本发明涉及污水处理技术领域，更具体地说，特别涉及一种污水处理厂的氯酸钠生成装置。
背景技术：
氯酸钠naclo2是污水处理厂的重要的消毒剂，目前在naclo2生产上都是采用半自动化进行，需要人工辅助，导致效率低，并且伴随着危险发生。为此，有必要设计一种污水处理厂的氯酸钠生成装置。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种污水处理厂的氯酸钠生成装置，以克服现有技术中所存在的缺陷。
为了达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：
一种污水处理厂的氯酸钠生成装置，包括hcl储药槽、加氯系统和氯酸钠溶药槽，所述加氯系统包括盐酸储罐、cio2发生器、水射器和氯酸钠储罐，所述盐酸储罐与hcl储药槽连接，所述cio2发生器与盐酸储罐、水射器均连接，所述水射器还通过阀门与盐酸储罐连通，所述氯酸钠储罐与cio2发生器连通，所述氯酸钠溶药槽与氯酸钠储罐连通。
进一步地，还包括与cio2发生器连接的余氯测控仪。
进一步地，还包括与cio2发生器、余氯测控仪连接的控制系统。
进一步地，所述cio2发生器的数量为两个，两个cio2发生器相互并联。
与现有技术相比，本发明的优点在于：本发明能全自动生成氯酸钠，无需人工辅助，具有效率高且安全性能优良的优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明污水处理厂的氯酸钠生成装置的原理图。
附图标记说明：1、hcl储药槽，2、盐酸储罐，3、cio2发生器，4、水射器，5、余氯测控仪，6、氯酸钠溶药槽，7、控制系统，8、氯酸钠储罐。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的优选实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
参阅图1所示，本发明提供一种污水处理厂的氯酸钠生成装置，包括hcl储药槽1、加氯系统和氯酸钠溶药槽6，所述加氯系统包括盐酸储罐2、cio2发生器3、水射器4和氯酸钠储罐8，所述盐酸储罐2与hcl储药槽1连接，所述cio2发生器3与盐酸储罐2、水射器4均连接，所述水射器4还通过阀门与盐酸储罐2连通，所述氯酸钠储罐8与cio2发生器3连通，所述氯酸钠溶药槽6与氯酸钠储罐8连通。水射器4射出的是naoh溶液。
本发明的污水处理厂的氯酸钠生成装置在使用时，hcl储药槽1内的hcl进入盐酸储罐2内，反应如下：
2clo2十h2o＝clo2一十clo3－十2h十歧化反应的产物c102－会和过量的盐酸迅速反应:5clo2－十4hcl＝4clo2十5cl－十2h2o。
生成氯酸钠的反应式为：
2clo2+2naoh＝naclo2+naclo3+h2o
为了能事实监控余氯，避免造成泄漏，本发明还包括与cio2发生器3连接的余氯测控仪5。
为了能提高自动化效率，本发明还包括与cio2发生器3、余氯测控仪5连接的控制系统7，控制系统7可以采用plc控制器。
所述cio2发生器3的数量为两个，两个cio2发生器3相互并联，可以提高效率。
虽然结合附图描述了本发明的实施方式，但是专利所有者可以在所附权利要求的范围之内做出各种变形或修改，只要不超过本发明的权利要求所描述的保护范围，都应当在本发明的保护范围之内。