本实用新型涉及薄膜技术领域，特别是涉及一种沉积成膜装置。
背景技术：
传统的沉积成膜装置没有标准能够判断成膜腔室的清洁是否彻底干净，主要原因是腔室内的颗粒物太多，没有达到要求的洁净度，这样影响了生产。另外在成膜腔室的下部有很大的空间在远程清洁过程中不能保证清洁的到位，这使得成膜腔室的下部空间具有存在异物的隐患，这样降低了产品的质量。
技术实现要素：
基于此，有必要针对成膜腔室的下部空间的清洁不到位以及难以判断成膜腔室的洁净度的问题，提供一种沉积成膜装置。
一种沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，其特征在于，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；
所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；
所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；
所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；
所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。
在其中一个实施例中，所述粒子计数装置用于连接所述干式真空泵并与所述干式真空泵联动设置。
在其中一个实施例中，所述粒子计数装置设置有延时启动组件，用于在所述干式真空泵启动之后延时第一预设时间再启动所述粒子计数装置。
在其中一个实施例中，所述粒子计数装置设置有启动装置，所述启动装置用于在达到预设真空度时启动所述粒子计数装置。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还设置有报警装置，所述报警装置与所述粒子计数装置连接，还用于与所述干式真空泵连接，所述报警装置用于在所述干式真空泵运行超过第二预设时间且所述粒子计数装置的计数值大于设定值时进行报警。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还设置有发送装置，所述发送装置与所述报警装置连接，用于在所述报警装置进行报警时发送远程报警信号。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置中的所述旁路排气管道的数量为多个。
在其中一个实施例中，所述主排气管道还设置主路排气阀，所述主路排气阀位于所述前级真空计的连接位置与所述连接位之间。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置还包括所述干式真空泵。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置为等离子体增强化学气相沉积装置。
上述的沉积成膜装置，包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计，主排气管道的一端与成膜腔室连通，主排气管道的另一端设置连接位，连接位用于连接干式真空泵，利用干式真空泵从成膜腔室内抽气，成膜腔室内的气体通过主排气管道进入干式真空泵；前级真空计用于计算成膜腔室的真空度，从而监控成膜腔室的压力；主排气管道设置真空阀与蝶阀，真空阀用于控制主排气管道的开启和关闭，从而控制排气，即控制干式真空泵对成膜腔室的抽真空；蝶阀用于控制主排气管道打开的幅度，控制排气的速度，从而更精确地控制成膜腔室的真空度；沉积成膜装置包括旁路排气管道，旁路排气管道的一端与成膜腔室连通且设置于成膜腔室的底部，旁路排气管道的另一端连接主排气管道，增加的旁路排气管道使得气体会从成膜腔室的下部空间通过旁路排气管道排出，这样使得成膜腔室的下部空间中的颗粒物随着气体的排出而被带出，从而清洁了成膜腔室的下部空间，提高了整个成膜腔室的洁净度，降低了产品产生异物的可能性，保证了成膜质量，提高了良品率；旁路排气管道设置旁路排气阀，旁路排气阀用于控制旁路排气管道开启和关闭，当成膜腔室的真空度达到设定值时，打开旁路排气阀，利用旁路排气管道对成膜腔室抽真空，使成膜腔室具有更高的洁净度，当不需要旁路排气管道工作时，关闭旁路排气阀；沉积成膜装置还包括粒子计数装置，粒子计数装置设置于主排气管道，粒子计数装置用于测试成膜腔室内的粒子数，使得成膜腔室的洁净度处于被监控状态，即使得成膜腔室的洁净度被明确并可控，从而可以确定开始加工产品的时间，既提高了生产效率，又保证了成膜质量，提高了良品率。
附图说明
图1为一实施例沉积成膜装置的结构示意图；
图2为另一实施例沉积成膜装置的结构示意图；
图3为又一实施例沉积成膜装置的结构示意图；
图4为又一实施例沉积成膜装置的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对沉积成膜装置进行更全面的描述。附图中给出了沉积成膜装置的首选实施例。但是，沉积成膜装置可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对沉积成膜装置的公开内容更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在沉积成膜装置的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
例如，一种沉积成膜装置包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计；例如，所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；例如，所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；例如，所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；例如，所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；例如，所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。例如，一种沉积成膜装置包括成膜腔室、主排气管道与前级真空计；所述沉积成膜装置还包括旁路排气管道与粒子计数装置；所述主排气管道设置真空阀与蝶阀，所述主排气管道的一端与所述成膜腔室连通，所述主排气管道的另一端设置连接位，所述连接位用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道设置旁路排气阀，所述旁路排气管道的一端与所述成膜腔室连通且设置于所述成膜腔室的底部，所述旁路排气管道的另一端连接所述主排气管道，且所述旁路排气管道的另一端位于所述蝶阀与所述连接位之间；所述前级真空计连接于所述旁路排气管道的另一端与所述连接位之间；所述粒子计数装置连接于所述主排气管道的一端与所述真空阀之间。
如图1所示，一实施例的沉积成膜装置10包括成膜腔室100、主排气管道200与前级真空计300；所述沉积成膜装置10还包括旁路排气管道400与粒子计数装置500；所述主排气管道200设置真空阀210与蝶阀220，所述主排气管道200的一端与所述成膜腔室100连通，所述主排气管道200的另一端设置连接位230，所述连接位230用于连接干式真空泵；所述旁路排气管道400设置旁路排气阀410，所述旁路排气管道400的一端与所述成膜腔室100连通且设置于所述成膜腔室100的底部，所述旁路排气管道400的另一端连接所述主排气管道200，且所述旁路排气管道400的另一端位于所述蝶阀220与所述连接位230之间；所述前级真空计300连接于所述旁路排气管道400的另一端与所述连接位230之间；所述粒子计数装置500连接于所述主排气管道200的一端与所述真空阀210之间。
上述的沉积成膜装置10，包括成膜腔室100、主排气管道200与前级真空计300，主排气管道200的一端与成膜腔室100连通，主排气管道200的另一端设置连接位230，连接位230用于连接干式真空泵，利用干式真空泵从成膜腔室100内抽气，成膜腔室100内的气体通过主排气管道200进入干式真空泵；前级真空计300用于计算成膜腔室100的真空度，从而监控成膜腔室100的压力；主排气管道200设置真空阀210与蝶阀220，真空阀210用于控制主排气管道200的开启和关闭，从而控制排气，即控制干式真空泵对成膜腔室100的抽真空；蝶阀220用于控制主排气管道200打开的幅度，控制排气的速度，从而更精确地控制成膜腔室100的真空度；沉积成膜装置10包括旁路排气管道400，旁路排气管道400的一端与成膜腔室100连通且设置于成膜腔室100的底部，旁路排气管道400的另一端连接主排气管道200，增加的旁路排气管道400使得气体会从成膜腔室100的下部空间通过旁路排气管道400排出，这样使得成膜腔室100的下部空间中的颗粒物随着气体的排出而被带出，从而清洁了成膜腔室100的下部空间，提高了整个成膜腔室100的洁净度，降低了产品产生异物的可能性，保证了成膜质量，提高了良品率；旁路排气管道400设置旁路排气阀410，旁路排气阀410用于控制旁路排气管道400开启和关闭，当成膜腔室100的真空度达到设定值时，打开旁路排气阀410，利用旁路排气管道400对成膜腔室100抽真空，使成膜腔室100具有更高的洁净度，当不需要旁路排气管道400工作时，关闭旁路排气阀410；沉积成膜装置10还包括粒子计数装置500，粒子计数装置500设置于主排气管道200，粒子计数装置500用于测试成膜腔室100内的粒子数，使得成膜腔室100的洁净度处于被监控状态，即使得成膜腔室100的洁净度被明确并可控，从而可以确定开始加工产品的时间，既提高了生产效率，又保证了成膜质量，提高了良品率。
例如，所述旁路排气管道400的另一端位于所述真空阀210与所述蝶阀220之间，这样蝶阀220控制主排气管道200和旁路排气管道400的总的排气的速度，即控制气体进入干式真空泵的速度，从而更全面地精确控制成膜腔室100的真空度。
如图2所示，例如，所述粒子计数装置500位于所述旁路排气管道400的另一端与所述连接位230之间，这样使得从旁路排气管道400排出的成膜腔室100的下部空间的粒子数也被计入粒子计数装置500，从而使得粒子计数装置500对成膜腔室100的洁净度的测试更加精确。
如图3所示，例如，所述旁路排气管道400的另一端位于所述真空阀210与所述蝶阀220之间，这样蝶阀220控制主排气管道200和旁路排气管道400的总的排气的速度，即控制气体进入干式真空泵的速度，从而更全面地精确控制成膜腔室100的真空度。所述粒子计数装置500位于所述蝶阀220与所述连接位230之间，这样使得从旁路排气管道400排出的成膜腔室100的下部空间的粒子数也被计入粒子计数装置500，从而使得粒子计数装置500对成膜腔室100的洁净度的测试更加精确。
如图4所示，例如，所述旁路排气管道400的另一端位于所述真空阀210与所述蝶阀220之间，这样蝶阀220控制主排气管道200和旁路排气管道400的总的排气的速度，即控制气体进入干式真空泵的速度，从而更全面地精确控制成膜腔室100的真空度。所述粒子计数装置500位于所述旁路排气管道400的另一端与所述蝶阀220之间，这样使得从旁路排气管道400排出的成膜腔室100的下部空间的粒子数也被计入粒子计数装置500，从而使得粒子计数装置500对成膜腔室100的洁净度的测试更加精确。
为了更好地确保成膜腔室100的洁净度，进一步使得第一块产品即可实现无瑕疵效果，在其中一个实施例中，所述粒子计数装置500用于连接所述干式真空泵并与所述干式真空泵联动设置，这样在干式真空泵开始抽气时，即成膜腔室100的粒子开始随着气体排入干式真空泵时，粒子计数器500同时联动开始计数工作，这样可以实时而准确地监控成膜腔室100的粒子数，即可以实时而准确地监控成膜腔室100的洁净度。
为了更好地延长粒子计数装置500的使用寿命，在其中一个实施例中，所述粒子计数装置500设置有延时启动组件，用于在所述干式真空泵启动之后延时第一预设时间再启动所述粒子计数装置500，开始排气时，成膜腔室100的粒子排出较多，对于粒子数的计算没有太大意义，延时第一预设时间后，成膜腔室100内的粒子数随着排气降减少了一部分，此时粒子计数装置500开始计数工作，监控此时成膜腔室100的洁净度，这样粒子计数装置500不用在开始排气时就工作，延长了粒子计数装置500的使用寿命。
为了更好地延长粒子计数装置500的使用寿命，在其中一个实施例中，所述粒子计数装置500设置有启动装置，所述启动装置用于在达到预设真空度时启动所述粒子计数装置500。启动装置用于测试和监控成膜腔室100的真空度，在成膜腔室100的真空度达到预设真空度时，即在成膜腔室100的真空度达到薄膜沉积时所要求的真空度时，启动装置启动粒子计数装置500，粒子计数装置500开始计数工作，节省了不必要的工序，延长了粒子计数装置500的使用寿命。
为了更好地延长粒子计数装置500的使用寿命，在其中一个实施例中，所述粒子计数装置500设置有关闭装置，所述关闭装置用于在粒子计数装置500测试的粒子数达到预设粒子数时关闭。当粒子计数装置500测试到粒子数达到预设粒子数时，关闭装置关闭粒子计数装置500，粒子计数装置500停止计数，这样延长了粒子计数装置500的使用寿命。
为了避免在故障出现时长期抽真空却无法达到真空效果，在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置10还设置有报警装置，所述报警装置与所述粒子计数装置500连接，还用于与所述干式真空泵连接，所述报警装置用于在所述干式真空泵运行超过第二预设时间且所述粒子计数装置500的计数值大于设定值时进行报警，这样使得当干式真空泵抽气超过第二预设时间而成膜腔室100的洁净度还没达到理想值时，工作人员接收到报警后可以及时作出相应的改善，以继续更有效地对成膜腔室100抽真空，从而更有效地提高成膜腔室100的洁净度，提高了生产效率。
为了更好地避免在故障出现时长期抽真空却无法达到真空效果，在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置10还设置有发送装置，所述发送装置与所述报警装置连接，用于在所述报警装置进行报警时发送远程报警信号。发送装置用于将报警信号发送至管理员的终端或者服务器，工作人员接收到报警信号后得知情况，可以及时应对，提高了生产效率。
为了进一步提高生成膜腔室100的洁净度且确保均一的洁净效果，在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置10中的所述旁路排气管道400的数量为多个，这样使得成膜腔室100的下部空间的各处的粒子都随着气体一起被排出，即使得成膜腔室100的下部空间清洁更彻底、高效，从而使得成膜腔室100的清洁更彻底、高效，提高了成膜腔室100的洁净度且确保均一的洁净效果，即提高了成膜质量，即提高了良品率，同时提高了生产效率。例如，多个所述旁路排气管道400均匀分布于所述成膜腔室的底部。
为了更好地控制主排气管道200的通断，在其中一个实施例中，所述主排气管道200还设置主路排气阀，所述主路排气阀位于所述前级真空计300的连接位置与所述连接位230之间，主路排气阀用于控制主排气管道200的开启和关闭，以控制干式真空泵对成膜腔室100的抽气。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置10还包括所述干式真空泵。例如，所述主排气管道200的一端与所述成膜腔室100连通，所述主排气管道200的另一端设置连接位230，所述连接位230连接干式真空泵。干式真空泵用于对成膜腔室100抽气，成膜腔室100内的气体被抽入干式真空泵，成膜腔室100内的粒子随着气体一起进入干式真空泵。
在其中一个实施例中，所述沉积成膜装置10为等离子体增强化学气相沉积装置。在其他实施例中，所述沉积成膜装置10还可以为离子束沉积装置、磁控溅射装置、脉冲激光沉积装置和原子层沉积装置等生长薄膜的设备中的其中一种。
需要说明的是，所述成膜腔室、主排气管道与前级真空计，均可采用现有技术或者现有产品实现，并且，干式真空泵、粒子计数装置、真空阀、蝶阀、旁路排气管道及其旁路排气阀、启动装置、报警装置、发送装置以及延时启动组件等，均可采用市售产品实现，本实用新型再次要求保护的是具有这些结构或装置的沉积成膜装置，以及这些结构或装置在沉积成膜装置中的位置及连接关系。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。