一种锻件淬火装置的制作方法

文档序号:26216743发布日期:2021-08-10 14:25阅读:37来源:国知局
一种锻件淬火装置的制作方法

本实用新型涉及淬火设备领域,尤其涉及一种锻件淬火装置。



背景技术:

淬火是工件加工处理中的必要工艺之一,现有的淬火工艺往往基于淬火槽以及其内部的淬火介质完成,现有的淬火装置都是将锻件分批放入淬火槽内进行淬火,待淬火完后取出再放入下一批锻件进行淬火,再锻件取出和放入的过程中较为耗时,影响生产效率,因此解决这个问题就变得很重要了。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种锻件淬火装置,通过左右两侧设有支架并在内部滑动设置有放置架,放置架之间通过钢丝绳进行连接,使左右两个放置架连动,使淬火可以循环进行,解决了现有放料淬火效率低的问题。

本实用新型提供一种锻件淬火装置,包括淬火槽,淬火槽内左右两侧对称都设有支架,支架内都滑动设有放置架,放置架上设有放置槽,放置架下端之间通过钢丝绳连接,放置架下侧设有导向辊,钢丝绳通过导向辊导向,淬火槽上侧设有安装架,安装架上左右两侧设有收卷辊,收卷辊与放置架之间通过钢丝绳连接。

进一步改进在于:支架内侧底端设有缓冲弹簧柱,支架内侧上端设有限位块。

进一步改进在于:淬火槽内中间上侧和左右两侧都设有搅拌机构。

进一步改进在于:淬火槽内中间底部设有进液管。

本实用新型的有益效果:通过左右两侧设有支架以及滑动设置在支架内的放置架,放置架上侧通过钢丝绳与收卷辊进行连接,放置架下侧通过钢丝绳相互连接,两个放置架通过钢丝绳连动作用,保持上下交错,使锻件上料淬火循环进行,大大提高了上料淬火效率,提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型的主视结构图。

其中:1-淬火槽,2-支架,3-放置架,4-放置槽,5-导向辊,6-安装架,7-收卷辊,8-缓冲弹簧柱,9-限位块,10-搅拌机构,11-进液管。

具体实施方式

为了加深对本实用新型的理解,下面将结合实施例对本实用新型作进一步详述,该实施例仅用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型保护范围的限定。

如图1所示,本实施例提供一种锻件淬火装置,包括淬火槽1,淬火槽1内左右两侧对称都设有支架2,支架2内都滑动设有放置架3,放置架3上设有放置槽4,放置架3下端之间通过钢丝绳连接,放置架3下侧设有导向辊5,钢丝绳通过导向辊5导向,淬火槽1上侧设有安装架6,安装架6上左右两侧设有收卷辊7,收卷辊7与放置架3之间通过钢丝绳连接,收卷辊7通过电机驱动或者人工手工操作进行转动对钢丝绳进行收卷,通过钢丝绳牵引作用使左右两侧放置架连动上下,使用更加便捷。

支架2内侧底端设有缓冲弹簧柱8,支架2内侧上端设有限位块9。

淬火槽1内中间上侧和左右两侧都设有搅拌机构10,同归中间和两侧的搅拌机构10,是淬火槽1内的淬火介质混合均匀。

淬火槽1内中间底部设有进液管11,从中间进液,使淬火介质从下往上与锻件均匀充分接触。

将锻件放置在一侧放置架3上的放置槽4内,放置架3沿支架2向下滑动进入淬火槽1内,缓冲弹簧柱8对下滑的放置架3进行缓冲,进液管11从下侧向淬火槽1内通入淬火液,搅拌机构10对淬火液进行搅拌混合,使锻件淬火更加均匀;同时另一侧放置架3通过收卷辊7对钢丝绳收卷作用在支架2内滑动上升,放置架3上升后进行锻件上料;左右放置架3上下交错工作,提高了生产效率。



技术特征:

1.一种锻件淬火装置,包括淬火槽(1),其特征在于,淬火槽(1)内左右两侧对称都设有支架(2),支架(2)内都滑动设有放置架(3),放置架(3)上设有放置槽(4),放置架(3)下端之间通过钢丝绳连接,放置架(3)下侧设有导向辊(5),钢丝绳通过导向辊(5)导向,淬火槽(1)上侧设有安装架(6),安装架(6)上左右两侧设有收卷辊(7),收卷辊(7)与放置架(3)之间通过钢丝绳连接。

2.如权利要求1所述的一种锻件淬火装置,其特征在于:支架(2)内侧底端设有缓冲弹簧柱(8),支架(2)内侧上端设有限位块(9)。

3.如权利要求1所述的一种锻件淬火装置,其特征在于:淬火槽(1)内中间上侧和左右两侧都设有搅拌机构(10)。

4.如权利要求1所述的一种锻件淬火装置,其特征在于:淬火槽(1)内中间底部设有进液管(11)。


技术总结
本实用新型提供一种锻件淬火装置,包括淬火槽,淬火槽内左右两侧对称都设有支架,支架内都滑动设有放置架,放置架上设有放置槽,放置架下端之间通过钢丝绳连接,放置架下侧设有导向辊,钢丝绳通过导向辊导向,淬火槽上侧设有安装架,安装架上左右两侧设有收卷辊,收卷辊与放置架之间通过钢丝绳连接。通过左右两侧设有支架并在内部滑动设置有放置架,放置架之间通过钢丝绳进行连接,使左右两个放置架连动,使淬火可以循环进行,结构简单,适用于生产中。

技术研发人员:姚金鑫
受保护的技术使用者:芜湖万联新能源汽车零部件有限公司
技术研发日:2020.10.30
技术公布日:2021.08.10
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