一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪的制作方法

本实用新型涉及机械技术领域，尤其涉及一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。

背景技术：

真空热蒸发镀膜技术被广泛应用于机发光显示屏等平板显示器的制造中，该技术在相应薄膜器件产业化中的应用也十分广泛。其基本原理是利用加热的手段使待形成薄膜的原材料受热蒸发，由凝聚相变成气相，原材料的分子或原子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到基板(衬底)表面，最终蒸发的分子或原子在基板(衬底)上沉积，凝结形成固态薄膜。

在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。现有的基片蒸镀承载盘只能放置两个基片，并且蒸镀基片的种类少，基片蒸镀承载盘上的空间不能被充分利用。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪，能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括：

底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部；

挡板组件，设置于所述底盘下方，所述挡板组件能相对所述底盘运动，且所述挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。

优选地，所述挡板组件包括挡板和固定件，所述挡板与所述固定件滑动连接，所述挡板设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板连接有驱动所述挡板相对所述底盘运动的驱动组件。

优选地，所述挡板与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述底盘的中心运动。

优选地，所述底盘包括：

掩膜盘，所述掩膜盘沿周向设置多个所述蒸镀图形，所述挡板设置于所述掩膜盘下方，且所述固定件与所述掩膜盘固定连接，且所述挡板用于遮挡所述蒸镀图形；

基片盘，与所述掩膜盘同轴设置，且所述掩膜盘能相对所述基片盘转动。

优选地，所述底盘包括基片盘，所述承载部设置在所述基片盘上，所述挡板组件设置于所述基片盘下方，且所述挡板组件能相对所述基片盘运动。

优选地，所述挡板组件包括挡板，所述挡板设有多个并沿所述基片盘周向设置，且与所述承载部一一对应，所述挡板上设置多个所述蒸镀图形，所述挡板相对所述基片盘运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。

优选地，所述挡板与所述基片盘转动连接，且所述挡板转动的轴线与所述基片盘的中心线平行，所述挡板沿周向设有多个所述蒸镀图形。

优选地，所述挡板与所述基片盘滑动连接，且所述挡板朝向或远离所述基片盘的中心运动，所述挡板沿所述挡板的移动方向设置多个所述蒸镀图形。

优选地，所述承载部包括开设在所述底盘上的凹槽，所述凹槽的槽底开有蒸镀孔，所述凹槽用于放置所述基片。

一种真空蒸镀仪，包括上述的基片蒸镀承载盘。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

本实用新型提供的真空蒸镀仪，采用上述的基片蒸镀承载盘，能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀的效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例一提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；

图2是本实用新型实施例一提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图；

图3是本实用新型实施例一提供的驱动组件的部分结构示意图；

图4是本实用新型实施例二提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；

图5是本实用新型实施例二提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图；

图6是本实用新型实施例二提供的挡板组件的结构示意图；

图7是本实用新型实施例三提供的基片蒸镀承载盘的第一视角的结构示意图；

图8是本本实用新型实施例三提供的基片蒸镀承载盘的第二视角的结构示意图。

图中：

11、基片盘；12、掩膜盘；

2、承载部；21、凹槽；22、蒸镀孔；

3、挡板组件；31、挡板；32、固定件；33、转轴；

4、蒸镀图形；

51、推杆；52、钩子结构件；53、把手。

具体实施方式

为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

实施例一

本实施例提供了一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，该基片蒸镀承载盘能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。

具体地，如图1和图2所示，该基片蒸镀承载盘包括底盘和挡板组件3，底盘上设有多个用于放置基片的承载部2，挡板组件3设置于底盘下方，挡板组件3能相对底盘运动，且挡板组件3用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。在蒸镀过程中，挡板组件3可以遮挡蒸镀图形4使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形4，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

承载部2包括开设在底盘上的凹槽21，凹槽21的槽底开有蒸镀孔22，凹槽21用于放置基片。基片放置在凹槽21内，且基片需要蒸镀的一侧朝向蒸镀孔22，通过蒸镀孔22将蒸镀图形4蒸镀到基片上，结构简单，且方便取放基片。

挡板组件3包括挡板31和固定件32，挡板31与固定件32滑动连接，挡板31设有多个并沿底盘周向设置，且与承载部2一一对应，能单独控制每个基片是否蒸镀。挡板31连接有驱动挡板31相对底盘运动的驱动组件。驱动组件驱动挡板31运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4，实现自动控制挡板31。

在本实施例中，挡板31与底盘的底面平行且滑动连接，且挡板31在驱动组件的驱动下朝向或远离底盘的中心运动。进一步地，底盘包括掩膜盘12和基片盘11，基片盘11与掩膜盘12同轴设置，且掩膜盘12相对基片盘11转动。基片盘11上沿周向设有多个用于放置基片的凹槽21，掩膜盘12沿周向设有多个蒸镀图形4，挡板31设置于掩膜盘12的下方，在基片不需要蒸镀图形时，挡板31用于遮挡蒸镀图形4。掩膜盘12相对基片盘11转动，可以切换蒸镀图形4。

再进一步地，固定件32固定安装于掩膜盘12上，且每个挡板31对应设置一个固定件32，结构简单，便于安装。优选地，固定件32包括滑块，滑块上设有滑槽，挡板31嵌入滑槽内且能在滑槽内移动。

上述的驱动挡板31运动的驱动组件包括推杆51，推杆51的一端用于与挡板31连接，推杆51的另一端与驱动件连接，推杆51与挡板31连接，驱动件驱动推杆51进而带动挡板31朝向或远离底盘的中心运动。在挡板31需要遮挡蒸镀图形4时，推杆51带动挡板31朝向底盘的中心运动并遮挡蒸镀图形4，在挡板31不需要遮挡蒸镀图形4时，推杆51带动挡板31远离底盘的中心运动不再遮挡蒸镀图形4。

在本实施例中，如图3所示，推杆51的一端设置有钩子结构件52，挡板31远离底盘中心的一端设有与钩子结构件52配合连接的连接部，驱动件为设置在推杆51另一端的把手53，手握把手53可以旋转推杆51，使钩子结构件52与连接部连接，连接后，前后推动推杆51以实现挡板31的移动，再旋转把手53，使钩子结构件52与挡板31的连接部分离。本实施例中，只设置一组驱动组件，通过旋转掩膜盘12，使需要变换位置的挡板31移动至驱动组件的位置处，操作驱动组件改变挡板31的位置，结构简单，且便于操作，降低了设备成本。

本实施例还提供了一种真空蒸镀仪，采用上述的基片蒸镀承载盘。使用该基片蒸镀承载盘，能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀的效率。

实施例二

本实施例提供了一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，该基片蒸镀承载盘能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。

具体地，如图4和图5所示，该基片蒸镀承载盘包括底盘和挡板组件3，底盘上设有多个用于放置基片的承载部2，挡板组件3设置于底盘下方，挡板组件3能相对底盘运动，且挡板组件3用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。在蒸镀过程中，挡板组件3可以遮挡蒸镀图形4使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形4，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

在本实施例中，基盘包括基片盘11，承载部2设置在基片盘11上。承载部2包括开设在基片盘11上的凹槽21，凹槽21的槽底开有蒸镀孔22，凹槽21用于放置基片。基片放置在凹槽21内，且基片需要蒸镀的一侧朝向蒸镀孔22，通过蒸镀孔22将蒸镀图形4蒸镀到基片上，结构简单，且方便取放基片。挡板组件3设置于基片盘11下方，挡板组件3能相对基片盘11运动。

进一步地，挡板组件3包括挡板31，挡板31设有多个并沿基片盘11周向设置，且与承载部2一一对应，挡板31上设置多个蒸镀图形4，挡板31相对基片盘11运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。通过挡板31的运动即可实现切换是否蒸镀与切换蒸镀图形4，简化了蒸镀承载盘的结构，且提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀效率。

在本实施例中，挡板31与基片盘11转动连接，且挡板31转动的轴线与基片盘11的中心线平行，挡板31沿周向设置多个蒸镀图形4。该蒸镀图形4包括遮挡蒸镀孔22的图形板，在基片不需要蒸镀图形时，使该图形板遮挡蒸镀孔22。旋转式挡板31的设计结构简单，且方便切换蒸镀图形4。

在本实施例中，如图6所示，挡板31的中心处连接有转轴33，转轴33的一端与挡板31连接，转轴33的另一端穿设基片盘11置于基片盘11的另一侧。每个转轴33的另一端可以分别连接有一个驱动转轴33旋转的驱动器(图中未示出)，可以实现多个挡板31同时调整位置。还可以只设置一个驱动器，使基片盘11旋转至使挡板31与驱动器相对应的位置，或使驱动器旋转至与挡板31相对应的位置，然后驱动器驱动挡板31旋转调整蒸镀图形4，结构简单，减少了驱动器设置的个数，降低了设备成本。

本实施例还提供了一种真空蒸镀仪，采用上述的基片蒸镀承载盘。使用该基片蒸镀承载盘，简化了蒸镀仪的结构，且能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀的效率。

实施例三

本实施例提供了一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，该基片蒸镀承载盘能放置多个基片，并且蒸镀基片的种类多，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率。

具体地，如图7和图8所示，该基片蒸镀承载盘包括底盘和挡板组件3，底盘上设有多个用于放置基片的承载部2，挡板组件3设置于底盘下方，挡板组件3能相对底盘运动，且挡板组件3用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。在蒸镀过程中，挡板组件3可以遮挡蒸镀图形4使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形4，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

在本实施例中，基盘包括基片盘11，承载部2设置在基片盘11上。承载部2包括开设在基片盘11上的凹槽21，凹槽21的槽底开有蒸镀孔22，凹槽21用于放置基片。基片放置在凹槽21内，且基片需要蒸镀的一侧朝向蒸镀孔22，通过蒸镀孔22将蒸镀图形4蒸镀到基片上，结构简单，且方便取放基片。挡板组件3设置于基片盘11下方，挡板组件3能相对基片盘11运动。

进一步地，挡板组件3包括挡板31，挡板31设有多个并沿基片盘11周向设置，且与承载部2一一对应，挡板31上设置多个蒸镀图形4，挡板31相对基片盘11运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4。通过挡板31的运动即可实现切换是否蒸镀与切换蒸镀图形4，简化了蒸镀承载盘的结构，且提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀效率。

在本实施例中，挡板31与基片盘11滑动连接，且挡板31朝向或远离基片盘11的中心运动，挡板31沿挡板31的移动方向设置多个蒸镀图形4。该挡板31较实施例一中的挡板31要长，挡板31上设置的蒸镀图形4包括遮挡蒸镀孔22的图形，在基片不需要蒸镀图形时，使用该图形遮挡蒸镀孔22。

进一步地，挡板组件3还包括固定件32，固定件32固定安装于基片盘11上，挡板31与固定件32滑动连接，且每个挡板31对应设置一个固定件32，结构简单，便于安装。挡板31连接有驱动挡板31相对底盘运动的驱动组件，驱动组件驱动挡板31运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4，实现自动控制挡板31。优选地，固定件32包括滑块，滑块上设有滑槽，挡板31嵌入滑槽内且能在滑槽内移动。

本实施例中的驱动组件的结构与实施例一中的结构相同，在此不再详细叙述。本实施例在调整挡板31的位置时，旋转基片盘11，使需要调整的挡板31转至驱动组件的位置处，驱动组件调整完挡板31的位置后，再旋转基片盘11，调整下一个挡板31的位置，依此逐个进行调整。

本实施例还提供了一种真空蒸镀仪，采用上述的基片蒸镀承载盘。使用该基片蒸镀承载盘，简化了蒸镀仪的结构，且能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀的效率。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。