技术特征：
技术总结
本发明的溅射装置(1)具有能够更换相对于在腔室内通过溅射来成膜的基板(S)大致垂直保持的掩模框架(F)的掩模更换机构(100)。掩模更换机构具有：能够密闭的储备室(50)，能够以表面平行状态储备多个所述掩模框架；和运送机构(60)，用于将储备的多个掩模框架运送至腔室(4)内的作为成膜位置的掩模室(43)。在储备室中设置有：储备支撑部(51，52，53，54)，能够沿与掩模框架的掩模面大致正交的方向前后移动；驱动支撑部(55，65)，能够沿表面方向驱动选自储备于储备支撑部的掩模框架中的掩模框架；和运送上支撑部(56，66)，在通过驱动支撑部来移动掩模框架时，能够以不倾斜的方式支撑所述掩模框架的上端。
技术研发人员：吉田大介;清水豪;高桥诚;汤山明;佐藤雄亮
受保护的技术使用者：株式会社爱发科
技术研发日：2018.10.04
技术公布日：2019.08.09