一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置的制作方法

一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置
技术领域
1.本发明涉及ag玻璃加工技术领域，具体地说是一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置。


背景技术：

2.随着国民经济的持续稳定增长和社会发展进程的日益加快，商用中大显示屏市场需求日益增加，被广泛应用于教育、多媒体、广告、会议等行业。ag玻璃，又叫抗反射玻璃和防眩光玻璃，英文名为anti-glare glass，是对玻璃表面进行特殊加工的一种玻璃。其特点是使原玻璃反光表面变为哑光无反射表面(表面凹凸不平)。其原理是把优质玻璃片的双面或单面经过特殊加工处理。使其与普通玻璃相比较具有较低的反射比，光的反射率由8％降低到1％以下，用技术创造出清晰透明的视觉效果，让观赏者能体验到更佳的感官视觉。
3.对anti-glare(ag)玻璃而言，除可以降低环境光的干扰、提高显示画面的可视角度和亮度、减少屏幕反光外，还能让图像更清晰、色彩更艳丽、颜色更饱和，达到改善显示效果，以及通过调整表面粗糙度来增加书写感。因此，这种工艺就被业界广泛运用于盖板领域，目前市场上现有的防眩盖板技术主要通过采用化学蚀刻ag、喷涂ag等方式实现。
4.目前，显示屏多配备有摄像头，因此需要对ag玻璃的磨砂面磨出一个圆点，以使得摄像头能够透过ag玻璃，现有技术多采用人工作业，加工效率低，生产成本高，且废品率高。
5.因此，提供一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置，以解决现有技术中所存在的问题，对其应用推广具有重要意义。


技术实现要素：

6.有鉴于此，本技术的目的在于提供一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置，以提高ag玻璃透点的研磨效率，提高研磨精度，提高成品率，降低生产成本。
7.为了达到上述目的，本技术提供如下技术方案。
8.一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置，包括研磨机构、位移机构、定位机构，所述研磨机构和定位机构均设置在位移机构上，位移机构带动研磨机构和定位机构实现位移移动，定位机构设置在研磨机构的一侧；
9.所述研磨机构包括研磨头、研磨电机、旋转座，研磨头固定在旋转座下方，研磨电机带动旋转座旋转。
10.优选地，所述研磨机构还包括研磨筒，研磨筒用于承装研磨液，研磨筒下方设置有通孔，研磨头穿过通孔与待研磨ag玻璃接触。
11.优选地，所述研磨筒外侧设置有连接板，连接板上设置有连杆，连杆上方通过连接架固定在位移机构上；
12.连接板下方设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附固定待研磨ag玻璃。
13.优选地，所述研磨机构还包括旋转组件，研磨头为倾斜设置，旋转组件能够带动研磨头和研磨电机同步旋转，实现研磨头研磨方位的旋转。
14.优选地，所述旋转组件包括旋转电机、外旋转架、内旋转架，旋转电机通过第一固定架固定在移动机构上，外旋转架与内旋转架固定连接，研磨头和研磨电机设置在内旋转架上，旋转电机带动外旋转架和内旋转架同步旋转，进而带动研磨头和研磨电机同步旋转。
15.优选地，所述位移机构包括x轴位移机构、y轴位移机构、z轴位移机构，x轴位移机构设置在y轴位移机构上，z轴位移机构设置在x轴位移机构上，x轴位移机构带动z轴位移机构实现x轴移动，y轴位移机构带动x轴位移机构和z轴位移机构同步实现y轴移动。
16.优选地，所述z轴位移机构包括第一z轴位移机构和第二z轴位移机构，所述研磨机构设置在第一z轴位移机构上，所述定位机构设置在第二z轴位移机构。
17.优选地，所述定位机构包括ccd相机、安装架、挡板，ccd相机实现ag玻璃和研磨点的监测定位作用；ccd相机通过安装架固定在第二z轴位移机构上，挡板设置在安装架靠近研磨机构的一侧。
18.优选地，该研磨装置还包括支撑机构，所述支撑机构包括支撑板、顶伸气缸、第二固定架，支撑板设置在顶伸气缸上方，顶伸气缸带动支撑板上下移动，顶伸气缸固定在固定架上。
19.优选地，所述第二固定架两端均设置有套筒，支撑板下方设置有与套筒相对应的支杆，以实现第二固定架对支撑板的支撑及支撑板上下移动的导向作用。
20.本发明所获得的有益技术效果：
21.1)本发明通过研磨机构、位移机构、定位机构，能够大大提高ag玻璃透点的研磨效率和研磨效果，同时，提高了研磨精度，提高了成品率，进而降低了生产加工成本；
22.2)本发明中研磨机构包括研磨头、研磨电机、旋转座、研磨筒，研磨筒内承装有研磨液，大大提高了研磨效果；研磨筒外侧设置有连接板，连接板下方设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附固定待研磨ag玻璃，研磨过程中有效避免了ag玻璃错位出现的研磨偏差，进而提高了研磨精度；
23.3)本发明中研磨头为倾斜设置，同时设置有旋转组件，旋转组件能够带动研磨头和研磨电机同步旋转，实现了研磨头研磨方位的旋转，能够实现多角度研磨作业，有效避免了研磨盲点，大大提高了研磨质量和成品率；
24.4)本发明中位移机构能够带动研磨机构实现xyz三轴方向的位移，通过ccd相机实现ag玻璃和研磨点的监测定位，通过机械化控制研磨头位移移动，大大缩短位置调整时间，提高了定位精度，从而提高了研磨效率和研磨精度。
25.上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
26.根据下文结合附图对本技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本技术的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据
这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
28.图1是本公开一种实施例中用于ag玻璃透点研磨的研磨装置的结构示意图；
29.图2是本公开一种实施例中研磨机构和第一z轴位移机构的结构示意图；
30.图3是附图2中a-a截面的剖视图；
31.图4是本公开一种实施例中定位机构和第二z轴位移机构的结构示意图；
32.图5是本公开一种实施例中支撑机构的结构示意图。
33.在以上附图中：110、研磨头；120、研磨电机；121、旋转轴；130、旋转座；140、研磨筒；141、连接板；142、连杆；143、连接架；144、真空吸嘴；150、旋转电机；151、第一固定架；160、外旋转架；170、内旋转架；171、卡槽；172、固定板；180、固定罩；181、第一固定杆；210、x轴位移机构；220、y轴位移机构；230、第一z轴位移机构；240、第二z轴位移机构；310、ccd相机；320、安装架；330、挡板；410、支撑板；420、顶伸气缸；430、第二固定架；440、支杆。
具体实施方式
34.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本技术的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本技术的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。
35.应该理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“本实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本技术的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一个实施例”或“本实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
36.此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。
37.本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，单独存在b，同时存在a和b三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，a/和b，可以表示：单独存在a，单独存在a和b两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。
38.本文中术语“至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b的至少一种，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。
39.还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。
40.如附图1-5所示，一种用于ag玻璃透点研磨的研磨装置，包括研磨机构、位移机构、
定位机构，所述研磨机构和定位机构均设置在位移机构上，位移机构带动研磨机构和定位机构实现位移移动，定位机构设置在研磨机构的一侧。
41.参见附图2和3，所述研磨机构包括研磨头110、研磨电机120、旋转座130，研磨头110固定在旋转座130下方，研磨电机120带动旋转座130旋转。
42.所述位移机构包括x轴位移机构210、y轴位移机构220、z轴位移机构，x轴位移机构210设置在y轴位移机构220上，z轴位移机构设置在x轴位移机构210上，x轴位移机构210带动z轴位移机构实现x轴移动，y轴位移机构220带动x轴位移机构210和z轴位移机构同步实现y轴移动。
43.所述z轴位移机构包括第一z轴位移机构230和第二z轴位移机构240，所述研磨机构设置在第一z轴位移机构230上，所述定位机构设置在第二z轴位移机构240。
44.所述研磨机构还包括研磨筒140，研磨筒140用于承装研磨液，研磨筒140下方设置有通孔，研磨头110穿过通孔与待研磨ag玻璃接触。
45.所述研磨筒140外侧设置有连接板141，连接板141上设置有连杆142，连杆142上方通过连接架143固定在位移机构上。
46.在一个实施例中，所述连接板141下方设置有真空吸嘴144，真空吸嘴144用于吸附固定待研磨ag玻璃。
47.进一步的，所述连杆142上方通过连接架143固定在x轴位移机构210，能够实现与研磨机构在x轴和y轴的同步移动。
48.所述研磨机构还包括旋转组件，研磨头110为倾斜设置，旋转组件能够带动研磨头110和研磨电机120同步旋转，实现研磨头110研磨方位的旋转。
49.所述旋转组件包括旋转电机150、外旋转架160、内旋转架170，旋转电机150通过第一固定架151固定在移动机构上，外旋转架160与内旋转架170固定连接，研磨头110和研磨电机120设置在内旋转架170上，旋转电机150带动外旋转架160和内旋转架170同步旋转，进而带动研磨头110和研磨电机120同步旋转。
50.进一步的，所述内旋转架170相对的两侧设置有卡槽171，研磨电机120下方设置有固定罩180，固定罩180两侧通过第一固定杆181与内旋转架170固定，能够实现研磨头110和研磨电机120与内旋转架170的相对角度倾斜，以保证研磨头110倾斜设置，第一固定杆181位于内旋转架170的外侧通过螺母锁紧。
51.进一步的，所述研磨电机120下方连接有旋转轴121，旋转轴121穿过固定罩180，且与固定罩180连接处设置有轴承，旋转轴121下方与旋转座130连接。
52.在一个实施例中，所述外旋转架160与内旋转架170的上方通过第二固定杆连接，外旋转架160与内旋转架170侧面通过固定板172连接，以实现外旋转架160与内旋转架170的同步稳定旋转。
53.在一个实施例中，参见附图4，所述定位机构包括ccd相机310、安装架320、挡板330，ccd相机310实现ag玻璃和研磨点的监测定位作用；ccd相机310通过安装架320固定在第二z轴位移机构240上，挡板330设置在安装架320靠近研磨机构的一侧，挡板330用于防止研磨液喷至ccd相机310上，影响ccd相机310正常工作。
54.进一步的，参见附图5，该研磨装置还包括支撑机构，所述支撑机构包括支撑板410、顶伸气缸420、第二固定架430，支撑板410设置在顶伸气缸420上方，顶伸气缸420带动
支撑板410上下移动，顶伸气缸420固定在固定架上，待研磨ag玻璃传输至预定位置时，顶伸气缸420带动支撑板410向上移动将其顶起。
55.所述第二固定架430两端均设置有套筒，支撑板410下方设置有与套筒相对应的支杆440，以实现第二固定架430对支撑板410的支撑及支撑板410上下移动的导向作用。
56.上述用于ag玻璃透点研磨的研磨装置的工作原理：根据待研磨ag玻璃的规格尺寸及透点研磨位置，位移机构的y轴位移机构220和x轴位移机构210调整研磨机构和定位机构在y轴和x轴方向的位置；待ag玻璃在传输机构上传输，定位机构的ccd相机310监测ag玻璃传输至预定位置时，支撑机构的顶伸气缸420带动支撑板410向上移动，将ag玻璃顶起，同时研磨筒140与ag玻璃接触，通过真空吸嘴144使得研磨筒140与ag玻璃连接；此时，第一z轴位移机构230带动研磨机构实现z轴方向的移动，以使得研磨头110与ag玻璃接触，研磨电机120通过旋转座130带动研磨头110旋转实现研磨作业，一定时间后，旋转电机150带动研磨头110和研磨电机120同步旋转，实现研磨头110研磨方位的旋转，研磨作业完成后，第一z轴位移机构230带动研磨机构实现z轴方向上的反向移动，支撑机构的顶伸气缸420带动支撑板410归位，ag玻璃在传输机构上继续传输，进入下道工序。
57.以上所述仅为本发明的优选实施例而已，其并非因此限制本发明的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化，例如，本技术中x轴位移机构210、y轴位移机构220、z轴位移机构可以为任意结构，均在本技术技术方案的保护范围内。凡在本发明的精神和原则之内，通过常规的替代或者能够实现相同的功能在不脱离本发明的原理和精神的情况下对这些实施例进行变化、修改、替换、整合和参数变更均落入本发明的保护范围内。