湿制程反应设备及其湿制程反应槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明有关于湿制程反应设备，尤指一种具有导流板的湿制程反应设备及其湿制程反应槽。
【背景技术】
[0002]现有太阳能薄膜制程中，大多会采用化学水浴沉积(Chemical Bath Deposit1n，CBD)方式在基材上形成一层硫化镉(CdS)。CBD制程是将基材浸置于化学药液中，使得化学药液与基材表面进行化学反应而形成硫化镉的沉积层。现有的CBD制程中存在药液成分混合不均匀而导致沉积不均的缺点。
【发明内容】
[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种具有导流板的湿制程反应设备及其湿制程反应槽。
[0004]为了解决上述技术问题，本发明提供了一种湿制程反应槽，用以供一药液与一基材进行化学制程，该湿制程反应槽包含:
一药液槽，该药液槽用于容置所述药液，该药液槽具有一开口、一药液入口以及一药液出口，该开口供所述基材置入该药液槽，该药液入口供所述药液流入该药液槽，该药液槽内的所述药液朝向该药液出口流动，该药液出口供所述药液流出该药液槽；
至少一导流板，凸设于该药液槽内且交会所述药液流经路径，该导流板凸出该药液槽底面的高度落差对于流经该导流板的所述药液产生扰动；以及
一限制板，设置于该药液槽内邻近该药液出口处，该限制板用于将流经该药液槽的部分所述药液拦阻留存于该药液槽内，且该限制板的顶缘位置限制该药液槽内的所述药液的液面位置。
[0005]进一步地，其中邻近该药液入口处设置有一喷嘴，该喷嘴用于将所述药液注入该药液槽。
[0006]进一步地，其中该药液槽内开设有一溢流孔，该溢流孔配置于邻近该药液入口处，且该溢流孔的位置相较该药液槽的底面高出一入口高度，当该药液槽内的所述药液的液面超出该溢流孔的位置时，该溢流孔供排除超出该溢流孔高度的所述药液。
[0007]进一步地，其中该药液槽内设置有一锥状入口流道，该锥状入口流道位于该药液入口处，该锥状入口流道用于将所述药液汇流入该药液槽。
[0008]进一步地，其中导流板为复数个，且该导流板包含至少一第一导流板以及至少一第二导流板，该第一导流板凸出该药液槽底面的高度大于该第二导流板凸出该药液槽底面的高度，该第一导流板与该第二导流板之间的凸出高度落差对于流经该导流板的所述药液产生扰动。
[0009]进一步地，其中该导流板的底端贯穿开设有至少一开孔，该开孔供所述药液通过该导流板的底端。
[0010]进一步地，其中该导流板具有一坡面，该坡面用于导引所述药液爬升跨越该导流板。
[0011]进一步地，其中该导流板的形状为圆弧、梯形或三角形。
[0012]进一步地，更包含相对应卡扣的一对卡扣结构，一对该卡扣结构分别设置于该药液槽底部以及该导流板底端，以将该导流板固定于该药液槽。
[0013]进一步地，其中该卡扣结构包含开设于该药液槽内的一卡合槽，该卡合槽供该导流板卡合固定。
[0014]进一步地，其中该卡扣结构包含设置于该导流板底端的--合部，该卡合部用于卡合该卡合槽。
[0015]本发明还提供一种湿制程反应设备，用以供一药液与一基材进行化学制程，该湿制程反应设备包含:
一药液槽，该药液槽用于容置所述药液，该药液槽具有一开口、一药液入口以及一药液出口，该开口供所述基材接触该药液槽内的药液，该药液入口与该药液出口供所述药液在该药液流入与流出；
至少一导流板，凸设于该药液槽内且交会所述药液流经路径；
一限制板，设置于该药液槽内邻近该药液出口处；以及
一放卷单元与一收卷单元，该放卷单元与该收卷单元用以卷动输送该基材。
[0016]进一步地，其中邻近该药液入口处设置有一喷嘴，该喷嘴用于将所述药液注入该药液槽。
[0017]进一步地，更包含一清洗机构，设置于该收卷单元及该药液出口之间，该清洗机构用于洗涤沾附于所述基材上的所述药液。
[0018]进一步地，更包含一烘干机构，设置于该清洗机构及该收卷单元之间，该烘干机构用于去除残留在所述基材上的液体。
[0019]本发明的湿制程反应设备及其湿制程反应槽能够通过导流板扰动药液槽内流动的药液而使药液混合均匀，并且使得湿制程的反应结果更加稳定。
【附图说明】
[0020]图1为本发明第一实施例的湿制程反应槽的立体示意图；
图2为本发明第一实施例的湿制程反应槽的立体分解示意图；
图3为本发明第一实施例的湿制程反应槽的剖视图；
图4为图3中导流板的放大示意图；
图5为本发明第一实施例中湿制程反应槽的导流板的另一样态示意图；
图6为本发明第一实施例中湿制程反应槽的导流板的又另一样态示意图；
图7为图4中第一导流板的放大示意图；
图8为图4中第二导流板的放大示意图；
图9为本发明第一实施例中湿制程反应槽的卡扣结构的示意图；
图10为本发明第二实施例的湿制程反应设备的示意图。
[0021]图中，10药液；
20基材；100药液槽；
101开口 ；
102药液入口 ；
103药液出口；
104溢流孔；
110喷嘴；
120锥状入口流道；
200导流板；
201坡面；
202开孔；
210第一导流板；
220第二导流板；
300限制板；
400卡扣结构；
410卡合槽；
420卡合部；
500放卷单元；
510放卷滚筒；
600收卷单元；
610收卷滚筒；
700清洗机构；
800烘干机构。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好的理解本发明并能予以实施，但所举实施例不作为对本发明的限定。
[0023]参阅图1至图3，本发明的第一实施例提供一种湿制程反应槽。此湿制程反应槽供一药液10与一基材20进行湿制程化学制程，但本发明不限定湿制程例的种类。于本实施例中，本发明的湿制程反应槽包含有一药液槽100、至少一导流板200以及一限制板300。
[0024]药液槽100用于容置药液10，于本实施例中，药液槽100较佳地呈长条状。药液槽100的顶面形成有一开口 101，药液槽100的二端则形成有一药液入口 102以及一药液出口103。开口 101供基材20置入药液槽100，药液入口 102用于供药液10流入药液槽100，药液出口 103则用于供药液10流出药液槽100。药液槽100平放配置且药液槽100的底面较佳地可以略为倾斜，药液入口 102的垂直位置高于药液出口 103的垂直位置，以此驱使药液槽100内的药液10自药液入口 102朝向药液出口 103流动。
[0025]邻近药液入口 102处的上方可以附加设置有一喷嘴110，喷嘴110较佳地可以连通至一药液供应源，并且通过喷嘴110将药液10注入药液入口 102。药液槽100内可以开设有一溢流孔104，且溢流孔104配置于邻近药液入口 102处。于本实施例中，溢流孔104所配置的位置相较于药液入口 102处的药液槽100底面高出一入口高度。当药液入口 102处的药液10液面超出溢流孔104的位置时，溢流孔104能够供排除超出溢流孔104高度的药液10。药液槽100内邻近药液入口 102处可以附加设置有一锥状入口流道120，锥状入口流道120的锥尖端朝向药液槽100内部配置，且锥状入口流道120的另一端则连通药液槽100入口。通过锥状入口流道120能够将被注入药液入口 102的药液10汇流入药液槽100内。
[0026]于本实施例中，导流板200较佳地为复数个，各导流板200皆为长条板体。各导流板200分别平放凸设于药液槽100内，且各导流板200的配置方向与药液10流经的路径相交会，导流板200凸出药液槽100底面的高度落差对于流经导流板200的药液10产生扰动。参阅图4至图6，导流板200的截面形状可以为圆弧、梯形或三角形，以此沿药液10流动方向在各导流板200的二侧分别形成一坡面201，坡面201用于导引药液10爬升跨越导流板200。
[0027]参阅图2至图4、图7及图8，复数个导流板200之中可以包含有至少