一种高分子滤波器内腔完全反应装置的制作方法

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，特别是涉及一种高分子滤波器内腔完全反应装置。

背景技术：

真空镀膜利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积，采用真空蒸镀时，不易控制镀层厚度，导致产品质量下降。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种高分子滤波器内腔完全反应装置，旨在解决现有技术中真空蒸镀时，不易控制镀层厚度，导致产品质量下降的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种高分子滤波器内腔完全反应装置，包括箱体、加热板、支撑架、导气管、气缸、推杆和活动组件，所述加热板与所述箱体固定连接，并位于所述箱体的内底壁，所述支撑架与所述箱体固定连接，并位于所述加热板的上方，所述导气管与所述箱体固定连接，并位于所述支撑架的上方，所述气缸与所述箱体固定连接，并位于所述箱体的上方，所述推杆与所述气缸活动连接，并位于所述气缸的侧面，所述活动组件包括电机、齿轮、齿条和连接架，所述电机与所述推杆固定连接，并位于所述气缸的侧面，所述齿轮与所述电机活动连接，并位于所述电机的侧面，所述齿条与所述齿轮啮合连接，并位于所述齿轮的下方，所述连接架与所述齿条固定连接，并位于所述齿条的下方。

其中，所述箱体的顶端设置有活动口。

其中，所述活动组件还包括活动板，所述活动板与所述齿条固定连接，并位于所述齿条的下方。

其中，所述连接架包括连接杆和夹持板，所述连接杆与所述齿条固定连接，并位于所述齿条的下方，所述夹持板与所述连接杆固定连接，并位于所述连接杆的下方。

其中，所述高分子滤波器内腔完全反应装置还包括真空泵，所述真空泵与所述箱体固定连接，并位于所述箱体的侧面。

其中，所述高分子滤波器内腔完全反应装置还包括侧盖，所述侧盖与所述箱体活动连接，并位于所述箱体的侧面。

本实用新型的有益效果体现在：通过操作人员在运用真空镀膜技术时，将金属、合金或化合物放置在所述支撑架上，并将被涂覆的物体固定在所述连接架上，准备工作做好后打开所述高分子滤波器内腔完全反应装置的开关，所述加热板开始加热，加热到一定高温时，金属、合金或化合物升华为气体，所述导气管的下端可以将金属、合金或化合物覆盖，这样气体就可以全部集中在所述导气管的下端并从所述导气管的上端来到被涂覆的物体的固定处，此时所述气缸运行，所述气缸的输出端驱动所述推杆前后移动，所述推杆移动前，被涂覆的物体靠近所述导气管的上端的表面覆盖气体，所述推杆移动后，被涂覆的物体前后移动，使得被涂覆的物体大面积覆盖气体，所述气缸运行的同时，所述电机运行，所述电机的输出端驱动所述齿轮转动，所述齿轮转动前，被涂覆的物体靠近所述导气管的上端的表面覆盖气体，所述齿轮转动后，被涂覆的物体左右移动，使得被涂覆的物体大面积覆盖气体，所述气缸与所述电机配合，使得被涂覆的物体在覆盖气体的过程中，覆盖面积和覆盖厚度都比较均匀，待气体凝结成固态薄膜后，操作人员关闭所述高分子滤波器内腔完全反应装置的开关，取出固态薄膜，实现了避免真空蒸镀时，不易控制镀层厚度，导致产品质量下降。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一种高分子滤波器内腔完全反应装置的内部结构示意图。

图2是本实用新型一种高分子滤波器内腔完全反应装置的结构示意图。

图3是本实用新型一种高分子滤波器内腔完全反应装置的左视图。

100-高分子滤波器内腔完全反应装置、1-箱体、2-加热板、3-支撑架、4-导气管、5-气缸、6-推杆、7-活动组件、8-真空泵、9-侧盖、10-活动口、11-电机、12-齿轮、13-齿条、14-连接架、15-活动板、16-连接杆、17-夹持板。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请参阅图1至图3，本实用新型提供一种技术方案：一种高分子滤波器内腔完全反应装置100，包括箱体1、加热板2、支撑架3、导气管4、气缸5、推杆6和活动组件7，所述加热板2与所述箱体1固定连接，并位于所述箱体1的内底壁，所述支撑架3与所述箱体1固定连接，并位于所述加热板2的上方，所述导气管4与所述箱体1固定连接，并位于所述支撑架3的上方，所述气缸5与所述箱体1固定连接，并位于所述箱体1的上方，所述推杆6与所述气缸5活动连接，并位于所述气缸5的侧面，所述活动组件7包括电机11、齿轮12、齿条13和连接架14，所述电机11与所述推杆6固定连接，并位于所述气缸5的侧面，所述齿轮12与所述电机11活动连接，并位于所述电机11的侧面，所述齿条13与所述齿轮12啮合连接，并位于所述齿轮12的下方，所述连接架14与所述齿条13固定连接，并位于所述齿条13的下方。

在本实施方式中，操作人员在运用真空镀膜技术时，将金属、合金或化合物放置在所述支撑架3上，并将被涂覆的物体固定在所述连接架14上，准备工作做好后打开所述高分子滤波器内腔完全反应装置100的开关，所述加热板2开始加热，加热到一定高温时，金属、合金或化合物升华为气体，所述导气管4的下端可以将金属、合金或化合物覆盖，这样气体就可以全部集中在所述导气管4的下端并从所述导气管4的上端来到被涂覆的物体的固定处，此时所述气缸5运行，所述气缸5的输出端驱动所述推杆6前后移动，所述推杆6移动前，被涂覆的物体靠近所述导气管4的上端的表面覆盖气体，所述推杆6移动后，被涂覆的物体前后移动，使得被涂覆的物体大面积覆盖气体，所述气缸5运行的同时，所述电机11运行，所述电机11的输出端驱动所述齿轮12转动，所述齿轮12转动前，被涂覆的物体靠近所述导气管4的上端的表面覆盖气体，所述齿轮12转动后，被涂覆的物体左右移动，使得被涂覆的物体大面积覆盖气体，所述气缸5与所述电机11配合，使得被涂覆的物体在覆盖气体的过程中，覆盖面积和覆盖厚度都比较均匀，待气体凝结成固态薄膜后，操作人员关闭所述高分子滤波器内腔完全反应装置100的开关，取出固态薄膜，实现了避免真空蒸镀时，不易控制镀层厚度，导致产品质量下降。

进一步的，所述箱体1的顶端设置有活动口10。

在本实施方式中，在所述气缸5与所述电机11运行中，所述连接架14在前后左右移动，所述连接架14能在所述活动口10的口径大小的范围进行移动，使得所述气缸5与所述电机11的配合，让气体的覆盖面积和覆盖厚度更加均匀。

进一步的，所述活动组件7还包括活动板15，所述活动板15与所述齿条13固定连接，并位于所述齿条13的下方。

在本实施方式中，在所述气缸5与所述电机11运行中，所述活动板15被带动移动，所述活动板15始终覆盖所述活动口10，避免了在所述高分子滤波器内腔完全反应装置100操作过程中有空气跑进去。

进一步的，所述连接架14包括连接杆16和夹持板17，所述连接杆16与所述齿条13固定连接，并位于所述齿条13的下方，所述夹持板17与所述连接杆16固定连接，并位于所述连接杆16的下方。

在本实施方式中，操作人员在运用真空镀膜技术时，需要将被涂覆的物体固定在所述夹持板17上，所述连接杆16在所述气缸5与所述电机11运行中前后左右移动，在移动的过程中，被涂覆的物体不会出现相对所述夹持板17移位的情况。

进一步的，所述高分子滤波器内腔完全反应装置100还包括真空泵8，所述真空泵8与所述箱体1固定连接，并位于所述箱体1的侧面。

在本实施方式中，操作人员在运用真空镀膜技术时，需要保证镀膜空间为真空，当操作人员打开所述高分子滤波器内腔完全反应装置100的开关时，所述真空泵8最先开始运行，使得镀膜空间为真空，保证了真空镀膜技术的使用条件和效率。

进一步的，所述高分子滤波器内腔完全反应装置100还包括侧盖9，所述侧盖9与所述箱体1活动连接，并位于所述箱体1的侧面。

在本实施方式中，所述侧盖9的一侧连接箱体1，所述侧盖9上有把手，操作人员打开所述侧盖9，将将金属、合金或化合物放置在所述支撑架3上，并将被涂覆的物体固定在所述连接架14上后关闭所述侧盖9，确保在所述高分子滤波器内腔完全反应装置100操作过程中不会有空气跑进去，待气体凝结成固态薄膜后，操作人员关闭所述高分子滤波器内腔完全反应装置100的开关，打开所述侧盖9，取出固态薄膜。

以上所揭露的仅为本实用新型一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属于实用新型所涵盖的范围。