一种TC4合金蒙皮-框架结构的成形方法与流程

文档序号:17494199发布日期:2019-04-23 21:03阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明一种TC4合金蒙皮‑框架结构的成形方法,用三维软件画出结构模型将结构模型按20~30μm层厚切片分层;将分层好的数据导入到成形设备中,输入成形参数;将TC4合金粉末均匀地铺设在TC4基板上,激光束扫描的轨迹对TC4合金粉末层进行选择性熔化,完成一层TC4蒙皮‑框架结构加工;在形成的一层TC4合金蒙皮‑框架结构上再次铺设TC4合金粉末,按照确定的激光束扫描的轨迹对TC4合金粉末层进行选择性熔;逐层加工该TC4蒙皮‑框架结构,最终形成蒙皮‑框架结构。本发明优点是能减少TC4合金蒙皮‑框架结构的成形件产生的翘曲、裂纹、气孔和致密度不均匀等缺陷,能够制备复杂的蒙皮内部的框架结构。

技术研发人员:秋大闯;李多生;宋利康;吴宁;柯黎明;秦国华;王国波
受保护的技术使用者:南昌航空大学
技术研发日:2019.02.25
技术公布日:2019.04.23
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