一种封闭式挡板结构的制作方法

1.本发明涉及真空镀膜工艺及设备制造技术领域，尤其涉及一种封闭式挡板结构。


背景技术：

2.电子枪镀膜工艺在镀膜之前一般都有膜料预熔程序。熔料过程中，虽然有挡板遮挡蒸发源，但现有的电子枪镀膜机所配的挡板都仅仅遮挡了坩埚的上方，四周仍然会有一些膜料气体粒子运动出来，或者膜料粒子通过与挡板或衬板碰撞反射出来，污染周边的部件，还有可能经过碰撞或反射污染工件架上的待镀基片。
3.因此，需要设计一种挡板将电子束焦斑位置的四周完全封闭，以解决上述问题。


技术实现要素：

4.本发明提供一种封闭式的挡板结构。该挡板结构能够在膜料预熔时将电子束焦斑位置的四周空间完全封闭，避免坩埚周边的严重脏污和基片被污染，且在挡板上设有观察筒，可实时观测电子枪焦斑处膜料的状况。
5.本发明提供的封闭式的挡板结构，包括挡板、观察筒、支撑架和驱动机构，所述挡板为一底端开口顶端密闭的筒形结构，所述挡板的侧壁上设有一开孔，所述开孔连接所述观察筒一端，所述观察筒固定于所述支撑架上，所述驱动机构的动力输出端连接至所述支撑架上，驱动所述支撑架升降和转动。
6.进一步地，所述开孔的大小与所述观察筒的内截面大小形状相同，所述观察筒与所述挡板在所述开孔处焊接连接。
7.进一步地，所述支撑架为三角形，所述观察筒固定在所述支撑架三角形斜边上，所述观察筒另一端指向镀膜机观察窗。
8.进一步地，所述驱动机构包括：伸缩驱动器、连接板和旋转驱动器，所述伸缩驱动器固定于真空室的底板上，其动力输出端连接至所述连接板上，所述旋转驱动器固定于所述连接板上。
9.进一步地，所述旋转驱动器的动力输出端穿过所述连接板和真空室的底板与所述支撑架相连接。
10.进一步地，所述伸缩驱动器为一伸缩电机或伸缩气缸，所述旋转驱动器为一旋转电机或旋转气缸。所述伸缩驱动器和所述旋转驱动器均与镀膜机控制系统通信连接。
11.进一步地，所述旋转驱动器的动力输出端与真空室的底板间设有一动密封件，所述动密封件为油封或磁流体密封件。
12.进一步地，还包括衬板和围筒，所述衬板固定在真空室的底板上且设有挖孔，所述挖孔位于电子枪阳极孔到电子束焦斑位置的区域上方；所述围筒固定于所述挖孔一周，罩住所述挖孔。
13.本发明的技术方案是：当需要熔料时，通过驱动机构将所述挡板降下扣在所述围筒上，所述挡板和所述围筒及所述衬板共同将电子束焦斑位置的周围完全封闭。当需要镀
膜时可打开所述挡板，即通过驱动机构将所述挡板升起并旋转一定的角度离开坩埚上方。
14.采用上述方案，本发明的封闭式的挡板结构具有以下有益效果：
15.本发明的封闭式挡板结构代替现有的挡板结构，可对电子束焦斑位置进行全封闭遮挡，避免熔料时膜料粒子从坩埚四周空隙运动出来污染周边部件及待镀基片。
附图说明
16.图1为本发明的封闭式挡板结构的示意图。
17.图2为本发明的封闭式挡板结构的俯视图(其中衬板透视)。
18.图3为本发明的封闭式的挡板结构初始位置的侧面示意图。
19.图4为本发明的封闭式的挡板结构中间位置的侧面示意图。
20.图5为本发明的封闭式的挡板结构遮挡位置的侧面示意图。
21.附图中的附图标记如下：
22.10
‑
挡板
ꢀꢀꢀꢀꢀ
20
‑
观察筒
ꢀꢀꢀ
21
‑
镀膜机观察窗
ꢀꢀꢀꢀꢀ
30
‑
支撑架
23.40
‑
驱动机构
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
41
‑
伸缩驱动器
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
42
‑
连接板
24.43
‑
旋转驱动器
ꢀꢀꢀꢀ
60
‑
电子束焦斑位置
ꢀꢀ
80
‑
真空室
25.90
‑
动密封件
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
100
‑
衬板
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
101
‑
挖孔
ꢀꢀꢀꢀꢀ
102
‑
围筒
26.200
‑
坩埚
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
300
‑
电子枪
ꢀꢀꢀꢀ
301
‑
电子枪阳极孔
具体实施方式
27.以下结合附图和具体实施例，对本实施例进行详细说明。
28.请参阅图1
‑
2，本发明提供一种封闭式的挡板结构，其包括挡板10、观察筒20、支撑架30和驱动机构40，本实施例所述挡板10为一底端开口顶端密闭的圆筒形结构，其落下时开口罩在所述围筒102上，顶面与围筒上端口严密接触，则挡板10与围筒102及衬板100将电子束焦斑位置完全封闭，周围再无缝隙，膜料粒子也就无法从周边运动出来。
29.所述挡板10的侧壁上设有一开口11，所述开口11与所述观察筒20一端焊接，所述观察筒20固定在所述支撑架30三角形斜边上，使所述观察筒20与水平线成一角度，恰使所述观察筒20指向镀膜机观察窗21，从而操作者自镀膜机观察窗21通过所述观察筒20能观察到电子束焦斑位置60上膜料的状况，并随时做出偏转磁场参数和坩埚位置的调整。
30.所述驱动机构40的动力输出端连接至所述支撑架30上，驱动所述支撑架30升降和转动。所述驱动机构40包括：伸缩驱动器41、连接板42和旋转驱动器43。本实施例中所述伸缩驱动器41为一伸缩气缸，所述旋转驱动器43为一旋转气缸。所述伸缩驱动器41固定在真空室底板下表面，其动力输出端连接至所述连接板42带动所述连接板42上下运动。所述旋转驱动器43固定于所述连接板42上，所述连接板42和真空室底板各有一开孔，所述旋转驱动器43的动力输出端44，作为整个驱动机构40的动力输出端穿过所述连接板42的开孔和真空室底板的开孔与真空室内所述支撑架30连接。在真空室底板的开孔处，所述动力输出端44与真空室底板用动密封件90密封，本实施例中所述动密封件90为一对油封。
31.优选的，本实施例的封闭式挡板结构还包括：衬板100、围筒102。所述衬板100固定在真空室的底板上且设有挖孔101，所述挖孔101位于电子枪阳极孔到电子束焦斑位置的区域上方。所述围筒102固定于所述挖孔101一周，罩住所述挖孔101。本实施例所述衬板100为
不锈钢材质，其也可以为耐热的其他材质。其挖孔101为圆形，如图2所示。所述围筒102为不锈钢圆筒，其也可以为耐热的其他材质，其端口直径大于所述挖孔101的直径，小于所述挡板10的底端直径，所述围筒102底端焊接在所述衬板100上。所述挖孔101位于电子枪阳极孔301到电子束焦斑60位置的区域上方。
32.利用本发明的封闭式挡板进行镀膜操作的步骤如下：
33.步骤1、熔料：
34.当坩埚在填装膜料时，所述挡板10处于打开的初始位置，如图3所示，装料结束后，镀膜机控制装置发出指令，控制所述旋转驱动器43运行，带动所述支撑架30右旋90度，从而将挡板10转至围筒102上方的中间位置，如图4所示。控制装置再次发出指令，控制所述伸缩驱动器41运行，带动所述支撑架30向下运动，从而使所述挡板10下降直至其顶面接触所述围筒102上端口，此时如图5所示，所述挡板10到达遮挡位置，将衬板挖孔101露出的电子束焦斑位置60完全遮挡，当真空室的真空度达到要求时，电子枪300启动，开始熔料操作。
35.步骤2、镀膜
36.熔料结束后，镀膜机控制装置控制所述伸缩驱动器41使所述挡板10上升，再次到达图4的中间位置，控制装置再控制所述旋转驱动器43使所述挡板10转动至图3的初始位置，电子枪启动，开始对工件进行镀膜操作。
37.值得一提的是，当镀膜机有2个电子枪时，一个电子枪熔料可防止另一个电子枪坩埚内的膜料被污染。
38.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”等指示方位为基于本发明附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
39.综上所述，本发明提供一种封闭式的电子枪挡板结构，该挡板结构能够在膜料预熔时将蒸发源完全封闭，避免了坩埚周边的严重脏污和基片被污染的情况发生，且本挡板结构上还设有观察筒，可实时对膜料的预熔情况进行观察。本发明的挡板结构用于具有双电子枪的镀膜装置上时，还可以防止两个坩埚膜料的相互污染。本发明设计简便，易于实现，却解决了现有技术中挡板辅助装置在膜料预熔时污染严重的问题，具有较大的应用市场，值得大力推广使用。
40.以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。