技术特征：
1.一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：包括位于真空热处理炉内的放置台(1)，所述放置台(1)的内部设置有第一冷却腔(2)和若干第二冷却腔(7)，若干所述第二冷却腔(7)位于第一冷却腔(2)的周边，所述放置台(1)的侧壁设置有与第一冷却腔(2)相连通的进水管(3)和出水管(4)，所述进水管(3)和出水管(4)上均设置有电磁阀(6)，所述进水管(3)和出水管(4)的另一端连通有水源(5)，所述放置台(1)的上表面开设有与对应第二冷却腔(7)连通的出气口(8)，所述第二冷却腔(7)内连通有冷气源(9)。2.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：所述第一冷却腔(2)内间隔设置有若干阻隔板(10)，多个阻隔板(10)在第一冷却腔(2)内形成冷却通道(11)，所述冷却通道(11)的一端与进水管(3)相连通，冷却通道(11)的另一端与出水管(4)相连通。3.根据权利要求2所述的一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：所述冷却通道(11)呈波浪形设置。4.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：所述水源(5)包括保温箱体(51)，所述箱体内设置有与所述进水管(3)相连通的水泵，所述出水管(4)与箱体相连通，所述保温箱体(51)的外侧壁设置有若干半导体制冷片(52)，所述半导体制冷片(52)的冷面朝向保温箱体(51)的内侧壁。5.根据权利要求4所述的一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：所述半导体制冷片(52)的热面设置有辅助散热片(53)。6.根据权利要求1所述的一种用于真空热处理的冷却系统，其特征在于：所述进水管(3)的外周壁均套设有保温层。
技术总结
本申请涉及一种用于真空热处理的冷却系统，属于热处理技术领域，其包括位于真空热处理炉内的放置台，所述放置台的内部设置有第一冷却腔和若干第二冷却腔，若干所述第二冷却腔位于第一冷却腔的周边，所述放置台的侧壁设置有与第一冷却腔相连通的进水管和出水管，所述进水管和出水管上均设置有电磁阀，所述进水管和出水管的另一端连通有水源，所述放置台的上表面开设有与对应第二冷却腔连通的出气口，所述第二冷却腔内连通有冷气源。本申请具有工件能够均匀进行热处理的效果。能够均匀进行热处理的效果。能够均匀进行热处理的效果。
技术研发人员：商启军
受保护的技术使用者：东莞市鸿晟达真空热处理有限公司
技术研发日：2021.12.01
技术公布日：2022/5/17