预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘的制作方法

文档序号:3392998阅读:282来源:国知局
专利名称:预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种显像管和大型光学仪器抛光材料,特别是一种预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘。
抛光布和抛光盘是用于显像管表面和封接面的抛光材料,但在工业上用的进口和国产抛光材料,均是聚酯纤维增强的聚氨酯发泡弹性体,体内不添加氧化铈抛光粉磨料。
现有抛光布或抛光盘在抛光过程中需用氧化铈磨料浆,氧化铈磨料浆通过抛光盘或抛光布表面的微孔网络结构吸收以起到抛磨作用,在抛磨动作中,为达到一定的抛磨效率要求抛光体中有一定的磨料率,还要求抛光体中有一定的水液进出量,使摩擦产生的热量能即时带走,以保证抛光体的机械性能,现有抛光体配合磨料浆在使用中存在以下缺陷1、一般抛磨运作中,料浆的浓度为7%左右,吸附平衡时间较长,限制了抛光速度,为了提高抛光体的氧化铈浓度,只有提高料浆的浓度,此时易造成抛光体打滑和水循环不足,影响抛光效率和质量。
2、有时因抛光体大孔分布不均,氧化铈较多集中于大孔穴中,使显像管受磨面不匀,影响产品质量。
3、抛光料浆在循环中由于氧化铈沉淀而堵塞管道造成停产。
4、氧化铈料浆在运作中卫生条件差。
5、氧化铈消耗量大,使抛光成本很高。
本实用新型的目的是提供一种无需氧化铈磨料浆、抛磨效率高、质量好的预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘。
本实用新型的目的按下述方案实现一种预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘,它包括聚酯纤维增强的聚氨酯发泡弹性体,发泡弹性体内填加均匀氧化铈粉粒。
本实用新型在运作中可以不断更新表面,保证足够、均匀的磨料率,可以不再使用磨料浆,而用水代替,基本上克服了原有产品的缺陷,提高了抛磨质量和效率。


图1是现有抛光体截面放大示意图;图2是本实用新型截面放大示意图;以下对照附图通过实施例对本实用新型的构造进行更详细的描述。
实施例原有抛光体的结构如
图1所示,弹性体内有弹性实体(2)和空穴(1),在抛光运作中,氧化铈粉浆被抛光体空穴吸附,起抛光作用。
本实用新型的结构如图2所示,本实用新型包括聚酯纤维增强的聚氨酯发泡弹性体,弹性体内填加有均匀分布的氧化铈粉粒(5)图中标出了空穴(3)和实体(4),氧化铈均匀分布于弹性体内。
权利要求1.一种预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘,它包括聚酯纤维增强的聚氨酯发泡弹性体,其特征在于上述聚氨酯发泡弹性体内填加有均匀分布的氧化铈粉粒。
专利摘要本实用新型涉及一种预加氧化铈聚酯抛光布和抛光盘。它包括聚酯纤维增强的聚氨酯发泡弹性体,其内添加有均匀分布的氧化铈粉粒。本实用新型基本克服了现有技术的缺陷,可提高抛光质量和效率。
文档编号B24B39/00GK2187999SQ94210639
公开日1995年1月25日 申请日期1994年5月7日 优先权日1994年5月7日
发明者和洪喜 申请人:和洪喜
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