石墨舟及镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及太阳能电池制造领域，尤其涉及一种石墨舟及镀膜设备。


背景技术：

2.太阳能电池的制备过程中，采用等离子体增强化学气相沉积法将等离子体在硅片上沉积出薄膜，相关技术中，将硅片插入石墨舟内，石墨舟推入镀膜设备中，采用pecvd工艺对硅片进行镀膜，硅片一般通过卡点定位与石墨舟片上，在高温环境下或者在出舟时，硅片容易脱离卡点的束缚而掉落至反应腔内，导致工艺中断以及硅片报废，影响生产效率，并且需要定期维护清理碎片，后期维护较为困难。


技术实现要素：

3.本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种石墨舟，能够减少硅片的掉落，延长镀膜设备的维护周期。
4.本实用新型还提出一种具有上述石墨舟的镀膜设备。
5.根据本实用新型的第一方面实施例的石墨舟，包括：
6.石墨舟片，设置有多个，多个所述石墨舟片间隔设置，每一所述石墨舟片的侧面均设置有多个卡点，所述卡点用于定位硅片；
7.承接杆，沿所述石墨舟片的排列方向依次穿过每一所述石墨舟片，所述承接杆的高度低于位于最低处的所述卡点。
8.根据本实用新型实施例的石墨舟，至少具有如下有益效果：
9.本实用新型实施例中的石墨舟，通过设置位于卡点下方的承接杆，使承接杆承接脱离卡点束缚的硅片，避免硅片向炉管掉落，从而减少石墨舟内硅片的掉落数量，延长了石墨舟的维护周期，降低了后期清理难度。
10.根据本实用新型的一些实施例，所述石墨舟片具有多个镀膜孔，多个所述卡点围设于所述镀膜孔的外缘，以使所述硅片的侧面朝向所述镀膜孔。
11.根据本实用新型的一些实施例，所述镀膜孔呈矩形，所述镀膜孔朝向所述石墨舟片的一侧倾斜，所述镀膜孔的上侧内壁与所述石墨舟片的上侧表面之间的夹角为3-6度。
12.根据本实用新型的一些实施例，多个所述卡点位于所述镀膜孔的两侧与下方，且位于所述镀膜孔的下方以及位于所述镀膜孔倾斜侧的所述卡点设置有两个，位于同一侧的两个所述卡点的连线与相应侧的所述镀膜孔的孔壁平行。
13.根据本实用新型的一些实施例，还包括多个锁紧件，所述承接杆的两端分别延伸至最外侧的所述石墨舟片的外部，所述锁紧件锁紧于所述承接杆的端部。
14.根据本实用新型的一些实施例，所述承接杆的截面为圆形。
15.根据本实用新型的一些实施例，每一所述镀膜孔的下方至少设置有两个所述承接杆。
16.根据本实用新型的一些实施例，所述承接杆设置有多个，多个所述承接杆沿水平
方向间隔设置。
17.根据本实用新型的一些实施例，还包括连接杆，所述石墨舟片的端部具有连接孔，所述连接杆依次穿设于每一所述石墨舟片的所述连接孔。
18.根据本实用新型的第二方面实施例的镀膜设备，包括第一方面实施例的石墨舟。
19.根据本实用新型实施例的镀膜设备，至少具有如下有益效果：
20.本实用新型实施例中的镀膜设备通过采用上述的石墨舟，能够减少硅片的掉落数量，并延长石墨舟的后期维护周期。
21.本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
22.下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明，其中：
23.图1为本实用新型石墨舟一个实施例的侧视图；
24.图2为本实用新型石墨舟一个实施例的俯视图。
25.附图标记：石墨舟片100，镀膜孔110；卡点200；承接杆300；锁紧件400；连接杆500；支撑体600。
具体实施方式
26.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
27.在本实用新型的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
28.在本实用新型的描述中，若干的含义是一个以上，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
29.本实用新型的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。
30.本实用新型的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
31.参照图1与图2，本实用新型的实施例中提供了一种石墨舟，用于放置硅片，供硅片
进入镀膜设备内进行镀膜。石墨舟包括多个石墨舟片100，多个石墨舟片100间隔设置，相邻的石墨舟片100之间形成间隙，便于放置硅片，以及供镀膜气体进入相邻的石墨舟片100之间，进而沉积于硅片表面；每一个石墨舟片100的侧面均设置有多个卡点200，多个卡点200组合对硅片进行定位，使硅片放置于石墨舟片100上，并能够跟随石墨舟片100进出镀膜设备。由于卡点200对硅片的限位不牢，卡点200容易掉落，因此本实用新型中，设置有承接杆300来承接从卡点200上掉落的硅片，以避免硅片掉入反应腔内，增加清理难度；具体的，承接杆300的高度低于所有卡点200中最低处的卡点200，从而，脱离卡点200的硅片能够向下掉落至承接杆300上，并且承接杆300沿石墨舟片100的排列方向依次穿过每一个石墨舟片100，因此相邻石墨舟片100之间的硅片均能够受到承接杆300的承接作用，而不再继续向下掉落，使承接杆300兼顾沿石墨舟片100排列方向的每一个硅片，从而减少硅片的掉落。
32.因此，本实用新型实施例中的石墨舟，通过设置位于卡点200下方的承接杆300，使承接杆300承接脱离卡点200束缚的硅片，避免硅片向炉管掉落，从而减少石墨舟内硅片的掉落数量，延长了石墨舟的维护周期，降低了后期清理难度。
33.需要说明的是，在光伏行业，硅片的规格逐渐变大，且大硅片成为主流，由于硅片变大，硅片更易从卡点200脱离，本实施例中提供的石墨舟能够克服上述硅片掉落的问题，优化镀膜效果。
34.如图1与图2所示，沿石墨舟的长度方向，能够间隔排列多个硅片，承接杆300沿石墨舟的长度方向同样间隔设置有多个，以承接石墨舟长度方向上不同位置处的硅片。承接杆300的两端从最外侧的石墨舟片100外部伸出，石墨舟还包括多个锁紧件400，锁紧件400锁紧于每一承接杆300的端部，使承接杆300与石墨舟片100相对固定，提高承接杆300的连接稳定性。可以想到的是，每一石墨舟片100均应设置有供承接杆300进行穿设的通孔，承接杆300的两端设置有螺纹，锁紧件400可以选择为螺母，螺母与承接杆300螺接，将承接杆300与石墨舟片100锁紧。
35.另外，石墨舟还包括连接杆500，连接杆500用于连接固定石墨舟片100，石墨舟片100的端部设置有连接孔，连接杆500依次穿设于每一石墨舟片100的连接孔内，连接杆500的端部固定后，将多个石墨舟片100组装为石墨舟。同样的，连接杆500的端部可以螺纹，并通过向连接杆500的端部拧入螺母，将连接杆500与石墨舟片100锁紧；可以想到的是，每个石墨舟片100的两端均设置有连接孔，使石墨舟片100的两端均被连接杆500锁紧，保证石墨舟的结构稳定，并且石墨舟片100的每一端均可设置多个连接孔，从而连接杆500能够在不同位置将石墨舟片100的端部锁紧，进一步提高石墨舟片100与连接杆500连接的稳定性。
36.需要说明的是，石墨舟片100的边缘处同样设置有连接杆500，连接杆500沿石墨舟片100的边缘围设有一圈，以进一步提高石墨舟片100连接的稳定性。另外，连接杆500与承接杆300均可以选用抗腐蚀性强以及不易爆裂的陶瓷材质，以保证石墨舟的镀膜稳定性；为了提高连接杆500与承接杆300的结构强度，连接杆500与承接杆300可以设置为中心为石墨杆，外周包覆陶瓷套的结构形式，用于锁紧连接杆500和承接杆300的螺母可选择为石墨或者陶瓷材质。
37.为避免石墨舟片100晃动，造成硅片倾倒、掉落或者破碎，在一个实施例中，相邻的石墨舟片100之间设置有支撑体600，支撑体600的两端分别抵持相邻石墨舟片100相对的两个侧面，一方面使相邻的石墨舟片100之间具有一定间隙，另一方面，使石墨舟片100在排列
方向上被限位，避免由于石墨舟片100晃动导致硅片安装不稳。需要说明的是，支撑体600的一端可以与石墨舟片100一体连接，连接杆500的端部锁紧后，支撑体600的另一端抵持于相邻的石墨舟片100的侧面，使石墨舟片100在排列方向上形成稳定的结构体系。
38.在一个实施例中，石墨舟片100具有多个镀膜孔110，多个卡点200围设于镀膜孔110的外缘，硅片被安装于多个卡点200所围设的区域内，使硅片的侧面恰好朝向镀膜孔110；通过设置镀膜孔110，可以减小硅片与石墨舟片100的接触面积，一方面，避免石墨舟片100遮挡硅片，影响镀膜气体向硅片的沉积，另一方面，减少硅片与石墨舟片100接触过程中产生的污染问题，优化镀膜效果。多个镀膜孔110可以沿石墨舟片100的长度方向间隔设置，设置多个镀膜孔110可以增加石墨舟片100所承载的硅片数量，进而提高镀膜设备的镀膜效率。
39.镀膜孔110可以根据硅片的形状设置为与硅片轮廓类似的形状，以最大限度减小石墨舟片100对硅片镀膜的遮挡，在一个实施例中，镀膜孔110呈矩形，镀膜孔110朝向石墨舟片100的一侧倾斜，并且镀膜孔110的上侧内壁与石墨舟片100的上侧表面之间所呈的角度在3度到6度之间，硅片的形状与镀膜孔110的形状相对应，由于卡点200对硅片的定位，硅片以倾斜状放置于石墨舟片100上，在硅片放置于石墨舟片100时，由于卡点200的限位作用，能够有效防止硅片掉落。
40.另外，镀膜孔110的上侧内壁与石墨舟片100的夹角可以根据硅片的规格、石墨舟片100的规格合理选择，如，该夹角可选择为5度，一方面，能够充分利用石墨舟片100，避免倾斜角度过大，造成石墨舟片100的空间浪费，另一方面，使硅片能够以倾斜状态放置于石墨舟片100上，提高硅片在石墨舟内的稳定性。
41.进一步的，多个卡点200分别位于镀膜孔110的两侧以及下方，以使卡点200能够从底部以及侧部对硅片进行限位，镀膜孔110两侧及下方的多个卡点200可以组成三角形，以稳定托硅片，镀膜孔110的上方未设置卡点200，可供硅片从石墨舟片100的上方放置于石墨舟片100的侧部，连接杆500应位于镀膜孔110的外侧，便于硅片向石墨舟片100的放置。位于镀膜孔110下侧以及镀膜孔110倾斜侧的卡点200设置有两个，两个卡点200同时对硅片的其中一个侧面进行定位，并且两个卡点200的连线与镀膜孔110相应侧的孔壁平行，以使硅片的侧面能够与镀膜孔110的孔壁平行，增大硅片镀膜的有效区域，并且两个卡点200能够在不同位置对硅片进行定位，使硅片能够跟随石墨舟平稳移动至镀膜设备内。
42.如图1所示，镀膜孔110朝向石墨舟片100的右侧倾斜，镀膜孔110的右侧以及下侧设置有两个卡点200，并且右侧的卡点200位于左侧卡点200的上方，在石墨舟推入或者推出镀膜设备时，两侧的卡点200均能够向硅片提供限位作用，防止硅片晃动及掉落。
43.需要说明的是，承接杆300应靠近最下方的卡点200设置，以降低硅片掉落时，与承接杆300之间的冲击力，避免硅片因碰撞破碎。每一镀膜孔110的下方均设置有不少于两个的承接杆300，在硅片从卡点200处掉落时，多个承接杆300同时对硅片进行支撑，使硅片保持平衡，并在多个承接杆300的共同支撑作用下而停止掉落。本实用新型的一个实施例中，镀膜孔110的下方设置有两个承接杆300，两个承接杆300沿硅片的中心对称分布，设置两个承接杆300，一方面使硅片掉落时，两个能够保持平衡，另一方面，能够有效减少承接杆300的数量，以减少承接杆300对硅片的遮挡，使镀膜更为均匀。
44.进一步的，位于镀膜孔110下方的承接杆300沿水平方向间隔分布，使硅片掉落于
承接杆300上后能够保持水平，避免由于硅片倾斜而继续向下掉落。另外，承接杆300的截面设置为圆形，使承接杆300整体为长圆柱杆，圆柱形的承接杆300与硅片之间为点接触，从而有效降低了承接杆300与硅片之间的接触面积，减小了承接杆300对硅片遮挡的影响，进一步提高镀膜均匀度。
45.本实用新型还提供了一种镀膜设备，包括上述的石墨舟，石墨舟用于承载未镀膜的硅片，镀膜设备具有供石墨舟置入的镀膜腔，并通过pecvd工艺对硅片进行放电镀膜。通过采用上述的石墨舟，能够减少硅片的掉落数量，并延长石墨舟的后期维护周期。
46.上面结合附图对本实用新型实施例作了详细说明，但是本实用新型不限于上述实施例，在所属技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。此外，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例及实施例中的特征可以相互组合。