是一致的。



技术实现要素:

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供可有效减少抛刷摆动幅度,制膜厚度均匀;且满足更快的送件速度,提高制膜效率。

本实用新型的目的采用以下技术方案实现:

一种制膜设备,包括,

输送机构,输送机构沿第一方向输送外部待加工工件;

加料机构,该加料机构用于对所述待加工工件待加工面施加制膜原料;

至少两组抛刷组件,抛刷组件用于对所述待加工工件待加工面的制膜原料进行抛刷;至少两组抛刷组件沿第二方向间隔排列;所述第二方向与所述第一方向相交;

第一驱动机构,该第一驱动机构用于带动至少两组抛刷组件沿所述第二方向往复运动。

优选的,该制膜设备还包括用于安装所述至少两组抛刷组件的摆动横梁;所述第一驱动机构用于带动所述摆动横梁沿所述第二方向往复运动。

优选的,所述第一驱动机构包括第一驱动电机、传动轴、传动齿轮以及传动齿条,传动轴与所述第一驱动电机的转动轴同步联接;所述传动齿轮固定于所述传动轴的端部并与所述传动齿条啮合;所述传动轴可转动的穿接于所述摆动横梁内;所述传动轴沿所述第一方向延伸,所述传动齿条沿所述第二方向延伸。

优选的,所述传动轴包括多个轴段,该相邻两轴段通过联轴器同步联接;各个轴段均通过轴承可转动的穿接于所述摆动横梁内。

优选的,该制膜设备还包括用于引导所述摆动横梁沿所述第二方向运动的导向机构。

优选的,导向机构包括两支座以及两导向轮,两导向轮分别固接于所安装横梁的两端;该两支座分设于所述摆动横梁的两端,各支座均沿所述第二方向延伸;两导向轮与所述两支座一一对应设置,且导向轮用于在所述摆动横梁沿所述第二方向运动时与所述支座滚动配合。

优选的,支座的顶端设有沿所述第二方向延伸的导向槽,摆动横梁的端部还设有摆动滚子,该摆动滚子嵌装于所述导向槽内,并在所述摆动横梁沿所述第二方向运动时与所述导向槽滚动配合。

优选的,该制膜设备还包括除尘装置;摆动横梁上设有两挡尘板,该两个挡尘板分别固设于摆动横梁沿第二方向的两侧;所述摆动横梁沿所述第二方向运动时,两挡尘板用于与所述待加工工件待加工面共同围成集尘空间;所述除尘装置的进尘口与所述集尘空间连通。

优选的,抛刷组件包括多个抛刷磨轮以及第二驱动机构,该第二驱动机构用于带动所述多个抛刷磨轮转动;多个抛刷磨轮设置于所述工件的待加工工件加工面的上方,并沿所述第一方向间隔排列。

优选的,加料机构包括储料桶、主料管以及多个分料管,主料管的一端与所述储料桶的出口连通;主料管的另一端沿所述第一方向延伸;多个分料管沿所述第一方向间隔排布;且在第一方向上相邻的两抛刷磨轮之间设有所述分料管;各个分料管的一端与主料管连通,各个分料管的另一端延伸至所述待加工工件待加工面。

相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:其待加工工件通过输送机构沿第一方向输送,加料组件会在待加工工件的待加工面施加制膜原料;同时设至少两组抛刷组件,且使至少两组抛刷组件沿第二方向间隔排列,通过第一驱动机构使至少两组抛刷组件同时沿第二方向运动,实现在第二方向上具有至少两组抛刷组件同时对待加工工件待加工面上的制膜原料进行抛刷,以使待加工组件待加工面上形成膜层,完成待加工工件的抛刷加工。如此可减小单组抛刷组件的摆动幅度,使抛刷效果更加均匀,因而形成的膜厚度均匀;且无需降低待加工工件在第一方向上的输送速度,保证了送件速度,提高抛刷效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为图1中的A处放大结构示意图;

图3为本实用新型的另一视角结构示意图;

图4为图3中的B处放大结构示意图;

图5为图3中的C处放大结构示意图;

图6为本实用新型的剖视图。

图中:10、抛刷组件;11、抛刷磨轮;20、第一驱动机构;21、传动轴;211、联轴器;212、轴承;22、传动齿条;23、传动齿轮;30、除尘装置;31、除尘主管;32、除尘分管;40、输送机构;50、支座;51、导向槽;61、储料桶;62、主料管;63、分料管;70、摆动横梁;71、导向轮;72、摆动滚子;73、挡尘板;80、待加工工件;90、集尘空间。

具体实施方式

下面,结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述:

如图1-6所示的一种制膜设备,包括输送机构40、加料机构、至少两组抛刷组件10以及第一驱动机构20,具体输送机构40可沿第一方向输送外部待加工工件80。加料机构则可用于在待加工工件80的待加工面上施加制膜原料。至少两组抛刷组件10均用于对所述待加工工件80的待加工面上施加的制膜原料进行抛刷;且至少两组抛刷组件10沿第二轴方向间隔排列。而上述第一驱动机构20则可用于带动至少两组抛刷组件10沿所述第二方向往复运动。且使第一方向与第二方向相交。

在本实施例,以待加工工件80为瓷砖,而制膜原料为纳米材料混合液,且设有两组抛刷组件10为例。上述输送机构40、加料机构、两组抛刷组件10以及第一驱动机构20均可安装在一基座上。而上述第一方向可以是Y轴方向(即基座的长度方向),第二方向则可是X轴方向(即基座的宽度方向)。

在上述结构基础上,使用本实用新型的制膜设备进行作业时,将待加工的瓷砖由输送机构40沿基座的长度方向输送,在输送过程中,加料机构会在待加工工件80的待加工面上施加纳米材料混合液,并沿第一方向运动至两组抛刷组件10的加工位,而两组抛刷组件10则会对待加工的瓷砖的待加工面上的纳米材料混合液进行抛刷,在抛刷过程中纳米材料混合液会在待加工面上匀化,并在瓷砖待加工面上形成纳米膜。

而由于两组抛刷组件10在上述第一驱动机构20的带动下可沿基座的宽度方向往复运动,即是说,在待加工的瓷砖的加工面的宽度方向会有两组抛刷组件10同时进行抛刷加工,如此在待加工的瓷砖的待加工面过宽时,无需使改变单组抛刷组件10在基座宽度方向的摆动幅度,避免产生因单组抛刷组件10的摆动幅度过大而带来的抛刷不均匀的问题。同时且无需降低待加工工件80在第一方向上的输送速度,保证了送件速度,从而保证送件速度,提高抛刷效率以及质量。

上述抛刷组件10不仅限于上述两组,具体可根据待加工瓷砖的实际宽度来设置。而上述第一方向与第二方向也不仅限于上述Y轴方向和X轴方向这样垂直相交的两个方向。同时第一方向和第二方向也可以倾斜相交的两个方向。且第一方向和第二方向也可均未曲线相交的两个方向。另外,需要说明的是,两组抛刷组件10在基座的宽度方向上形成的加工面具体可以大于瓷砖宽度方向的待加工面,如此在两组抛刷组件10往复运动时能够确保瓷砖宽度方向的待加工面均可被加工完成。

另外,在本实施例中,输送机构40可包括第二驱动电机以及输送皮带,具体在第二驱动电机带动的带动下,所述输送皮带可沿第一方向运动,即带动所述待加工的工件沿第一方向输送。当然,输送机构40还可选用多个滚筒输送机构40、或链条输送机构40等其他输送机构40。

优选的,该制膜设备还可包括摆动横梁70,该摆动横梁70可安装于上述基座上,具体上述两组抛刷组件10可安装在该摆动横梁70上,而第一驱动机构20可带动该摆动横梁70沿上述基座的宽度方向运动,如此便于两组抛刷组件10的同步摆动,抛刷质量更好。

优选的,参见图4,在本实施例中,上述第一驱动机构20可包括第一驱动电机、传动轴21、传动齿轮23以及传动齿条22。具体使传动轴21与所述第一驱动电机的转动轴同步联接。而传动齿轮23则可固定在传动轴21的端部,且该传动齿轮23与传动齿条22啮合。具体传动轴21可转动的穿接于所述摆动横梁70内,而传动轴21沿上述基座的长度方向延伸,所述传动齿条22沿上述基座的宽度轴方向延伸。在该结构基础上,可通过启动第一驱动电机,可带动传动轴21转动,在传动轴21转动的过程中,固接于传动轴21端部的传动齿轮23会随之转动,而由于传动齿轮23与传动齿条22啮合,故在传动齿轮23转动的过程中会带动摆动横梁70沿传动齿条的延伸方向(即基座的宽度)运动。

进一步的,上述传动轴21具体可包括多个轴段,且相邻两轴段通过联轴器211同步联接,如此可便于在传动轴21过长时的拆装工作。而为了使传动轴21在摆动横梁70中摆动更加顺畅平稳,上述各个轴段均可通过轴承212枢接在摆动横梁70内。

当然,上述第一驱动机构20不仅限于上述实施方式,也可选用直接能够输出直线往复运动的机构来实现,如驱动气缸、丝杆传动装置等。

优选的,参见图4,为了使上述摆动横梁70的运行更加稳定顺畅,该制膜设备还可包括导向机构,该导向机构具体可引导所述摆动横梁70沿所述基座的宽度方向运动。

在本实施例中,导向机构可包括两安装在基座上的支座50以及两导向轮71,具体两导向轮71分别固接于所安装横梁的两端;相应的,两支座50分设于所述摆动横梁70的两端,且使各支座50均沿基座的宽度方向延伸。使两导向轮71与两支座50一一对应设置,如此,在摆动横梁70沿基座的长度方向运动时,导向轮71可与所述支座50滚动配合,使摆动横梁70的运行顺畅稳定。

进一步的,还可在支座50的顶端设有沿基座的宽度方向延伸的导向槽51,相应的在摆动横梁70的端部还设有摆动滚子72,该摆动滚子72嵌装于导向槽51内,且摆动滚子72与导向槽51滚动配合,如此在所述摆动横梁70沿基座的宽度方向运动时,通过摆动滚子72与导向槽51的滚动配合,可进一步提高摆动横梁70的运动稳定性和顺畅性。

优选的,参见图1以及图6,由于在进行抛刷的过程中,整个过程都是敞开式的,因而会出现较多的有害粉尘。故在本实施例中的制膜设备中还可包括除尘装置30。具体在摆动横梁70上设有两挡尘板73,使该两个挡尘板73分别固设于摆动横梁70沿第二方向的两侧,如此在所述摆动横梁70沿所述第二方向运动时,两挡尘板73可与所述待加工工件80待加工面共同围成集尘空间90,故在抛刷组件10摆动抛刷的过程中,粉尘会集中在集成空间内,使除尘装置30的进尘口与所述集尘空间90连通,便可通过该除尘装置30将粉尘吸取。

具体该除尘装置30可以选用现有技术中的除尘机,该除尘机的进尘口可连通于一除尘主管31,同时在除尘主管31上连通多个除尘分管32,通过该多个除尘分管32分段接入集尘空间90,除尘效果更佳,且不会影响各个抛刷组件的抛刷工作。

参见图6,在本实施例中,上述各组抛刷组件10均可包括多个抛刷磨轮11以及第二驱动机构,该第二驱动机构用于带动所述多个抛刷磨轮11转动。且多个抛刷磨轮11设置于所述工件的待加工工件80的加工面上方,并沿着基座的长度方向间隔排列,如此在第二驱动机构的带动下,通过多个抛刷磨轮11的转动,来旋转挤压纳米材料混合液,实现抛刷。且单组抛刷组件10的多个抛刷磨轮11可沿瓷砖的输送方向进行加工,而两组抛刷组件10可同时在瓷砖的宽度方向进行加工,抛刷效率以及抛刷质量更高。

当然,在上述结构基础上,多个抛刷磨轮具体可以设在两个挡尘板73之间。

优选的,上参见图3以及图5,述加料机构可包括储料桶61、主料管62以及多个分料管63,使主料管62的一端与所述储料桶61的出口连通,主料管62的另一端沿所述第一方向延伸。同时上述多个分料管63沿所述第一方向间隔排布;且在第一方向上相邻的两抛刷磨轮11之间设有所述分料管63;各个分料管63的一端与主料管62连通,各个分料管63的另一端延伸至所述待加工工件80待加工面。在上述结构基础上,可先将纳米材料混合液预存在储料桶61内,通过主料管62经多个分料管63施加至瓷砖的待加工面,如此施料更加均匀。且分料管63是位于第一方向上相邻的两抛刷磨轮11之间,即分料管63是沿输送机构40的输送方向施料的,瓷砖在待加工面是在施料之后再进入抛刷磨轮11的下方进行抛刷,如此避免抛刷磨轮11抛刷到未施料的部分,制膜效果更佳。

另外,可在主料管62与储料桶61之间设置一控制阀,同时在各个分料管63上均设置流量控制器,如此可更好的控制施料量。

对本领域的技术人员来说,可根据以上描述的技术方案以及构思,做出其它各种相应的改变以及形变,而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。

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