本发明涉及锂电池铜箔加工技术领域，更具体地说，涉及一种锂电池铜箔的表面预处理方法。
背景技术：
锂电池铜箔是一种阴质性电解材料，沉淀于电路板基底层上的一层薄的、连续的金属箔，它作为pcb的导电体，它容易粘合于绝缘层，接受印刷保护层，腐蚀后形成电路图样。
在对锂电池铜箔的加工过程中需要对锂电池铜箔进行表面预处理，但是现有对铜箔的预处理处理步骤粗糙，导致处理效果差，不能有效提高导电能力和粘结负极材料性能，导致其充放电效率低，界面电阻大，缩短了其循环寿命。
技术实现要素：
1.要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种锂电池铜箔的表面预处理方法，它提高了导电能力和粘结负极材料性能，提高充放电效率，降低界面电阻，延长循环寿命。
2.技术方案
为解决上述问题，本发明采用如下的技术方案：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：所述处理浆料包括ca(oh)2溶液、去离子水、炭黑和聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡，捞出之后，使用工业热风机进行烘干，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，提高了导电能力和粘结负极材料性能，提高充放电效率，降低界面电阻，延长循环寿命。
作为本发明的一种优选方案，在步骤s1中，所述处理浆料按重量份组成依次为：ca(oh)2溶液50-60份、去离子水100-120份、炭黑30-40份和聚乙酸酯25-35份。
作为本发明的一种优选方案，在步骤s2中，所述浸泡时间为60-70min。
作为本发明的一种优选方案，所述工业热风机的风速为20-30m/s，所述工业热风机的温度为40-50℃，所述烘干时间为15-25min。
作为本发明的一种优选方案，在步骤s3中，所述等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气。
作为本发明的一种优选方案，所述等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出。
3.有益效果
相比于现有技术，本发明的优点在于：
本发明通过独特的处理浆料对铜箔进行预处理，继而使用采用等离子体表面处理技术对其再次处理，提高了导电能力和粘结负极材料性能，提高充放电效率，降低界面电阻，延长循环寿命。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：50份ca(oh)2溶液、100份去离子水、30份炭黑和25份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡70min，捞出之后，使用风速为30m/s、温度为50℃的工业热风机进行烘干，烘干15min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例2：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：50份ca(oh)2溶液、100份去离子水、30份炭黑和25份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡65min，捞出之后，使用风速为25m/s、温度为45℃的工业热风机进行烘干，烘干20min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例3：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：50份ca(oh)2溶液、100份去离子水、30份炭黑和25份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡60min，捞出之后，使用风速为20m/s、温度为40℃的工业热风机进行烘干，烘干25min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例4：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：55份ca(oh)2溶液、110份去离子水、35份炭黑和30份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡70min，捞出之后，使用风速为30m/s、温度为50℃的工业热风机进行烘干，烘干15min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例5：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：55份ca(oh)2溶液、110份去离子水、35份炭黑和30份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡65min，捞出之后，使用风速为25m/s、温度为45℃的工业热风机进行烘干，烘干20min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例6：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：55份ca(oh)2溶液、110份去离子水、35份炭黑和30份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡60min，捞出之后，使用风速为20m/s、温度为40℃的工业热风机进行烘干，烘干25min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例7：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：60份ca(oh)2溶液、120份去离子水、40份炭黑和35份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡70min，捞出之后，使用风速为30m/s、温度为50℃的工业热风机进行烘干，烘干15min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例8：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：60份ca(oh)2溶液、120份去离子水、40份炭黑和35份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡65min，捞出之后，使用风速为25m/s、温度为45℃的工业热风机进行烘干，烘干20min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
实施例9：
一种锂电池铜箔的表面预处理方法，包括以下步骤：
s1、制备处理浆料：处理浆料包括以下重量份的原料：60份ca(oh)2溶液、120份去离子水、40份炭黑和35份聚乙酸酯，搅拌均匀，待用；
s2、初步处理：将铜箔置于处理浆料中，浸泡60min，捞出之后，使用风速为20m/s、温度为40℃的工业热风机进行烘干，烘干25min，待用；
s3、最终处理：采用等离子体表面处理技术对初步处理后的铜箔再次处理，等离子表面处理技术采用的气体为氢气或者氦气，等离子体表面处理技术中的等离子体由质谱仪及其离子化装置产出，经真空泵进行射流，经喷嘴发射而出，质谱仪及其离子化装置采用公开号为“cn203882953u”记载的“一种质谱仪及其离子化装置”。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围内。