一种超强韧碳基表面防护涂层及其制备方法

文档序号:9212936阅读:1252来源:国知局
一种超强韧碳基表面防护涂层及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种碳基涂层及其制备方法,属于表面防护技术及相关涂层材料技术领域。
【背景技术】
[0002]随着工业领域对节能减排、环境保护等方面的要求,以及不断提升的高精度、高可靠性和长寿命等方面的高标准要求,新一代节能、降耗、低碳型的汽车发动机、核电机械密封系统、压缩机无油润滑系统、纺织机械系统、精密模具、精密传动系统、轴承系统、机械制造等行业领域,无不体现出对新型强化与润滑一体化表面防护技术的迫切需求。
[0003]基涂层(如类金刚石涂层、非晶碳涂层、类石墨涂层)是一类定义广泛的无定形碳材料,主要由含金刚石相的SP3杂化键和SP 2键的石墨团簇的三维交叉网络结构形成,具有类似于金刚石的许多优异特性,如高硬度、低摩擦系数、高耐磨耐蚀性,宽透光范围,优异生物兼容性等,一直是低摩擦表面技术领域研宄的热点之一。然而,碳基涂层存在诸如①韧性低、脆性强以及热稳定性差;?高应力和膜基结合弱;③摩擦学行为受环境影响很大等问题,仍然是制约该类薄膜寿命和可靠性的关键瓶颈。如何在复杂多变的环境条件及特殊工况下发挥该类薄膜材料的优势,已成为急需解决的关键技术问题。

【发明内容】

[0004]本发明目的在于针对上述现有技术的不足提供一种低应力、高强韧性、摩擦稳定、膜基结合强,能应用于机械零部件、刀模具等产品表面的碳基防护涂层。
[0005]本发明另一个目的在于提供上述一种碳基防护涂层的制备方法。
[0006]本发明所采用的技术方案为:一种超强硬碳基表面防护涂层,该涂层由碳元素、碳化物形成金属元素、弱碳化物形成金属元素组成,涂层中,碳化物形成金属元素的原子百分比含量为5~20%、弱碳化物形成金属元素的原子百分比含量为5~20%,余量为碳元素;涂层中,碳元素以无定形碳形式存在,形成碳无定形网络,碳化物形成金属元素与碳结合形成碳化物纳米颗粒,其粒径大小为5~10nm,弱碳化物形成金属元素以金属态纳米颗粒存在,其粒径大小为5~10nm ;碳化物纳米颗粒和金属纳米颗粒镶嵌在碳无定形网络结构中,颗粒与颗粒之间由无定形碳分离,颗粒之间平均间距为10~20nm。
[0007]所述碳化物金属元素为钛或铬或钨。
[0008]所述弱碳化物形成元素为铜或钴或镍。
[0009]本发明的超强韧碳基涂层的制备,是采用离子束复合磁控溅射镀膜机进行,所述离子束复合磁控溅射镀膜机由一个真空室、两个磁控溅射源、一个离子源和能同时旋转的工件支架组成,工件支架安装在真空室内部,所述两个磁控溅射源均能装载不同的金属靶材,所述碳基涂层制备的具体步骤如下:
(O离子束刻蚀:将基体置于真空室的工件支架上,真空室抽真空,至真空度5.0X 10 3Pa以下,开启离子源,向离子源通入50~100sccm氩气,设置离子源功率0.6-0.8KW,设置工件支架偏压500~800V,工作时间为30分钟;
(2)沉积超强韧碳基涂层:同时开启离子源、两个磁控溅射源,两个磁控溅射源分别装载不同的、纯度大于99.99%的单质金属靶材;同时向真空室通入气态烃和氩气,控制真空室整体气压0.8~2Pa ;设置离子源功率为0.8-1KW,磁控溅射功率1~2KW ;同时将基体的偏压设置为100~300V,沉积时间为2~3小时;
(3)关闭电源,待真空室温度降至室温,打开真空室取出基体,在基体表面形成的涂层即为所述超强韧碳基涂层;
其中,步骤(2)所述单质金属靶材为:单质钛靶或单质铬靶或单质钨靶或单质铜靶或单质钴靶或单质镍靶;所述气态烃为乙炔或甲烷气体。
[0010]优选的所述步骤(2)中,两个磁控溅射源分别装载不同的、纯度大于99.99%的单质金属靶材的方式是:一个磁控溅射源装载纯度大于99.99%的单质钛靶或纯度大于99.99%的单质铬靶或纯度大于99.99%的单质钨靶,另一个磁控溅射源装载纯度大于99.99%的单质铜靶或纯度大于99.99%的单质钴靶或纯度大于99.99%的单质镍靶。
[0011]进一步优选的,所述气态烃与氩气的体积比例为1~4:9~6,即气态烃占通入真空室气体总体积的10%~40%。
[0012]本发明的碳基涂层的制备方法还包括如下预处理步骤:在离子束刻蚀步骤前,利用酒精超声波清洗基体,然后用去离子水漂洗,再用干燥压缩空气吹干。
[0013]本发明技术方案所述基体是指待镀膜的样品,即本发明的方法可适用但不限于如:金属机械零部件、精密模具、精密传动机械设备、轴承、电子产品、装饰产品及材料的表面防护。
[0014]现有技术相比,本发明的优点在于:在碳基涂层中同时引入碳化物金属元素和弱碳化物金属元素,在提高涂层硬度、降低应力的同时,增强涂层的柔韧性和附着力,改善涂层抗摩擦磨损性能和热稳定性能,使得涂层更适用于更苛刻的应用环境,如机械零部件、刀模具等产品表面的防护。
【附图说明】
[0015]图1为本发明涂层结构示意图,其中,五边形代表金属纳米颗粒1,六边形代表碳化物纳米颗粒2,其余部分为无定形碳结构区域3。
[0016]图2为本发明实施例1中所制备的碳基涂层纳米压痕试验图。
【具体实施方式】
[0017]以下结合附图和实施案例对本发明作进一步详细描述。
[0018]实施例1按下列步骤实现本发明:
1、复合镀膜机准备:本实施选择采用离子束复合磁控溅射镀膜机,包括一个真空室、两个磁控溅射源、一个离子源和同时能旋转的工件支架,工件支架安装在真空室内部;在两个磁控溅射源分别装载纯度为99.99%的钛靶和纯度为99.99%的铜靶;
2、样品(基体)预清洗处理:利用酒精超声波清洗待镀膜样品(基体),然后用去离子水漂洗,用干燥压缩空气吹干;
3、在真空室中利用离子束刻蚀清洗样品表面:将基体置于真空室的工件支架上,将真空室抽真空至5.0X 10_3Pa以下,开启离子源,向离子源通入10sccm氩气,设置离子源功率
0.6KW,设置工件支架偏压800V,工作时间为30分钟;
4、Cu和Ti金属掺杂超强韧碳基涂层制备:同时开启离子源、装备有单质钛靶的磁控溅射、装备有单质铜靶的磁控溅射,同时向真空室通入乙炔和氩气(乙炔与氩气的体积比例为1:9),乙炔占气体总体积的10%,控制整体气压IPa ;设置离子源功率为1KW,磁控溅射功率2KW ;将基体的偏压设置为300V,沉积时间为2小时;
5、关闭电源,待真空室温度降至室温,打开真空室取出基体,该基体表面形成超强韧碳基涂层。
[0019]所形成的涂层中,碳化物形成金属元素钛的原子百分比含量为20%、弱碳化物形成金属元素铜的原子百分比含量为20%,碳元素的原子百分比含量为60%;涂层中,碳元素以无定形碳形式存在,形成碳无定形网络,碳化物形成金属元素与碳结合形成碳化物纳米颗粒,其粒径大小为5~10nm,弱碳化物形成金属元素以金属态纳米颗粒存在,其粒径大小为5~10nm ;碳化物纳米颗粒和金属纳米颗粒镶嵌在碳无定形网络结构中,颗粒与颗粒之间由无定形碳分离,颗粒之间平均间距为10nm。
[0020]经过残余应力、划痕仪测试、纳米压痕测试(如图2所示),所制备的Ti和Cu掺杂碳基涂层的残余应力为0.3GPa,涂层附着性能优异,膜/基临界载荷达lOGPa,硬度为30GPa,同时涂层表现出优异的柔韧性,弹性回复能力达50%。
[0021]实施例2按下列步骤实现本发明:
1、复合镀膜机准备:本实施选择采用的离子束复合磁控溅射镀膜机,包括一个真空室、两个磁控溅射源、一个离子源和同时能旋转的工件支架,工件支架安装在真空室内部;在两个磁控溅射源分别装载纯度为99.99%的铬靶和纯度为99.99%的钴靶;
2、样品(基体)预清洗处理:利用酒精超声波清洗待镀膜样品(基体),然后用去离子水漂洗,用干燥压缩空气吹干;
3、在真空室中利用离子束刻蚀清洗样品表面:将基体置于真空室的工件支架上,将真空室抽真空至3.0X 10_3Pa,开启离子源,向离子源通入80sccm氩气,设置离子源功率
0.6KW,设置工件支架偏压700V,工作时间为30分钟;
4、铬和钴金属掺杂超强韧碳基涂层制备:同时开启离子源、装备有单质铬靶的磁控溅射、装备有单质钴靶的磁控溅射,同时向真空室通入甲烷和氩气(甲烷与氩气的体积比例为
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1