掩膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及显示屏加工技术领域，尤其涉及一种掩膜装置。


背景技术：

2.在显示面板的蒸镀工艺中，需要在玻璃基板上的待蒸镀区域蒸镀一层有机材料，而在非蒸镀区域不能沾染有机材料。因此，在蒸镀设备的内部，通常将玻璃基板放置于掩膜装置上，掩膜装置上通过掩膜条划分出蒸镀区域和遮蔽区域，掩膜装置上的蒸镀区域与玻璃基板上指定的待蒸镀区域对正，掩膜装置上的遮蔽区域与玻璃基板上的非蒸镀区域对正。
3.如图1所示，蒸镀设备内设置有传送带300
′
，箭头方向即为传送带300
′
的传送方向。多个掩膜装置100
′
沿传送带300
′
的传送方向间隔放置于传送带300
′
上，每个掩膜装置100
′
上均放置有一块玻璃基板200
′
，传送带300
′
带动其上的掩膜装置100
′
移动，掩膜装置100
′
移动时经过下方的蒸镀源400
′
，蒸镀源400
′
散发出有机物蒸汽，有机物蒸汽进而附着于玻璃基板200
′
上的待蒸镀区域上。
4.现有技术存在以下缺陷：如图1所示，相邻两个掩膜装置100
′
之间存在间隔，其目的是为了防止相邻两个掩膜装置100
′
发生碰撞，然而，传送带300
′
传送过程中，当间隔位置与下方的蒸镀源400
′
正对时，蒸镀源400
′
散发出的有机物蒸汽能够通过该间隔流动至掩膜装置100
′
上方，并附着于蒸镀设备的顶壁以及其他部件上，造成污染。而且，现有技术中，掩膜装置100
′
之间一旦发生碰撞，很可能造成上方玻璃基板200
′
的移位，进而导致其上的待蒸镀区域被掩膜条遮盖，无法在玻璃基板200
′
的预设位置形成蒸镀层，致使玻璃基板200
′
报废，降低了良品率。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于：提供一种掩膜装置，其能够避免蒸镀源散发的有机物蒸汽污染蒸镀设备的顶壁以及其他部件，且能防止碰撞造成玻璃基板移位。
6.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
7.提供一种掩膜装置，包括：
8.掩膜框架，用于放置待蒸镀的玻璃基板；
9.前遮挡组件，沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的前端面；
10.后遮挡组件，沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的后端面；
11.所述前遮挡组件和所述后遮挡组件沿竖直方向间隔设置，且所述前遮挡组件和所述后遮挡组件上下交错，所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均包括遮挡板和缓冲件，所述遮挡板连接于所述掩膜框架，所述缓冲件设置于所述遮挡板上，用于缓冲相邻两个掩膜装置碰撞时的冲击力。
12.作为掩膜装置的一种优选方案，所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均沿竖直方向间隔设置有多个，多个所述前遮挡组件和多个所述后遮挡组件沿竖直方向交替且间隔设
置。
13.作为掩膜装置的一种优选方案，所述缓冲件包括套筒和缓冲杆，所述套筒设置于所述遮挡板远离所述掩膜框架的一端，所述缓冲杆水平设置，并可伸缩地穿设于所述套筒内。
14.作为掩膜装置的一种优选方案，所述缓冲杆伸出所述套筒的一端设置有弹性触头。
15.作为掩膜装置的一种优选方案，所述遮挡板包括第一板和第二板，所述第一板连接于所述掩膜框架，所述第一板上设置有容纳腔，所述容纳腔的腔口位于所述第一板背向所述掩膜框架的一端面，所述第二板的一端伸入所述容纳腔中，并在所述容纳腔内的位置可调，所述缓冲件设置于所述第二板伸出所述容纳腔的一端。
16.作为掩膜装置的一种优选方案，还包括紧固件，所述紧固件穿过所述第一板的侧壁，并伸入所述容纳腔中，以顶紧于所述第二板上。
17.作为掩膜装置的一种优选方案，所述紧固件为螺栓，所述第一板的底面设置有螺纹孔，所述螺栓旋入所述螺纹孔中。
18.作为掩膜装置的一种优选方案，所述遮挡板包括第三板和第四板，所述第三板连接于所述掩膜框架，所述第三板上开设有导向槽，所述导向槽的槽口位于所述第三板背向所述掩膜框架的一端面，所述第四板的一端可滑动地设置于所述导向槽中，并通过所述缓冲件与所述导向槽的底壁连接。
19.作为掩膜装置的一种优选方案，所述缓冲件为弹簧。
20.作为掩膜装置的一种优选方案，所述第四板伸出所述导向槽的一端设置有弹性垫层。
21.本实用新型的有益效果为：通过在掩膜框架的前端设置前遮挡组件，后端设置后遮挡组件，在蒸镀设备的传送带上可使相邻两个掩膜框架之间的前遮挡组件和后遮挡组件在竖直方向上交错且间隔设置，在保证两个掩膜装置之间具有安全距离的同时，又能够遮挡蒸镀源散发的有机物蒸汽，避免有机物蒸汽散发至掩膜装置的上方造成污染，另外，即使相邻两个掩膜装置之间发生了碰撞，二者上设置的缓冲件可以缓冲碰撞时的冲击力，避免掩膜装置上的玻璃基板移位。
附图说明
22.下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。
23.图1为现有技术中掩膜装置的工作示意图。
24.图2为本实用新型实施例一提供的掩膜装置的工作示意图。
25.图3为本实用新型实施例一提供的掩膜装置的结构示意图。
26.图4为图3中a处的局部放大图。
27.图5为本实用新型实施例一提供的遮挡板和缓冲件的结构示意图。
28.图6为本实用新型提供的多个前遮挡组件和多个后遮挡组件的配合示意图。
29.图7为本实用新型实施例二提供的掩膜装置的结构示意图。
30.图8为本实用新型实施例二提供的遮挡板和缓冲件的结构示意图。
31.图1中：
32.100
′
、掩膜装置；200
′
、玻璃基板；300
′
、传送带；400
′
、蒸镀源。
33.图2至图8中：
34.100、掩膜装置；1、掩膜框架；2、前遮挡组件；21、遮挡板；211、第一板；2111、容纳腔；212、第二板；213、第三板；2131、导向槽；214、第四板；2141、弹性垫层；22、缓冲件；221、套筒；222、缓冲杆；223、弹性触头；3、后遮挡组件；4、紧固件；
35.200、玻璃基板；
36.300、传送带；
37.400、蒸镀源。
具体实施方式
38.参考下面结合附图详细描述的实施例，本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本实用新型不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围，并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
39.以下，参照附图来详细描述本实用新型。
40.实施例一
41.现有技术中，为防止传送带300上的掩膜装置100之间发生碰撞，相邻两个掩膜装置100之间存在间隔。然而，传送带300传送过程中，当间隔位置与下方的蒸镀源400正对时，蒸镀源400散发出的有机物蒸汽能够通过该间隔流动至掩膜装置100上方，并附着于蒸镀设备的顶壁以及其他部件上，造成污染。而且，现有技术中，掩膜装置100之间一旦发生碰撞，很可能造成上方玻璃基板200的移位，进而导致其上的待蒸镀区域被掩膜条遮盖，无法在玻璃基板200的预设位置形成蒸镀层，致使玻璃基板200报废，降低了良品率。
42.如图2和图3所示，本实施例提供一种掩膜装置100，包括掩膜框架1，该掩膜框架1沿其移动方向的前端面设置有前遮挡组件2，后端面设置有后遮挡组件3。
43.掩膜框架1上放置有待蒸镀的玻璃基板200，以在传送带300上带动待蒸镀的玻璃基板200同步移动，图2中箭头方向即为掩膜框架1的移动方向。待移动至蒸镀源400位置时，蒸镀源400散发出的有机物蒸汽即可附着于玻璃基板200的待蒸镀区域，形成蒸镀层。掩膜框架1上的前遮挡组件2和后遮挡组件3沿竖直方向交错且间隔设置。前遮挡组件2和后遮挡组件3均包括遮挡板21和缓冲件22，遮挡板21连接于掩膜框架1，缓冲件22设置于遮挡板21上，用于缓冲相邻两个掩膜装置100碰撞时的冲击力。
44.通过在掩膜框架1的前端设置前遮挡组件2，后端设置后遮挡组件3，在蒸镀设备的传送带300上可使相邻两个掩膜框架1之间的前遮挡组件2和后遮挡组件3在竖直方向上交错且间隔设置，即图2中所示的状态，前遮挡组件2和后遮挡组件3在竖直方向上交错，在保证两个掩膜装置100之间具有安全距离的同时，又能够遮挡蒸镀源400散发的有机物蒸汽，避免有机物蒸汽散发至掩膜装置100的上方而污染蒸镀设备的顶壁以及掩膜装置100上方的部件。另外，即使相邻两个掩膜装置100之间发生了碰撞，二者上设置的缓冲件22可以缓冲碰撞时的冲击力，避免冲击力传递至玻璃基板200上而致使玻璃基板200相对掩膜框架1移位。
45.如图3所示，本实施例中，缓冲件22设置于遮挡板21远离掩膜框架1的一端。当相邻两个掩膜装置100发生碰撞时，缓冲件22首先与相邻的掩膜装置100碰撞接触，以吸收碰撞时的振动，缓和碰撞产生的冲击。
46.如图4所示，可选地，缓冲件22包括套筒221和缓冲杆222。套筒221固定设置于遮挡板21远离掩膜框架1的一端，且套筒221的轴线水平，并与掩膜框架1的移动方向一致。缓冲杆222水平设置，并可伸缩地穿设于套筒221内。当发生碰撞时，缓冲杆222首先与相邻的掩膜装置100碰撞接触，缓冲杆222在碰撞冲击力作用下缩回至套筒221内，从而吸收碰撞产生的冲击力，防止冲击力传递至上方的玻璃基板200上。待冲击力吸收完成后，缓冲杆222自动伸出套筒221，并恢复原位。
47.本实施例中，可选地，缓冲件22为缓冲油缸。套筒221即为缓冲油缸的缸体，缓冲杆222即为缓冲油缸的伸缩杆。
48.如图4所示，缓冲杆222伸出套筒221的一端设置有弹性触头223，弹性触头223受撞时压缩变形。当发生碰撞时，弹性触头223能够与相邻的掩膜装置100接触而压缩变形，由于其具有弹性，能够防止刮伤被碰撞的掩膜框架1，避免掩膜框架1上产生碰撞凹痕。
49.可选地，参照图2中的方位，遮挡板21沿左右方向的长度可调，从而可以根据传送带300的速度等实际工艺要求调整前遮挡组件2和后遮挡组件3的整体长度，提高灵活性和实用性。
50.如图3和图5所示，可选地，遮挡板21包括第一板211和第二板212。第一板211连接于掩膜框架1上。前遮挡组件2的第一板211和后遮挡组件3的第一板211向相反的方向延伸。第一板211上设置有容纳腔2111，且容纳腔2111的腔口位于第一板211背向掩膜框架1的一端面。第二板212的一端伸入容纳腔2111中，另一端从容纳腔2111的腔口伸出。第二板212伸入容纳腔2111内的一端在容纳腔2111内的位置可调，以调节整个遮挡板21在左右方向上的长度。实际调整时，将第二板212从容纳腔2111中拉出或者将第二板212向容纳腔2111中推进即可调整遮挡板21的长度。
51.可选地，第二板212相对第一板211的位置调整完成后，通过紧固件4锁紧第一板211和第二板212。紧固件4穿过第一板211的侧壁并伸入容纳腔2111内，以顶紧位于容纳腔2111内的第二板212。本实施例中，如图5所示，紧固件4穿过第一板211的底面并顶紧于第二板212上，以固定第二板212相对第一板211的位置，防止调整完成后的第二板212相对第一板211移动。当然，在其他实施例中，紧固件4也可以穿过第一板211的顶面，并伸入容纳腔2111内，以顶紧于第二板212上，同样可以实现第二板212相对第一板211的位置固定。
52.示例性地，紧固件4可为螺栓，第一板211的底面设置有螺纹孔，螺栓旋入螺纹孔中，并顶紧于第二板212上。
53.如图5所示，缓冲件22设置于第二板212伸出容纳腔2111的一端。具体地，缓冲件22的套筒221固定设置于第二板212背向掩膜框架1的一端面。如图3所示，前遮挡组件2的第二板212上、以及后遮挡组件3的第二板212上均设置有多个缓冲件22，以充分吸收碰撞时产生的冲击力。示例性地，在每个第二板212上均设置四个缓冲件22。
54.可选地，前遮挡组件2和后遮挡组件3均沿竖直方向间隔设置有多个，多个前遮挡组件2和多个后遮挡组件3沿竖直方向依次交替且间隔设置。在传送带300上传送时，相邻两个掩膜框架1之间的前遮挡组件2和后遮挡组件3依次交替且间隔设置，以增加遮挡严密度，
有效防止有机物蒸汽通过相邻两掩膜装置100的间隔散发至掩膜装置100的上方。如图6所示，左侧掩膜框架1的前端设置有两个前遮挡组件2，右侧掩膜框架1的后端设置有两个后遮挡组件3，两个前遮挡组件2和两个后遮挡组件3依次交替且间隔设置，在保证两个掩膜框架1之间具有安全距离的同时，提高遮挡有机物蒸汽的可靠性。
55.实施例二
56.如图7和图8所示，本实施例提供一种掩膜装置100，其与实施例一的区别在于：
57.本实施例中，可选地，参见图7，遮挡板21包括第三板213和第四板214。第三板213连接于掩膜框架1。参见图8，第三板213上开设有导向槽2131，且导向槽2131的槽口位于第三板213背向掩膜框架1的一端面。第四板214的一端伸入导向槽2131中，另一端从导向槽2131的槽口伸出。第四板214伸入导向槽2131内的一端能够在导向槽2131内滑动。缓冲件22设置于导向槽2131内部，其一端与导向槽2131的底壁连接，另一端与第四板214连接。缓冲件22优选为弹簧。当相邻两个掩膜装置100发生碰撞时，第四板214首先与相邻的掩膜装置100碰撞接触，受到碰撞后的第四板214回缩至第三板213的导向槽2131中，弹簧进而在碰撞力作用下压缩变形，以吸收碰撞时的振动，缓和碰撞产生的冲击。
58.进一步地，如图7和图8所示，第四板214伸出导向槽2131的一端设置有弹性垫层2141，弹性垫层2141受撞时压缩变形。当发生碰撞时，弹性垫层2141能够与相邻的掩膜装置100接触而压缩变形，由于其具有弹性，能够防止刮伤被碰撞的掩膜框架1，避免掩膜框架1上产生碰撞痕迹。
59.尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例，但是本实用新型不限于以上实施例，而是可以以各种形式制造，并且本领域技术人员将理解，在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下，可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此，应该理解，上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。