一种四工位抛光机的制作方法

本实用新型涉及抛光机，具体涉及一种四工位抛光机。

背景技术：

铸造件从模具中生产出来后，表面会有多余的毛刺等需要处理，在用砂轮或砂带打磨的时候，会产生大量的灰尘，不仅对工人的健康产生很大的影响，同时灰尘容易积累，占用工作位置，从而影响抛光工作。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是：针对现有技术各种缺陷和不足，提供一种四工位抛光机。

本实用新型的具体技术方案是：一种四工位抛光机，包括机体，机体设有四个工位，四个工位相隔两工位加工处位于同一侧，相隔两工位之间装有转轴，转轴通过转轴架固定安装在机架上，转轴通过传动带由装在机体顶部的电机驱动，转轴两端为锥形螺纹体，锥形螺纹体上固定装有主动转轮，与主动转轮水平位置在工位内的机架上装有从动轮机构，主动转轮与从动轮机构的从动轮用抛光带连接，机体顶部还装有盖板，盖板既可以防灰尘外扬，又方便设备检修。

更进一步，从动轮机构设有固定座固定安装在机架上，固定座上贯穿装有螺杆，螺杆一端设有手柄，另一端固定安装在滑块上，滑块底部安装在机架上，滑块顶部装有支柱，支柱上套装有圆环套，圆环套一侧为开口状，且开口处两端设有圆环套固定部，通过螺丝和螺母将其固定，圆环套另一侧装有从动轮安装部，从动轮安装部外侧为开口状，通过螺丝和螺母将其固定。

更进一步，机体底部还装有吸尘机构，吸尘机构包括位于每个工位的主动转轮下方还装有聚灰斜板，聚灰斜板旁装有聚灰直板，聚灰直板的另一侧装有挡灰垂直板，聚灰直板一端装有吸灰装置，聚灰直板位于吸灰装置一端低于另一端。

工作原理：在主动转轮和从动轮上装上抛光带，可通过拧松螺丝调节从动轮的上下和左右位置来保证抛光带安装到位且底部处于水平状，通过拧螺杆的手柄调节从动轮的前后位置来调节抛光带的张紧度，在长时间使用后抛光带变的松驰可再次通过调节从动轮的前后位置来调节抛光带的张紧度，调节完成后启动电机，通过转轴带动主动转轮转动，从而带动抛光带传动，工人便可在抛光带上抛光铸件，在同一侧的工位上，分别装有粗抛光带和细抛光带，抛光产生的灰尘会掉至聚灰斜板和聚灰直板上，通过吸灰装置的大功率吸灰，掉落的灰尘大部分会被吸入吸灰装置内。

本实用新型由于采用了以上的技术方案，具有下列优点：1.粗抛和精抛在同一机器上，方便工人加工，提高工作效率。2.大大减少灰尘堆积，避免工人吸入灰尘，提高工作环境，也避免积尘影响工作。

附图说明

图1：为本实用新型的主视局部剖结构示意图。

图2：为本实用新型的俯视局部剖结构示意图。

图3：为本实用新型的从动轮机构俯视放大结构示意图。

图4：为本实用新型的从动轮机构左视放大结构示意图。

图5：为本实用新型的吸尘机构俯视结构示意图。

具体实施方式

结合附图描述本实用新型的实施例。

一种四工位抛光机，包括机体1，机体1设有四个工位2，四个工位2相隔两工位2加工处位于同一侧，相隔两工位2之间装有转轴3，转轴3通过转轴架6固定安装在机架7上，转轴3通过传动带4由装在机体1顶部的电机5驱动，转轴3两端为锥形螺纹体31，锥形螺纹体31上固定装有主动转轮8，与主动转轮8水平位置在工位2内的机架7上装有从动轮机构9，主动转轮8与从动轮机构9的从动轮91用抛光带10连接，机体1顶部还装有盖板11，盖板11既可以防灰尘外扬，又方便设备检修。

从动轮机构9设有固定座92固定安装在机架7上，固定座92上贯穿装有螺杆93，螺杆93一端设有手柄94，另一端固定安装在滑块95上，滑块95底部安装在机架7上，滑块95顶部装有支柱96，支柱96上套装有圆环套97，圆环套97一侧为开口状，且开口处两端设有圆环套固定部98，通过螺杆和螺母将其固定，圆环套97另一侧装有从动轮安装部99，从动轮安装部99外侧为开口状，通过螺杆和螺母将其固定。

机体1底部还装有吸尘机构16，吸尘机构16包括位于每个工位2的主动转轮8下方还装有聚灰斜板12，聚灰斜板12旁装有聚灰直板13，聚灰直板13的另一侧装有挡灰垂直板14，聚灰直板13一端装有吸灰装置15，聚灰直板13位于吸灰装置15一端低于另一端。

在主动转轮8和从动轮91上装上抛光带10，可通过拧松螺丝调节从动轮91的上下和左右位置来保证抛光带10安装到位且底部处于水平状，通过拧螺杆93的手柄94调节从动轮91的前后位置来调节抛光带10的张紧度，在长时间使用后抛光带10变的松驰可再次通过调节从动轮91的前后位置来调节抛光带10的张紧度，调节完成后启动电机5，通过转轴3带动主动转轮8转动，从而带动抛光带10传动，工人便可在抛光带10上抛光铸件，在同一侧的工位上，分别装有粗抛光带和细抛光带，抛光产生的灰尘会掉至聚灰斜板12和聚灰直板13上，通过吸灰装置15的大功率吸灰，掉落的灰尘大部分会被吸入吸灰装置15内。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。